5-(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)-5H-dibenzo[b,d]thiophenium bromide

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 酚类
• 英文名称: 5-(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)-5H-dibenzo[b,d]thiophenium bromide
• 英文别名: 4-dibenzothiophen-5-ium-5-yl-2,6-dimethylphenol;bromide
• 化学式: Br*C₂₀H₁₇OS
• 分子量: 385.324
• InChiKey: FOVKJNKDUFBMKO-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.06
• 重原子数：
  23
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.1
• 拓扑面积：
  21.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  5-(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)-5H-dibenzo[b,d]thiophenium bromide 在 caesium carbonate 作用下， 以 二氯甲烷 、 水 、 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 反应 16.0h， 生成 5-(4-(2-(1-ethylcyclopentyloxy)-2-oxoethoxy)-3,5-dimethylphenyl)-5H-dibenzo[b,d]thiophenium 3-hydroxyadamantane-acetoxy-1,1,2,2-tetrafluorobutane-1-sulfonate
  参考文献：
  名称：

  ACID GENERATORS AND PHOTORESISTS COMPRISING SAME

  摘要：

  提供了一些作为光刻胶组分特别有用的酸发生剂化合物。首选的酸发生剂包括含有共价连接的酸敏感基团的环状硫铵化合物。

  公开号：

  US20160002199A1
• 作为产物：
  描述：

  二苯并噻吩5-氧化物 、 2,6-二甲基苯酚 在 Eaton′s Reagent 、 potassium bromide 作用下， 以 二氯甲烷 、 水 为溶剂， 反应 5.0h， 以35%的产率得到5-(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)-5H-dibenzo[b,d]thiophenium bromide
  参考文献：
  名称：

  ACID GENERATORS AND PHOTORESISTS COMPRISING SAME

  摘要：

  提供了一些作为光刻胶组分特别有用的酸发生剂化合物。首选的酸发生剂包括含有共价连接的酸敏感基团的环状硫铵化合物。

  公开号：

  US20160002199A1

文献信息

• Acid generators and photoresists comprising same
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US08945814B2

  公开（公告）日：2015-02-03

  Acid generator compounds are provided that are particularly useful as photoresist composition components. Preferred acid generators include cyclic sulfonium compounds that comprise a covalently linked acid-labile group.

  提供了一种特别适用于光刻胶组分的酸发生剂化合物。首选的酸发生剂包括含有共价连接的酸敏感基团的环状硫铵化合物。
• PHOTORESISTS COMPRISING MULTIPLE ACID GENERATOR COMPOUNDS
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US20140080062A1

  公开（公告）日：2014-03-20

  The present invention relates to new photoresist compositions that comprise (a) a polymer comprising an acid generator bonded thereto; and (b) an acid generator compound that is not bonded to the polymer and that comprises one or more acid-labile groups.

  本发明涉及一种新的光刻胶组合物，其包括（a）聚合物，其中与之结合的是酸发生剂；以及（b）未与聚合物结合且包含一个或多个酸敏感基团的酸发生剂化合物。
• ACID GENERATOR COMPOUNDS AND PHOTORESISTS COMPRISING SAME
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US20140080060A1

  公开（公告）日：2014-03-20

  Acid generator compounds are provided that are particularly useful as a photoresist composition component. In one preferred aspect, cyclic sulfonium salt and photoresist compositions that comprise such compounds are provided. In another preferred aspect, acid generator compounds are provided that comprise one or more covalently linked acid-labile moieties, particularly ester-containing acid-labile moieties.

  提供了一种酸生成化合物，特别适用于作为光阻组分。在一个首选方面，提供了环状硫鎓盐和包含这种化合物的光阻组合物。在另一个首选方面，提供了酸生成化合物，其中包含一个或多个共价连接的酸不稳定基团，特别是含酯基的酸不稳定基团。
• TW2022/27395
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——
• ACID GENERATORS AND PHOTORESISTS COMPRISING SAME
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials, LLC

  公开号：US20160002199A1

  公开（公告）日：2016-01-07

  Acid generator compounds are provided that are particularly useful as photoresist composition components. Preferred acid generators include cyclic sulfonium compounds that comprise a covalently linked acid-labile group.

  提供了一些作为光刻胶组分特别有用的酸发生剂化合物。首选的酸发生剂包括含有共价连接的酸敏感基团的环状硫铵化合物。