Triphenylsulfonium 2-(2-chloroacetoxy)-1,1-difluorosulfoethanesulfonate

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: Triphenylsulfonium 2-(2-chloroacetoxy)-1,1-difluorosulfoethanesulfonate
• 英文别名: 2-(2-Chloroacetyl)oxy-1,1-difluoro-2-sulfoethanesulfonate;triphenylsulfanium；2-(2-chloroacetyl)oxy-1,1-difluoro-2-sulfoethanesulfonate;triphenylsulfanium
• 化学式: C₄H₄ClF₂O₈S₂*C₁₈H₁₅S
• 分子量: 581.036
• InChiKey: IFETZIKFSJROTR-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.9
• 重原子数：
  36
• 可旋转键数：
  8
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.14
• 拓扑面积：
  156
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  10

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  2-hydroxy-1,1-difluoroethanesulfonic acid triphenylsulfonium 、 Ammonium hydroxide 、 4-甲基-2-戊酮 、 氯乙酰氯 在 吡啶 、 盐酸 作用下， 以 二氯甲烷 、 水 、 乙腈 为溶剂， 以67%的产率得到Triphenylsulfonium 2-(2-chloroacetoxy)-1,1-difluorosulfoethanesulfonate
  参考文献：
  名称：

  NOVEL PHOTOACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS

  摘要：

  光酸发生剂在高能辐射作用下生成式（1a）或（1b）的磺酸。R1—COOCH2CF2SO3−H+(1a)R1—O—COOCH2CF2SO3−H+(1b)R1是一种单价的C20-C50类固醇结构的烃基，可能含有杂原子。庞大的类固醇结构确保了对酸扩散的充分控制。光酸发生剂与树脂相容，并适用于化学增感抗蚀组合物的使用。

  公开号：

  US20090274978A1

文献信息

• US8114571B2
  申请人：——

  公开号：US8114571B2

  公开（公告）日：2012-02-14
• NOVEL PHOTOACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：OHASHI Masaki

  公开号：US20090274978A1

  公开（公告）日：2009-11-05

  Photoacid generators generate sulfonic acids of formula (1a) or (1b) upon exposure to high-energy radiation. R 1 —COOCH 2 CF 2 SO 3 − H + (1a) R 1 —O—COOCH 2 CF 2 SO 3 − H + (1b) R 1 is a monovalent C 20 -C 50 hydrocarbon group of steroid structure which may contain a heteroatom. The bulky steroid structure ensures adequate control of acid diffusion. The photoacid generators are compatible with resins and suited for use in chemically amplified resist compositions.

  光酸发生剂在高能辐射作用下生成式（1a）或（1b）的磺酸。R1—COOCH2CF2SO3−H+(1a)R1—O—COOCH2CF2SO3−H+(1b)R1是一种单价的C20-C50类固醇结构的烃基，可能含有杂原子。庞大的类固醇结构确保了对酸扩散的充分控制。光酸发生剂与树脂相容，并适用于化学增感抗蚀组合物的使用。