2-chloro-3-formylbenzoic acid | 1289106-07-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2-chloro-3-formylbenzoic acid
• 英文别名: 2-Chloro-3-formylbenzoic acid
• CAS: 1289106-07-5
• 化学式: C₈H₅ClO₃
• mdl: MFCD26855791
• 分子量: 184.579
• InChiKey: JXFUQVJNPIAUTP-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.5
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  54.4
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-chloro-3-formylbenzoic acid 在 三乙基硅烷 、 indium(III) chloride 、 1-羟基苯并三唑 、 盐酸-N-乙基-Nˊ-(3-二甲氨基丙基)碳二亚胺 、 N,N-二异丙基乙胺 作用下， 以 1,4-二氧六环 、 甲醇 为溶剂， 反应 16.0h， 生成 5-((2-chloro-3-(3-(dimethylamino)-1,2,4-oxadiazol-5-yl)benzyl)amino)-1H-indazole-3-carboxylic acid
  参考文献：
  名称：

  使用DNA编码的化学文库筛选发现新型的强效羟基氧化酶1（HAO1）抑制剂。

  摘要：

  抑制羟酸氧化酶1（HAO1）是减轻原发性高草酸尿症1（PH1）患者丙氨酸-乙醛酸氨基转移酶（AGXT）活性降低所致的有毒草酸积累的一种策略。DNA编码化学文库（DECL）筛选提供了两种新型的有效HAO1抑制剂化学系列，分别由化合物3 – 6表示。通过各种结构-活性关系（SAR）探索方法，将化合物5进一步优化为29，具有增强的功效和吸收，分布，代谢和排泄（ADME）/药代动力学（PK）特性的化合物。由于含羧酸的化合物通常渗透性差，并且具有潜在的活性葡糖醛酸苷代谢产物，因此我们进行了简短的酸替代物初步研究，目的是鉴定不含酸的HAO1抑制剂。由化合物5引发的基于结构的药物设计导致鉴定出HAO1 31的非酸抑制剂，其功效较弱且通透性增加。

  DOI：

  10.1021/acs.jmedchem.0c02271
• 作为产物：
  描述：

  2-氯-1,3-二甲苯 在 氧气 、 potassium bromide 作用下， 70.0~75.0 ℃ 、1.1 MPa 条件下， 生成 2-氯间苯二甲酸 、 2-chloro-3-formylbenzoic acid 、 2-氯-3-甲基苯甲醛 、 2-氯-3-甲基苯甲酸
  参考文献：
  名称：

  2-氯-3-甲基苯甲酸及其中间体的制备方法

  摘要：

  本发明公开了一种2‑氯‑3‑甲基苯甲酸及其中间体的制备方法。一种2‑氯‑3‑甲基苯甲酸及其中间体的制备方法，包含以下步骤，在氧气压力为0.1MPa～0.8MPa的条件下，催化剂和助催化剂的作用下，将2,6‑二甲基氯苯进行氧化反应，即可；其中，所述2,6‑二甲基氯苯与所述氧气的摩尔用量比为1:1.8～1:2.2。该2‑氯‑3‑甲基苯甲酸的制备方法，以工业上较易购得的原料进行反应，后处理简单、产率高、纯度好、对环境污染小，更适合工业化。

  公开号：

  CN108530297B

文献信息

• [EN] 1-(4-(ISOXAZOL-5-YL)-1H-PYRAZOL-1-YL)-2-METHYLPROPAN-2-OL DERIVATIVES AND RELATED COMPOUNDS AS IL-17 AND IFN-GAMMA INHIBITORS FOR TREATING AUTOIMMUNE DISEASES AND CHRONIC INFLAMMATION<br/>[FR] DÉRIVÉS DE 1-(4-(ISOXAZOL-5-YL)-1 H-PYRAZOL-1-YL)-2-MÉTHYLPROPAN-2-OL ET COMPOSÉS APPARENTÉS EN TANT QU'INHIBITEURS D'IL-17 ET D'IFN-GAMMA POUR LE TRAITEMENT DE MALADIES AUTO-IMMUNES ET D'UNE INFLAMMATION CHRONIQUE
  申请人：IMMUNIC AG

  公开号：WO2019048541A1

  公开（公告）日：2019-03-14

  The present invention relates to compounds of the general formula (I), and the pharmaceutically acceptable salts and solvates thereof, wherein Ar, Z and Y are as described herein and R1 is a group of the structure (formula (II)), wherein n is 0 or 1; R2 is H, deuterium or methyl; R3 is methyl, trilluoromethyl, ethyl, or taken with R2 together forms a cyclopropyl group, or R3 forms a methylene bridge to the carbon atom marked *, which are suitable for the treatment of autoimmune diseases and chronic inflammation.

  本发明涉及具有通用公式（I）的化合物，以及其中Ar、Z和Y如本文所述的药用可接受盐和溶剂化物，其中R1是具有结构（公式（II））的组，其中n为0或1；R2是H，氘或甲基；R3是甲基，三氟甲基，乙基，或者与R2共同形成一个环丙基组，或者R3形成一个甲基桥接到标记为*的碳原子上，这些化合物适合用于治疗自身免疫性疾病和慢性炎症。
• [EN] COMPOUNDS AND USES THEREOF<br/>[FR] COMPOSÉS ET LEURS UTILISATIONS
  申请人：X CHEM INC

  公开号：WO2021050688A1

  公开（公告）日：2021-03-18

  The present invention relates to compositions and methods for the treatment of HA01 -associated disorders, such as primary hyperoxaluria 1.

  本发明涉及用于治疗与HA01相关的疾病的组合物和方法，例如一型原发性高草酸尿。
• CYCLIC COMPOUND, PRODUCTION PROCESS THEREOF, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD
  申请人：Takasuka Masaaki

  公开号：US20120282546A1

  公开（公告）日：2012-11-08

  Disclosed are: a cyclic compound which has high solubility in a safe solvent, is highly sensitive, enables the formation of a resist pattern having a good shape, and rarely causes resist pattern collapse; a process for producing the cyclic compound; a radiation-sensitive composition containing the cyclic compound; and a resist pattern formation method using the composition. Specifically disclosed are: a cyclic compound having a specific structure; a process for producing the cyclic compound; a radiation-sensitive composition containing the compound; and a resist pattern formation method using the composition.

  本发明涉及一种具有高溶解度、高灵敏度、能够形成良好形状的抗蚀图案，且很少引起抗蚀图案崩塌的环状化合物；一种制备该环状化合物的方法；一种含有该环状化合物的辐射敏感组合物；以及使用该组合物的抗蚀图案形成方法。具体揭示了一种具有特定结构的环状化合物，制备该环状化合物的方法，含有该化合物的辐射敏感组合物以及使用该组合物的抗蚀图案形成方法。
• CYCLIC COMPOUND, PROCESS FOR PRODUCTION THEREOF, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：EP2505576B1

  公开（公告）日：2019-04-24
• 1-(4-(ISOXAZOL-5-YL)-1H-PYRAZOL-1-YL)-2-METHYLPROPAN-2-OL DERIVATIVES AND RELATED COMPOUNDS AS IL-17 AND IFN-GAMMA INHIBITORS FOR TREATING AUTOIMMUNE DISEASES AND CHRONIC INFLAMMATION
  申请人：Immunic AG

  公开号：EP3679034A1

  公开（公告）日：2020-07-15