dimethyl 10,13-dipropyl-10,13-dihydro-10,13-ethenobenzo[f]tetraphene-11,12-dicarboxylate

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 二氮杂萘
• 英文名称: dimethyl 10,13-dipropyl-10,13-dihydro-10,13-ethenobenzo[f]tetraphene-11,12-dicarboxylate
• 英文别名: dimethyl (1S,20R)-1,20-dipropyl-3,18-diazahexacyclo[18.2.2.02,19.04,17.05,10.011,16]tetracosa-2,4(17),5,7,9,11,13,15,18,21,23-undecaene-21,22-dicarboxylate
• 化学式: C₃₂H₃₀N₂O₄
• 分子量: 506.601
• InChiKey: WPVFMIZHBFWSDG-MEKGRNQZSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6.1
• 重原子数：
  38
• 可旋转键数：
  8
• 环数：
  7.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.31
• 拓扑面积：
  78.4
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  6

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  dimethyl 10,13-dipropyl-10,13-dihydro-10,13-ethenobenzo[f]tetraphene-11,12-dicarboxylate 以 苯 为溶剂， 反应 6.0h， 以21 mg的产率得到dimethyl 9b,11a-dipropyl-9b,9c,9d,11a-tetrahydrodibenzo[f,h]cyclopropa[3,4]pentaleno[1,2-b]quinoxaline-10,11-dicarboxylate
  参考文献：
  名称：

  取代基对吡唑基-，喹喔啉-和苯并喹喔啉-barrelenes光化学重排的桥接模式的影响

  摘要：

  描述了在各种条件下包含极性和非极性基团的对称取代的吡嗪并戊四烯烯4，喹喔啉并戊烯5和苯并喹喔啉并戊烯6和7的化学选择性光重排。在直接和致敏照射条件，barrelenes 4 - 7得到类似桥接模式和光化产物分布表明在激发后photoreactants的多重一个相似。吡嗪并戊四烯4a的辐照提供了几乎等量的DPM（乙烯基-乙烯基桥联）和ADPM（芳基-乙烯基桥联）途径衍生的光产物。吡嗪基桶烯4b –d通过ADPM途径进行了化学选择性重排。对于喹喔啉基戊烯基烯5a - c和苯并喹喔啉基戊烯基烯6b，c，乙烯基-乙烯基桥联是非常有利的。苯并喹喔啉戊烯6a对光化学反应不敏感。杂芳基-乙烯基键是苯并喹喔啉和7b而7b的首选主要相互作用赞成通过乙烯基-乙烯基桥接的DPM路线。标题化合物的光化学行为是通过扰动三重态的能量最小化和极性和非极性取代基的双自由基稳定性来解释的。还描述了光化学反应的合理机理。

  DOI：

  10.1016/j.tet.2008.06.054
• 作为产物：
  描述：

  、 9,10-二氨基菲 在 对甲苯磺酸 作用下， 以 乙腈 为溶剂， 反应 17.0h， 以97%的产率得到dimethyl 10,13-dipropyl-10,13-dihydro-10,13-ethenobenzo[f]tetraphene-11,12-dicarboxylate
  参考文献：
  名称：

  取代基对吡唑基-，喹喔啉-和苯并喹喔啉-barrelenes光化学重排的桥接模式的影响

  摘要：

  描述了在各种条件下包含极性和非极性基团的对称取代的吡嗪并戊四烯烯4，喹喔啉并戊烯5和苯并喹喔啉并戊烯6和7的化学选择性光重排。在直接和致敏照射条件，barrelenes 4 - 7得到类似桥接模式和光化产物分布表明在激发后photoreactants的多重一个相似。吡嗪并戊四烯4a的辐照提供了几乎等量的DPM（乙烯基-乙烯基桥联）和ADPM（芳基-乙烯基桥联）途径衍生的光产物。吡嗪基桶烯4b –d通过ADPM途径进行了化学选择性重排。对于喹喔啉基戊烯基烯5a - c和苯并喹喔啉基戊烯基烯6b，c，乙烯基-乙烯基桥联是非常有利的。苯并喹喔啉戊烯6a对光化学反应不敏感。杂芳基-乙烯基键是苯并喹喔啉和7b而7b的首选主要相互作用赞成通过乙烯基-乙烯基桥接的DPM路线。标题化合物的光化学行为是通过扰动三重态的能量最小化和极性和非极性取代基的双自由基稳定性来解释的。还描述了光化学反应的合理机理。

  DOI：

  10.1016/j.tet.2008.06.054

文献信息

• Substituent effects on the bridging modes of photochemical rearrangements of pyrazino-, quinoxalino-, and benzoquinoxalinobarrelenes
  作者：Ann-Cheng Chen、Sheng-Yunn Lin、Nelson R. Villarante、Gary J. Chuang、Te-Chun Wu、Chun-Chen Liao

  DOI：10.1016/j.tet.2008.06.054

  日期：2008.9

  multiplicities of photoreactants upon excitation. Irradiation of pyrazinobarrelene 4a furnished almost equal amounts of photoproducts derived from DPM (vinyl–vinyl bridging) and ADPM (aryl–vinyl bridging) pathways. Pyrazinobarrelenes 4b–d underwent chemoselective rearrangements via the ADPM route. In the case of quinoxalinobarrelenes 5a–c and benzoquinoxalinobarrelenes 6b,c, vinyl–vinyl bridging was strongly

  描述了在各种条件下包含极性和非极性基团的对称取代的吡嗪并戊四烯烯4，喹喔啉并戊烯5和苯并喹喔啉并戊烯6和7的化学选择性光重排。在直接和致敏照射条件，barrelenes 4 - 7得到类似桥接模式和光化产物分布表明在激发后photoreactants的多重一个相似。吡嗪并戊四烯4a的辐照提供了几乎等量的DPM（乙烯基-乙烯基桥联）和ADPM（芳基-乙烯基桥联）途径衍生的光产物。吡嗪基桶烯4b –d通过ADPM途径进行了化学选择性重排。对于喹喔啉基戊烯基烯5a - c和苯并喹喔啉基戊烯基烯6b，c，乙烯基-乙烯基桥联是非常有利的。苯并喹喔啉戊烯6a对光化学反应不敏感。杂芳基-乙烯基键是苯并喹喔啉和7b而7b的首选主要相互作用赞成通过乙烯基-乙烯基桥接的DPM路线。标题化合物的光化学行为是通过扰动三重态的能量最小化和极性和非极性取代基的双自由基稳定性来解释的。还描述了光化学反应的合理机理。