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愈创木酚磺酸钾半水合物 | 7134-11-4

中文名称
愈创木酚磺酸钾半水合物
中文别名
愈创木酚磺酸钾盐半水合物;半愈创木酚磺酸钾;4-羟基-3-甲氧基苯磺酸钾盐
英文名称
1-Hydroxy-2-methoxy-benzol-4-sulfonsaeure
英文别名
Guajakol-4-sulfonsaeure;4-hydroxy-3-methoxy-benzenesulfonic acid;4-Hydroxy-3-methoxy-benzolsulfonsaeure;guaiacol-4-sulfonic acid;4-Hydroxy-3-methoxybenzenesulfonic acid
愈创木酚磺酸钾半水合物化学式
CAS
7134-11-4
化学式
C7H8O5S
mdl
——
分子量
204.204
InChiKey
QDRCGSIKAHSALR-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 稳定性/保质期:
    遵照规格使用和储存,则不会分解。

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    -0.4
  • 重原子数:
    13
  • 可旋转键数:
    2
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.14
  • 拓扑面积:
    92.2
  • 氢给体数:
    2
  • 氢受体数:
    5

安全信息

  • 安全说明:
    S22,S24/25
  • 储存条件:
    请将密封于阴凉干燥处。

SDS

SDS:7971e305536d2d89c9d3a5a46e017f48
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愈创木酚磺酸钾半水合物

模块 1. 化学品
产品名称: Potassium Guaiacolsulfonate Hemihydrate

模块 2. 危险性概述
GHS分类
物理性危害 未分类
健康危害 未分类
环境危害 未分类
GHS标签元素
图标或危害标志 无
信号词 无信号词
危险描述 无
防范说明 无

模块 3. 成分/组成信息
单一物质/混和物 单一物质
化学名(中文名): 愈创木酚磺酸钾半水合物
百分比: >98.0%(HPLC)(T)
CAS编码: 7134-11-4
俗名: Guaiacolsulfonic Acid Potassium Salt Hemihydrate , 4-Hydroxy-3-
methoxybenzenesulfonic Acid Potassium Salt Hemihydrate , Potassium 4-
Hydroxy-3-methoxybenzenesulfonate Hemihydrate
分子式:
C7H7KO5S·½H2O

模块 4. 急救措施
吸入: 将受害者移到新鲜空气处,保持呼吸通畅,休息。若感不适请求医/就诊。
皮肤接触: 立即去除/脱掉所有被污染的衣物。用水清洗皮肤/淋浴。
若皮肤刺激或发生皮疹:求医/就诊。
眼睛接触: 用水小心清洗几分钟。如果方便,易操作,摘除隐形眼镜。继续清洗。
如果眼睛刺激:求医/就诊。
食入: 若感不适,求医/就诊。漱口。
紧急救助者的防护: 救援者需要穿戴个人防护用品,比如橡胶手套和气密性护目镜。
愈创木酚磺酸钾半水合物

模块 5. 消防措施
合适的灭火剂: 干粉,泡沫,雾状水,二氧化碳
特殊危险性: 小心,燃烧或高温下可能分解产生毒烟。
特定方法: 从上风处灭火,根据周围环境选择合适的灭火方法。
非相关人员应该撤离至安全地方。
周围一旦着火:如果安全,移去可移动容器。
消防员的特殊防护用具: 灭火时,一定要穿戴个人防护用品。

模块 6. 泄漏应急处理
个人防护措施,防护用具, 使用个人防护用品。远离溢出物/泄露处并处在上风处。
紧急措施: 泄露区应该用安全带等圈起来,控制非相关人员进入。
环保措施: 防止进入下水道。
控制和清洗的方法和材料: 清扫收集粉尘,封入密闭容器。注意切勿分散。附着物或收集物应该立即根据合适的
法律法规处置。

模块 7. 操作处置与储存
处理
技术措施: 在通风良好处进行处理。穿戴合适的防护用具。防止粉尘扩散。处理后彻底清洗双手
和脸。
注意事项: 如果粉尘或浮质产生,使用局部排气。
操作处置注意事项: 避免接触皮肤、眼睛和衣物。
贮存
储存条件: 保持容器密闭。存放于凉爽、阴暗处。
远离不相容的材料比如氧化剂存放。
包装材料: 依据法律。

模块 8. 接触控制和个体防护
工程控制: 尽可能安装封闭体系或局部排风系统,操作人员切勿直接接触。同时安装淋浴器和洗
眼器。
个人防护用品
呼吸系统防护: 防尘面具。依据当地和政府法规。
手部防护: 防护手套。
眼睛防护: 安全防护镜。如果情况需要,佩戴面具。
皮肤和身体防护: 防护服。如果情况需要,穿戴防护靴。

模块 9. 理化特性
固体
外形(20°C):
外观: 晶体-粉末
颜色: 白色类白色
气味: 无资料
pH: 无数据资料
熔点: 无资料
沸点/沸程 无资料
闪点: 无资料
爆炸特性
爆炸下限: 无资料
爆炸上限: 无资料
密度: 无资料
溶解度:
[水] 无资料
愈创木酚磺酸钾半水合物

模块 9. 理化特性
[其他溶剂] 无资料

模块 10. 稳定性和反应性
化学稳定性: 一般情况下稳定。
危险反应的可能性: 未报道特殊反应性。
须避免接触的物质 氧化剂
危险的分解产物: 一氧化碳, 二氧化碳, 硫氧化物

模块 11. 毒理学信息
急性毒性: 无资料
对皮肤腐蚀或刺激: 无资料
对眼睛严重损害或刺激: 无资料
生殖细胞变异原性: 无资料
致癌性:
IARC = 无资料
NTP = 无资料
生殖毒性: 无资料

模块 12. 生态学信息
生态毒性:
鱼类: 无资料
甲壳类: 无资料
藻类: 无资料
残留性 / 降解性: 无资料
潜在生物累积 (BCF): 无资料
土壤中移动性
log水分配系数: 无资料
土壤吸收系数 (Koc): 无资料
亨利定律 无资料
constant(PaM3/mol):

模块 13. 废弃处置
如果可能,回收处理。请咨询当地管理部门。建议在可燃溶剂中溶解混合,在装有后燃和洗涤装置的化学焚烧炉中
焚烧。废弃处置时请遵守国家、地区和当地的所有法规。

模块 14. 运输信息
联合国分类: 与联合国分类标准不一致
UN编号: 未列明

模块 15. 法规信息
《危险化学品安全管理条例》(2002年1月26日国务院发布,2011年2月16日修订): 针对危险化学品的安全使用、
生产、储存、运输、装卸等方面均作了相应的规定。
愈创木酚磺酸钾半水合物


模块16 - 其他信息
N/A

上下游信息

  • 下游产品
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    参考文献:
    名称:
    Paul, Chemische Berichte, 1906, vol. 39, p. 4094
    摘要:
    DOI:
  • 作为产物:
    描述:
    4-Hydroxy-3-methoxy-benzenesulfonic acid 2,4-dinitro-phenyl ester 在 作用下, 生成 2,4-二硝基酚愈创木酚磺酸钾半水合物
    参考文献:
    名称:
    2',4'-二硝基苯基4-羟基-X-苯磺酸盐解离水解中的结构反应性相关性。
    摘要:
    几种标题酯在60°C的水中的水解反应遵循速率定律k(obs)=(k(a)+ k(b)[OH(-)])/(1 + a(H)/ K( a)),其中K(a)是酯的羟基的电离常数,k(b)是氢氧根离子对离子化酯的S(N)2(S)攻击的二级速率常数。Hammett和Brønsted相关性与先前的建议一致,即与k(a)有关的机制是分离的。发现k(a)值与取代醌的氧化还原平衡常数之间存在异常关系:这一发现进一步支持了与k(a)有关的途径的解离性质。
    DOI:
    10.1021/jo961024k
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文献信息

  • Sulfonation and sulfation on reaction of 1,2-dihydroxybenzene and its methyl ethers in concentrated aqueous sulfuric acid
    作者:Hans Cerfontain、Norbert J. Coenjaarts、Ankie Koeberg-Telder
    DOI:10.1002/recl.19881070405
    日期:——
    The homogeneous sulfonation of 1,2-dihydroxybenzene (1), its monomethyl (2) and dimethyl ether (3) in concentrated aqueous sulfuric acid at 25°C has been studied and isomer distributions, as well as rate coefficients for the sulfonation of 1–3 and their monosulfonic acids, have been determined. In 73.5-87.5% H2SO4, 1 yields the 3- and 4-sulfonic acids in a ratio of 25:75, 2 yields the 4-, 5- and 6-sulfonic
    研究了1,2-二羟基苯(1),其单甲基(2)和二甲醚(3)在浓硫酸中在25°C下的均相磺化反应,并研究了异构体分布以及磺化1的速率系数已测定–3及其一磺酸。在73.5-87.5%H 2 SO 4中,1生成比例为25:75的3-和4-磺酸,2生成比例为46:36:18的4-,5-和6-磺酸。在73.5%的H 2 SO 4和87.5%50:39:11ħ 2 SO 4,而3仅产生4-磺酸。根据反应物的构象异构体讨论了2-甲氧基底物2和3中3-磺酸(<2%)的显着缺乏。在硫酸> 87.5%H 2 SO 4,对-4-磺酸1和的5-磺酸2是存在于在其硫酸氢盐形式的一部分。在该酸性区域,的3-和4-锍酸1既得到3,5-二磺酸,的4-和6-磺酸2都得到-4,6-二磺酸和4-磺酸的3主要产生具有一些4,5-二磺酸的4,6-在一起。
  • 안료 유도체, 안료 분산체, 착색 수지 조성물 및 컬러필터
    申请人:LG Display Co.,Ltd. 엘지디스플레이 주식회사(119981018655) Corp. No ▼ 110111-0393134
    公开号:KR20180014400A
    公开(公告)日:2018-02-08
    본 발명은 안료 유도체, 안료와 안료 유도체를 포함하는 안료 분산체, 안료 분산체를 포함하는 착색 수지 조성물과 착색 수지 조성물을 사용하여 제조되는 컬러필터에 관한 것이다. 본 발명에 따른 안료 유도체는 안료 분산체 또는 착색 수지 조성물 내에서 안료의 결정 성장 내지 응집을 줄이는 것이 가능할 뿐만 아니라 용제 내 안료의 분산성 및 분산 안정성을 향상시킬 수 있다. 이에 따라, 안료 분산체 및 착색 수지 조성물 내 안료의 결정 크기가 커짐에 따라 발생하는 광 산란을 줄여 콘트라스트비와 같은 색 특성이 향상된 착색층을 포함하는 컬러필터를 형성하는 것이 가능하다.
    该专利涉及一种颜色滤光片的制备,其中包括染料导向体、含有染料和染料导向体的染料分散体、含有染料分散体的着色树脂组合物以及使用着色树脂组合物制备的颜色滤光片。根据本发明,染料导向体能够减少染料在染料分散体或着色树脂组合物中的晶体生长或聚集,同时提高溶剂中染料的分散性和分散稳定性。因此,可以形成包含色彩特性如对比度等的改善的着色层的颜色滤光片,从而减少由于染料分散体和着色树脂组合物中染料晶体尺寸增大而产生的光散射。
  • Process for preparing acrylate compound
    申请人:TOSOH CORPORATION
    公开号:US20030139613A1
    公开(公告)日:2003-07-24
    An acrylate compound of formula (4): 1 is produced by allowing an acrylic acid compound of formula (1): 2 to react with an unsaturated compound of formula (2) or (3): 3 In formulae (1) through (4), R 1 and R 2 are H or F, R 3 is H, F, or an alkyl, alkenyl, fluoroalkyl or fluoroalkenyl group, R 4 and R 5 are H, halogen, or an alkyl, alkenyl, halogenated alkyl or halogenated alkenyl group; and X and Y are an unsubstituted or substituted hydrocarbon group, and dashed line - - - - - means that X and Y may be bonded together to form a cyclic structure.
    通过让化学式(1):2的丙烯酸化合物与化学式(2)或(3):3的不饱和化合物发生反应,可以制备出化学式(4):1的丙烯酸酯化合物。在化学式(1)到(4)中,R1和R2为H或F,R3为H、F或烷基、烯基、氟烷基或氟烯基基团,R4和R5为H、卤素或烷基、烯基、卤代烷基或卤代烯基基团;X和Y为未取代或取代的碳氢基团,虚线- - - - - 表示X和Y可以连接在一起形成环状结构。
  • Novel onium salts, photoacid generators, resist compositions, and patterning process
    申请人:Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
    公开号:US20020077493A1
    公开(公告)日:2002-06-20
    Onium salts of arylsulfonyloxybenzenesulfonate anions with iodonium or sulfonium cations are novel. A chemically amplified resist composition comprising the onium salt as a photoacid generator is suited for microfabrication, especially by deep UV lithography because of many advantages including improved resolution, improved focal latitude, minimized line width variation or shape degradation even on long-term PED, minimized debris after coating, development and peeling, and improved pattern profile after development.
    芳基磺酸氧苯磺酸盐的离子与碘化铵或亚砜铵阳离子的醇盐是新颖的。包含这种醇盐作为光酸发生剂的化学增强型光阻组合物适用于微细加工,特别是深紫外光刻,因为具有许多优点,包括改善分辨率,改善焦点纬度,即使在长期PED时也最小化线宽变化或形状退化,涂层、开发和剥离后最小化碎屑,以及开发后改善图案轮廓。
  • Photoacid generators, chemically amplified resist compositions, and patterning process
    申请人:——
    公开号:US20030215738A1
    公开(公告)日:2003-11-20
    Photoacid generators are provided by O-arylsulfonyl-oxime compounds having formula (1) wherein R is H, F, Cl, NO 2 , alkyl or alkoxy, n is 0 or 1, m is 1 or 2, r is 0 to 4, r′ is 0 to 5, k is 0 to 4, and G′ and G″ are S or —CH═CH—. Chemically amplified resist compositions comprising the photoacid generators have many advantages including improved resolution, improved focus latitude, minimized line width variation or shape degradation even on long-term PED, and improved pattern profile after development. Because of high resolution, the compositions are suited for microfabrication, especially by deep UV lithography. 1
    提供光酸发生剂的是具有公式(1)的O-芳基磺酰基肟化合物,其中R为H,F,Cl,NO2,烷基或烷氧基,n为0或1,m为1或2,r为0至4,r'为0至5,k为0至4,G'和G"为S或—CH═CH—。包含光酸发生剂的化学增强型抗蚀剂组合物具有许多优点,包括改善分辨率、改善焦点宽度、即使在长期PED上也最小化线宽变化或形状退化,并且在显影后改善图案轮廓。由于具有高分辨率,这些组合物适用于微细制造,特别是通过深紫外光刻。
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