1-N,2-N-二羟基苯-1,2-二甲酰胺 | 30669-69-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: 1-N,2-N-二羟基苯-1,2-二甲酰胺
• 英文名称: o-(N-hydroxycarbamoyl)benzohydroxamic acid
• 英文别名: phthaloyl hydroxamic acid；o-Phthaloyldihydroxamsaeure；Phthalo-hydroxamsaeure；1,2-Benzenedicarboxamide, N,N'-dihydroxy-；1-N,2-N-dihydroxybenzene-1,2-dicarboxamide
• CAS: 30669-69-3
• 化学式: C₈H₈N₂O₄
• 分子量: 196.163
• InChiKey: XHRPQKYDCPITJN-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 密度：
  1.484±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.7
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  98.7
• 氢给体数：
  4
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-N,2-N-二羟基苯-1,2-二甲酰胺 在 potassium carbonate 作用下， 以 二甲基亚砜 为溶剂， 以98%的产率得到邻苯二胺
  参考文献：
  名称：

  若干（杂）芳多胺的制备方法

  摘要：

  本发明涉及有机功能新材料化学品领域，首次披露了若干(杂)芳多胺的经由其相应(杂)芳香多官能异羟肟酸(hydroxamic acid)前体重排法(re‑arrangement)制备的新工艺技术。这些(杂)芳多胺是已知的染料和颜料以及医药农药相关领域里用途极为广泛的关键精细化学品材料。

  公开号：

  CN113387812A
• 作为产物：
  描述：

  苯酐 在 硫酸 、 盐酸羟胺 、 sodium hydroxide 作用下， 以 乙醇 、 乙酸乙酯 、 水 为溶剂， 反应 6.0h， 以92%的产率得到1-N,2-N-二羟基苯-1,2-二甲酰胺
  参考文献：
  名称：

  若干（杂）芳多胺的制备方法

  摘要：

  本发明涉及有机功能新材料化学品领域，首次披露了若干(杂)芳多胺的经由其相应(杂)芳香多官能异羟肟酸(hydroxamic acid)前体重排法(re‑arrangement)制备的新工艺技术。这些(杂)芳多胺是已知的染料和颜料以及医药农药相关领域里用途极为广泛的关键精细化学品材料。

  公开号：

  CN113387812A

文献信息

• [EN] PRODUCTION OF CYCLIC IMIDES SUITABLE FOR OXIDATION CATALYSIS<br/>[FR] PRODUCTION D'IMIDES CYCLIQUES APPROPRIÉS POUR LA CATALYSE D'OXYDATION
  申请人：EXXONMOBIL CHEMICAL PATENTS INC

  公开号：WO2017204935A1

  公开（公告）日：2017-11-30

  Disclosed are novel processes for the production of cyclic imide compounds such as N-hydroxyphthalimide (NHPI). The processes may be particularly well-suited for commercial-scale production of cyclic imides such as NHPI. Such cyclic imide compounds are suitable for use as oxidation catalysts, and specifically may be used to oxidize cyclohexylbenzene to cyclohexyl-1-phenyl-1-hydroperoxide. Such an oxidation may be particularly useful in a process for the production of phenol and/or cyclohexanone from benzene via a process comprising hydroalkylation of benzene to cyclohexylbenzene, oxidation of the cyclohexylbenzene to cyclohexyl-1-phenyl-1-hydroperoxide, and cleavage of the cyclohexyl-1-phenyl-1-hydroperoxide to phenol and cyclohexanone. The cyclic imide production process may advantageously include water washing and reactant recovery steps to maximize purity and yield.

  本发明涉及生产环酰亚胺化合物，如N-羟基邻苯二甲酰亚胺（NHPI）的新工艺。该工艺特别适用于商业规模的环酰亚胺化合物，如NHPI的生产。这些环酰亚胺化合物适用于用作氧化催化剂，特别是可用于氧化环己基苯至环己基-1-苯基-1-过氧化氢。这种氧化在从苯生产苯酚和/或环己酮的过程中可能特别有用，该过程包括对苯进行烷基化以得到环己基苯，将环己基苯氧化为环己基-1-苯基-1-过氧化氢，然后将环己基-1-苯基-1-过氧化氢裂解为苯酚和环己酮。环酰亚胺生产过程可能有利地包括水洗和反应物回收步骤，以最大程度地提高纯度和产量。
• Cleaning composition, cleaning process, and process for producing semiconductor device
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：EP2305788A1

  公开（公告）日：2011-04-06

  A cleaning composition for removing plasma etching residue and/or ashing residue formed above a semiconductor substrate is provided that includes (component a) water, (component b) a hydroxylamine and/or a salt thereof, (component c) a basic organic compound, and (component d) an organic acid and has a pH of 7 to 9. There are also provided a cleaning process and a process for producing semiconductor device employing the cleaning composition.

  本发明提供了一种用于清除等离子体蚀刻残留物和/或在半导体基板上形成的灰化残留物的清洁组合物，该组合物包括（a 组分）水、（b 组分）羟胺和/或其盐、（c 组分）碱性有机化合物和（d 组分）有机酸，其 pH 值为 7 至 9。此外，还提供了一种清洗工艺和一种使用该清洗组合物生产半导体器件的工艺。
• Cleaning composition, method for producing semiconductor device, and cleaning method
  申请人：Fujifilm Corporation

  公开号：EP2386623A1

  公开（公告）日：2011-11-16

  Provided are a cleaning composition which is capable of inhibiting the metal of a semiconductor substrate from corrosion, and has an excellent removability of plasma etching residues and/or ashing residues on the semiconductor substrate, a method for producing a semiconductor device, and a cleaning method using the cleaning composition. The cleaning composition for removing plasma etching residues and/or ashing residues formed on a semiconductor substrate, and a preparation method and a cleaning method for a semiconductor device, using the cleaning composition, wherein the cleaning composition includes (Component a) water; (Component b) an amine compound; (Component c) hydroxylamine and/or a salt thereof; (Component d) a quaternary ammonium compound; (Component e) an organic acid; and (Component f) a water-soluble organic solvent; and has a pH of 6 to 9.

  本发明提供了一种能够抑制半导体衬底的金属腐蚀，并且对半导体衬底上的等离子体蚀刻残渣和/或灰化残渣具有极佳去除性的清洗组合物、一种半导体器件的制备方法以及一种使用该清洗组合物的清洗方法。用于去除半导体衬底上形成的等离子体蚀刻残留物和/或灰化残留物的清洗组合物，以及使用该清洗组合物的半导体器件的制备方法和清洗方法，其中清洗组合物包括（成分a）水；（成分b）胺化合物；（成分c）羟胺和/或其盐；（成分d）季铵化合物；（成分e）有机酸；以及（成分f）水溶性有机溶剂；并且pH值为6至9。
• SOLUTION AND METHOD FOR REMOVAL OF GROUP III-V ELEMENT OXIDE, SOLUTION FOR TREATMENT OF GROUP III-V ELEMENT COMPOUND, SOLUTION FOR PREVENTING OXIDATION OF GROUP III-V ELEMENT, SOLUTION FOR TREATMENT OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE, AND METHOD FOR PRODUCTION OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE PRODUCT
  申请人：Fujifilm Corporation

  公开号：EP3258485A1

  公开（公告）日：2017-12-20

  Provided are a removal liquid for removing an oxide of a Group III-V element, an oxidation prevention liquid for preventing the oxidation of an oxide of a Group III-V element or a treatment liquid for treating an oxide of a Group III-V element, each liquid including an acid and a mercapto compound; and a method using each of the same liquids. Further provided are a treatment liquid for treating a semiconductor substrate, including an acid and a mercapto compound, and a method for producing a semiconductor substrate product using the same.

  本发明提供了一种用于去除 III-V 族元素氧化物的去除液、一种用于防止 III-V 族元素氧化物氧化的防氧化液或一种用于处理 III-V 族元素氧化物的处理液，每种液体都包括一种酸和一种巯基化合物；以及一种使用上述每种液体的方法。此外，还提供了一种用于处理半导体衬底的处理液，包括一种酸和一种巯基化合物，以及一种使用该处理液生产半导体衬底产品的方法。
• Production of cyclic imides suitable for oxidation catalysis
  申请人：ExxonMobil Chemical Patents Inc.

  公开号：US11014883B2

  公开（公告）日：2021-05-25

  Disclosed are novel processes for the production of cyclic imide compounds such as N-hydroxyphthalimide (NHPI). The processes may be particularly well-suited for commercial-scale production of cyclic imides such as NHPI. Such cyclic imide compounds are suitable for use as oxidation catalysts, and specifically may be used to oxidize cyclohexylbenzene to cyclohexyl-1-phenyl-1-hydroperoxide. Such an oxidation may be particularly useful in a process for the production of phenol and/or cyclohexanone from benzene via a process comprising hydroalkylation of benzene to cyclohexylbenzene, oxidation of the cyclohexylbenzene to cyclohexyl-1-phenyl-1-hydroperoxide, and cleavage of the cyclohexyl-1-phenyl-1-hydroperoxide to phenol and cyclohexanone. The cyclic imide production process may advantageously include water washing and reactant recovery steps to maximize purity and yield.

  本发明公开了生产 N-羟基邻苯二甲酰亚胺（NHPI）等环状亚胺化合物的新工艺。这些工艺尤其适用于 NHPI 等环状亚胺的商业规模生产。此类环状亚胺化合物适合用作氧化催化剂，特别是可用于将环己基苯氧化成环己基-1-苯基-1-过氧化氢。这种氧化作用在以苯为原料生产苯酚和/或环己酮的工艺中可能特别有用，该工艺包括苯的加氢烷基化为环己基苯，环己基苯氧化为环己基-1-苯基-1-过氧化氢，环己基-1-苯基-1-过氧化氢裂解为苯酚和环己酮。环亚胺生产工艺可包括水洗和反应物回收步骤，以最大限度地提高纯度和产率。