2,5-二甲氧基苯磺酸 | 7134-14-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: 2,5-二甲氧基苯磺酸
• 英文名称: 2,5-dimethoxybenzenesulfonic acid
• 英文别名: 2,5-dimethoxy-benzenesulfonic acid；2,5-Dimethoxy-benzolsulfonsaeure；1,4-Dimethoxy-benzol-2-sulfonsaeure；2,5-Dimethoxy-benzol-1-sulfonsaeure；2,5-Dimethoxybenzene-1-sulfonic acid
• CAS: 7134-14-7
• 化学式: C₈H₁₀O₅S
• 分子量: 218.23
• InChiKey: YKPVMVVSUJOBHF-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.3
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.25
• 拓扑面积：
  81.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2,5-二甲氧基苯磺酸 在 硫酸 作用下， 生成 2,5-dimethoxybenzene-1,3-disulfonic acid 、 1,4-dimethoxybenzene-2,5-disulfonic acid
  参考文献：
  名称：

  Cerfontain, Hans; Koeberg-Telder, Ankie, Recueil des Travaux Chimiques des Pays-Bas, 1988, vol. 107, p. 583 - 591

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  对苯二甲醚 在 氯磺酸 作用下， 生成 2,5-二甲氧基苯磺酸
  参考文献：
  名称：

  Surface Activity of the Sodium Sulfonates of Some Di-n-alkoxybenzenes. I. 1,4-Di-n-alkoxybenzenes

  摘要：

  DOI：

  10.1021/jo01095a023

文献信息

• Ruthenium(II)-Catalyzed Oxidative CH Alkenylations of Sulfonic Acids, Sulfonyl Chlorides and Sulfonamides
  作者：Wenbo Ma、Ruhuai Mei、Giammarco Tenti、Lutz Ackermann

  DOI：10.1002/chem.201404604

  日期：2014.11.10

  Twofold CH functionalization of aromatic sulfonic acids was achieved with an in situ generated ruthenium(II) catalyst. The optimized cross‐dehydrogenative alkenylation protocol proved applicable to differently substituted arenes and a variety of alkenes, including vinyl arenes, sulfones, nitriles and ketones. The robustness of the ruthenium(II) catalyst was demonstrated by the chemoselective oxidative

  用原位生成的钌（II）催化剂可实现芳香族磺酸的两倍CH功能化。事实证明，优化的交叉脱氢烯基化方法适用于不同取代的芳烃和多种烯烃，包括乙烯基芳烃，砜，腈和酮。磺酰胺和磺酰氯的化学选择性氧化烯化反应证明了钌（II）催化剂的坚固性。机理研究为可逆的乙酸盐辅助的CH钌化以及随后的烯烃插入提供了支持。
• CMP method for copper, tungsten, titanium, polysilicon, and other substrates using organosulfonic acids as oxidizers
  申请人：Carter K. Melvin

  公开号：US20050090109A1

  公开（公告）日：2005-04-28

  The invention relates to chemical mechanical polishing of substrates using an abrasive and a fluid composition, wherein certain organosulfonic acid compounds are used as oxidizers, and particularly relates to a method of polishing substrates comprising copper, tungsten, titanium, and/or polysilicon using a chemical-mechanical polishing system comprising organosulfonic acids having an electrochemical oxidation potential greater than 0.2V as an oxidizer.

  本发明涉及使用磨料和流体组合物对基底进行化学机械抛光，其中使用某些有机磺酸化合物作为氧化剂，特别是涉及一种使用化学机械抛光系统对由铜、钨、钛和/或多晶硅组成的基底进行抛光的方法，该系统包含电化学氧化电位大于 0.2V 的有机磺酸作为氧化剂。
• 75. Derivatives of 1 : 2 : 3 : 4-tetrahydroxybenzene. Part IV. Attempted syntheses
  作者：Wilson Baker、C. Evans

  DOI：10.1039/jr9380000372

  日期：——
• Cerfontain, Hans; Coenjaarts, Norbert J.; Koeberg-Telder, Ankie, Recueil des Travaux Chimiques des Pays-Bas, 1989, vol. 108, # 1, p. 7 - 13
  作者：Cerfontain, Hans、Coenjaarts, Norbert J.、Koeberg-Telder, Ankie

  DOI：——

  日期：——
• CERFONTAIN, HANS;COENJAARTS, NORBERT J.;KOEBERG-TELDER, ANKIE, REC. TRAV. CHIM. PAYS-BAS, 108,(1989) N, C. 7-13
  作者：CERFONTAIN, HANS、COENJAARTS, NORBERT J.、KOEBERG-TELDER, ANKIE

  DOI：——

  日期：——