2-chloro-3-methylbutanenitrile | 70477-21-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氮化合物
• 英文名称: 2-chloro-3-methylbutanenitrile
• 英文别名: 2-chloro-3-methylbutyronitrile；α-chloro-isovaleronitrile；α-Chlor-isovaleronitril；α-ChlorIsovaleronitril；2-Chlorisovaleronitril
• CAS: 70477-21-3
• 化学式: C₅H₈ClN
• 分子量: 117.578
• InChiKey: GMPPCOCINGLLFH-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2
• 重原子数：
  7
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.8
• 拓扑面积：
  23.8
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-chloro-3-methylbutanenitrile 在 盐酸 、 硫酸 作用下， 生成 2-氯-3-甲基丁酸乙酯
  参考文献：
  名称：

  Servais, Recueil des Travaux Chimiques des Pays-Bas, 1901, vol. 20, p. 56

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  2-羟基-3-甲基丁腈 在 五氯化磷 作用下， 生成 2-chloro-3-methylbutanenitrile
  参考文献：
  名称：

  Servais, Recueil des Travaux Chimiques des Pays-Bas, 1901, vol. 20, p. 56

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Vicarious nucleophilic substitution of hydrogen in nitroderivatives of five-membered heteroaromatic compounds
  作者：Mieczyslaw Makosza、Ewa Kwast

  DOI：10.1016/0040-4020(95)00445-e

  日期：1995.7

  Nitro derivatives of thiophene, furan and pyrrole react with carbanions containing leaving groups giving products of replacement of hydrogen with functionalized alkyl substituents. Many specific features of this reaction are discussed.

  噻吩，呋喃和吡咯的硝基衍生物与含有离去基团的碳负离子反应，生成被官能化的烷基取代基取代氢的产物。讨论了该反应的许多具体特征。
• Vicarious nucleophilic substitution of hydrogen in electrophilic alkenes
  作者：Mieczysłlaw Ma̧kosza、Andrzej Kwast

  DOI：10.1016/s0040-4020(01)80963-7

  日期：1991.1

  Carbanions containing leaving groups react in the presence of base with electrophilic alkenes giving products in which vinylic hydrogen is replaced with the carbanion moiety. They are formed via addition - β-elimination pathway analogous to the vicarious nucleophilic substitution in nitroarenes. In some cases, however, the cyclization - ring opening process takes place instead.

  含有离去基团的碳负离子在碱的存在下与亲电子烯烃反应，生成产物，其中乙烯基氢被碳负离子部分取代。它们是通过加成-消除途径形成的，类似于硝基芳烃中的替代性亲核取代反应。但是，在某些情况下，会发生环化-开环过程。
• Nucleophilic substitution of hydrogen in electrophilic alkenes
  作者：Mieczyslaw Mąkosza、Andrzej Kwast

  DOI：10.1039/c39840001195

  日期：——

  Carbanions containing leaving groups replace hydrogen in electrophilic alkenes via an addition–base induced β-elimination pathway.

  含有离去基团的碳负离子通过加成基诱导的β-消除途径取代亲电子烯烃中的氢。
• CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AND WAFER CLEANING COMPOSITION COMPRISING AMIDOXIME COMPOUNDS AND ASSOCIATED METHOD FOR USE
  申请人：Lee Wai Mun

  公开号：US20090130849A1

  公开（公告）日：2009-05-21

  A composition and associated method for chemical mechanical planarization (or other polishing) is described. The composition contains an amidoxime compound and water. The composition may also contain an abrasive and a compound with oxidation and reduction potential. The composition is useful for attaining improved removal rates for metal, including copper, barrier material, and dielectric layer materials in metal CMP. The composition is particularly useful in conjunction with the associated method for metal CMP applications.

  本文描述了一种化学机械平整化（或其他抛光）的组合物及其相关方法。该组合物含有一种酰胺肟化合物和水。该组合物还可以含有磨料和具有氧化还原潜力的化合物。该组合物可用于在金属CMP中获得改进的金属去除速率，包括铜、屏障材料和金属CMP中的介电层材料。该组合物在金属CMP应用的相关方法中特别有用。
• METHODS OF CLEANING SEMICONDUCTOR DEVICES AT THE BACK END OF LINE USING AMIDOXIME COMOSITIONS
  申请人：Lee Wai Mun

  公开号：US20100043823A1

  公开（公告）日：2010-02-25

  The present invention relates to aqueous compositions comprising amidoxime compounds and methods for cleaning plasma etch residue from semiconductor substrates including such dilute aqueous solutions. The compositions of the invention may optionally contain one or more other acid compounds, one or more basic compounds, and a fluoride-containing compound and additional components such as organic solvents, chelating agents, amines, and surfactants. The invention also relates to a method of removing residue from a substrate during integrated circuit fabrication.

  本发明涉及含有酰胺肟化合物的水性组合物及其清洗半导体衬底上等离子体刻蚀残留物的方法，包括这种稀释的水性溶液。本发明的组合物可以选择性地含有一种或多种其他酸性化合物、一种或多种碱性化合物、含氟化合物和其他成分，如有机溶剂、螯合剂、胺和表面活性剂。本发明还涉及一种在集成电路制造过程中从衬底上去除残留物的方法。

表征谱图