4-Butylmercapto-phenol | 1077-25-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机硫化合物 - 硫醚类
• 英文名称: 4-Butylmercapto-phenol
• 英文别名: 4-(Butylsulfanyl)phenol；4-butylsulfanylphenol
• CAS: 1077-25-4
• 化学式: C₁₀H₁₄OS
• 分子量: 182.287
• InChiKey: PKUQXIYIBNRPTF-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.3
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.4
• 拓扑面积：
  45.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-Butylmercapto-phenol 在 双氧水 作用下， 以 溶剂黄146 为溶剂， 生成
  参考文献：
  名称：

  DE2130919

  摘要：

  公开号：
• 作为产物：
  描述：

  对氨基苯酚 在 盐酸 、 甲醇 、 sodium hydroxide 作用下， 生成 4-Butylmercapto-phenol
  参考文献：
  名称：

  Hydroxyphenyl Alkyl Sulfides¹

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ja01330a061

文献信息

• Novel carbazole derivative and chemically amplified radiation-sensitive resin composition
  申请人：——

  公开号：US20020172885A1

  公开（公告）日：2002-11-21

  A carbazole derivative of the following formula (1), 1 wherein R 1 and R 2 individually represent a hydrogen atom or a monovalent organic group, or R 1 and R 2 form, together with the carbon atom to which R 1 and R 2 bond, a divalent organic group having a 3-8 member carbocyclic structure or a 3-8 member heterocyclic structure, and R 3 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group. The carbazole derivative is suitable as an additive for increasing sensitivity of a chemically amplified resist. A chemically amplified radiation-sensitive resin composition, useful as a chemically amplified resist, comprising the carbazole derivative is also disclosed.

  以下是该段文字的中文翻译： 一种具有以下式（1）的咔唑衍生物，其中R1和R2分别代表氢原子或一价有机基团，或者R1和R2与其结合的碳原子一起形成具有3-8个成员碳环结构或3-8个成员杂环结构的二价有机基团，R3代表氢原子或一价有机基团。该咔唑衍生物适用作为增加化学增感抗蚀性的添加剂。还公开了一种化学增感辐射敏感树脂组合物，该组合物用作化学增感抗蚀剂，包括该咔唑衍生物。
• 2,3-Dihydro-6-nitroimidazo[2,1-b]oxazoles
  申请人：Tsubouchi Hidetsugu

  公开号：US20060094767A1

  公开（公告）日：2006-05-04

  The present invention provides a 2,3-dihydro-6-nitroimidazo[2,1-b]oxazole compound represented by the following general formula: wherein R 1 represents a hydrogen atom or C1-C6 alkyl group, n represents an integer of 0 to 6, R 2 represents a group —OR 3 or the like, and R 3 represents a hydrogen atom, C1-C6 alkyl group or the like, or R 1 and —(CH 2 ) n R 2 may bind to each other together with carbon atoms adjacent thereto through nitrogen atoms so as to form a spiro ring represented by the general formula (H): wherein R 41 is hydrogen, C1-C6 alkyl group or the like. The present compound has an excellent bactericidal action against Mycobacterium tuberculosis , multi-drug-resistant Mycobacterium tuberculosis , and atypical acid-fast bacteria.

  本发明提供了一种2,3-二氢-6-硝基咪唑并[2,1-b]噁唑化合物，其通式如下：其中，R1代表氢原子或C1-C6烷基，n代表0到6的整数，R2代表—OR3或类似的基团，R3代表氢原子、C1-C6烷基或类似的基团，或者R1和—(CH2)nR2可以通过相邻的碳原子通过氮原子结合在一起形成一个螺环，其通式为（H）：其中，R41为氢、C1-C6烷基或类似的基团。该化合物对结核分枝杆菌、多药耐药结核分枝杆菌和非典型酸性快速细菌具有优异的杀菌作用。
• Photosensitive composition, pattern-forming method using the photosensitive composition and compounds used in the photosensitive composition
  申请人：Wada Kenji

  公开号：US20070148592A1

  公开（公告）日：2007-06-28

  A photosensitive composition containing a compound having a specific structure, a pattern-forming method using the photosensitive composition, and a compound having a specific structure used in the photosensitive composition.

  一种含有特定结构化合物的光敏组合物，使用该光敏组合物的图案形成方法，以及用于该光敏组合物的特定结构化合物。
• Neue Phenole und ihre Herstellung
  申请人：CIBA-GEIGY AG

  公开号：EP0106799A1

  公开（公告）日：1984-04-25

  Es werden neue Phenole der Formel I beschrieben worin die Reste R und R', sowie die Indizes p und q die in der Beschreibung angegebene Bedeutung besitzen. Die neuen Phenole sind beispielsweise einsetzbar als Stabilisatoren in organischen oder wässrigen Systemen.

  描述了式 I 的新苯酚 其中自由基 R 和 R'以及指数 p 和 q 的含义见说明。新苯酚可用作有机或水性体系的稳定剂等。
• Anthracene derivative and radiation-sensitive resin composition
  申请人：JSR Corporation

  公开号：EP1343048A2

  公开（公告）日：2003-09-10

  A novel anthracene derivative useful as an additive to a radiation-sensitive resin composition is disclosed. The anthracene derivative has the following formula (1), wherein R1 groups individually represent a hydroxyl group or a monovalent organic group having 1-20 carbon atoms, n is an integer of 0-9, X is a single bond or a divalent organic group having 1-12 carbon atoms, and R2 represents a monovalent acid-dissociable group. The radiation-sensitive resin composition comprises the anthracene derivative of the formula (1), a resin insoluble or scarcely soluble in alkali, but becomes alkali soluble in the presence of an acid, and a photoacid generator. The composition is useful as a chemically-amplified resist for microfabrication utilizing deep ultraviolet rays, typified by a KrF excimer laser and ArF excimer laser.

  本发明公开了一种可用作辐射敏感树脂组合物添加剂的新型蒽衍生物。蒽衍生物具有下式（1）、 其中 R1 基团分别代表羟基或具有 1-20 个碳原子的一价有机基团，n 为 0-9 的整数，X 为单键或具有 1-12 个碳原子的二价有机基团，R2 代表一价酸可分解基团。辐射敏感树脂组合物包括式（1）的蒽衍生物、不溶于碱或几乎不溶于碱但在酸存在下可溶于碱的树脂和光酸发生器。该组合物可用作利用深紫外线（以 KrF 准分子激光器和 ArF 准分子激光器为例）进行微加工的化学放大抗蚀剂。