tetramethyl-phthalic acid | 91497-58-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: tetramethyl-phthalic acid
• 英文别名: Tetramethyl-phthalsaeure；3.4.5.6-Tetramethyl-benzol-dicarbonsaeure-(1.2)；Prehnitoldicarbonsaeure；3,4,5,6-Tetramethylphthalic acid
• CAS: 91497-58-4
• 化学式: C₁₂H₁₄O₄
• 分子量: 222.241
• InChiKey: LJTKPJULQQTNJF-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  422.5±33.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.237±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.4
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.33
• 拓扑面积：
  74.6
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  tetramethyl-phthalic acid 生成 Tetramethylphthalsaeureanhydrid
  参考文献：
  名称：

  Criegee; Noll, Justus Liebigs Annalen der Chemie, 1959, vol. 627, p. 1,8

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  六甲基苯 在 硝酸 、 苯 作用下， 生成 tetramethyl-phthalic acid
  参考文献：
  名称：

  Jacobsen, Chemische Berichte, 1889, vol. 22, p. 1217

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Quantum chain amplification in nanocrystalline Dewar benzenes by intramolecular sensitization
  作者：Edris Rivera、Indrajit Paul、Javier Fajardo、Miguel A. Garcia-Garibay

  DOI：10.1039/d3sc01074k

  日期：——

  mechanism. The triplet-sensitized isomerization of Dewar benzene is known to undergo quantum chain reactions characterized by an adiabatic valence-bond isomerization to the excited state of Hückel benzene, which is able to transfer its triplet energy to a new ground state Dewar benzene that reacts to continue the chain. Given that diffusion-mediated energy transfer is the chain-limiting event in solution

  量子链反应的特点是每个吸收的光子形成几个光产物 ( Φ QC> 1) 并构成了一种很有前途的信号放大机制。已知杜瓦苯的三重态敏化异构化会发生量子链反应，其特征是绝热价键异构化为 Hückel 苯的激发态，能够将其三重态能量转移到新的基态杜瓦苯，该反应继续进行连锁，链条。鉴于扩散介导的能量转移是溶液中的链限制事件，我们在此证明，通过假定的激子离域机制利用能量转移，晶体中的反应效率显着提高。使用具有共价连接的高能三线态敏化剂的杜瓦苯，我们通过放大ca的量子产率证明了固态的效率。ΦQC _≈ 76 在乙腈溶液中至ca。Φ QC ≈ 100–120 在通过再沉淀法制备的亚微米尺寸样品中，高达ca。Φ QC ≈ 300，微晶粉末悬浮在水中。
• POLYMER MATERIAL CONTAINING ULTRAVIOLET ABSORBENT
  申请人：Fujifilm Corporation

  公开号：EP2113536A1

  公开（公告）日：2009-11-04

  A polymer material, containing at least one kind of polymer substance selected from the group consisting of acrylic acid-based polymers, polyester-based polymers, and polycarbonate-based polymers; and a compound represented by formula (2) contained in the polymer substance: wherein A21 and A22 each independently represent an atom other than hydrogen atom and carbon atom; Y21 and Y22 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent substituent; at least one of Y21 and Y22 represents a substituent having a Hammett substituent constant σp of 0.2 or more; Y21 and Y22 may bind to each other to form a ring; and (B) represents a group of atoms necessary for forming a five- or six-membered ring with A21, A22 and the carbon atom.

  一种聚合物材料，含有至少一种选自丙烯酸类聚合物、聚酯类聚合物和聚碳酸酯类聚合物的聚合物物质；以及聚合物物质中含有的式 (2) 所代表的化合物： 其中 A21 和 A22 各自独立地代表除氢原子和碳原子之外的原子；Y21 和 Y22 各自独立地代表氢原子或单价取代基；Y21 和 Y22 中至少有一个代表具有 0.2 或更大的哈米特取代常数 σp 的取代基；Y21 和 Y22 可相互结合形成环；以及 (B) 代表与 A21、A22 和碳原子形成五元或六元环所必需的原子团。
• Use of polymer material containing ultraviolet absorbent
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：EP2113536B1

  公开（公告）日：2012-07-04
• POLYESTER RESIN COMPOSITION
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：EP2527399B1

  公开（公告）日：2016-06-01
• EP2604289B1
  申请人：——

  公开号：EP2604289B1

  公开（公告）日：2017-08-16