3,4-diethyl-5H-furan-2-one | 54823-84-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 二氢呋喃
• 英文名称: 3,4-diethyl-5H-furan-2-one
• 英文别名: 2,3-Diethyl-2-penten-5-olid；3,4-diethyl-2H-furan-5-one
• CAS: 54823-84-6
• 化学式: C₈H₁₂O₂
• 分子量: 140.182
• InChiKey: SEEMWNOOLKNNTE-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  254.2±9.0 °C(Predicted)
• 密度：
  0.996±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.4
• 重原子数：
  10
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.62
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  3-己炔 、 一氧化碳 在 Co₂Rh₂ 三乙胺 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 100.0 ℃ 、3.04 MPa 条件下， 反应 18.0h， 以89%的产率得到3,4-diethyl-5H-furan-2-one
  参考文献：
  名称：

  Cyclohydrocarbonylation of substituted alkynes and tandem cyclohydrocarbonylation–CO insertion of α-keto alkynes catalyzed by immobilized Co–Rh heterobimetallic nanoparticles

  摘要：

  在取代炔烃的环氢羰基化反应中，以及通过α-酮炔烃的串联环氢羰基化-CO插入反应生成2(3H)-或2(5H)-呋喃酮的过程中，使用了钴-铑（Co₂Rh₂）异双金属纳米粒子。

  DOI：

  10.1039/b416657d

文献信息

• Carbonylation of acetylenes under water gas shift conditions: a new method for synthesis of furan-2(5H)-ones
  作者：Kazuo Doyama、Takashi Joh、Kiyotaka Onitsuka、Tomoo Shiohara、Shigetoshi Takahashi

  DOI：10.1039/c39870000649

  日期：——

  Under water gas shift conditions acetylenes are selectively converted into furan-2(5H)-ones with catalysis by rhodium carbonyl clusters.

  在水煤气变换条件下，乙炔被羰基铑簇催化选择性地转化为呋喃-2（5 H）-1 。
• DOYAMA KAZUO; JOH TAKASHI; ONITSUKA KIYOTAKA; SHIOHARA TOMOO; TAKAHASHI S+, J. CHEM. SOC. CHEM. COMMUN.,(1987) N 9, 649-650
  作者：DOYAMA KAZUO、 JOH TAKASHI、 ONITSUKA KIYOTAKA、 SHIOHARA TOMOO、 TAKAHASHI S+

  DOI：——

  日期：——
• COMPOSITION FOR RESIST UNDERLAYER FILM, PROCESS FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM, PATTERNING PROCESS, AND FULLERENE DERIVATIVE
  申请人：WATANABE Takeru

  公开号：US20120045900A1

  公开（公告）日：2012-02-23

  The invention provides a composition for a resist underlayer film, the composition for a resist underlayer film to form a resist underlayer film of a multilayer resist film used in lithography, wherein the composition comprises at least (A) a fullerene derivative that is a reaction product of a substance having a fullerene skeleton with a 1,3-diene compound derivative having an electron-withdrawing group and (B) an organic solvent. There can be a composition for a resist underlayer film for a multilayer resist film used in lithography, the composition giving a resist underlayer film having excellent high dry etching resistance, capable of suppressing wiggling during substrate etching with high effectiveness, and capable of avoiding a poisoning problem in upperlayer patterning that uses a chemical amplification resist; a process for forming a resist underlayer film; a patterning process; and a fullerene derivative.
• US9076738B2
  申请人：——

  公开号：US9076738B2

  公开（公告）日：2015-07-07
• Cyclohydrocarbonylation of substituted alkynes and tandem cyclohydrocarbonylation–CO insertion of α-keto alkynes catalyzed by immobilized Co–Rh heterobimetallic nanoparticles
  作者：Kang Hyun Park、So Yeon Kim、Young Keun Chung

  DOI：10.1039/b416657d

  日期：——

  The use of cobalt–rhodium (Co2Rh2) heterobimetallic nanoparticles in the cyclohydrocarbonylation of substituted alkynes and tandem cyclohydrocarbonylation–CO insertion of α-keto alkynes to give 2(3H)- or 2(5H)-furanones is described.

  在取代炔烃的环氢羰基化反应中，以及通过α-酮炔烃的串联环氢羰基化-CO插入反应生成2(3H)-或2(5H)-呋喃酮的过程中，使用了钴-铑（Co₂Rh₂）异双金属纳米粒子。