4-cyclohexylthiophenyldiphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate | 847799-70-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机硫化合物 - 硫醚类
• 英文名称: 4-cyclohexylthiophenyldiphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate
• 英文别名: (4-cyclohexylsulfanylphenyl)-diphenylsulfanium;trifluoromethanesulfonate
• CAS: 847799-70-6
• 化学式: CF₃O₃S*C₂₄H₂₅S₂
• 分子量: 526.665
• InChiKey: CRXRLWAAWIRXEM-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  7.26
• 重原子数：
  34
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.28
• 拓扑面积：
  91.9
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  7

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-cyclohexylthiophenyldiphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate 在 sodium tungstate (VI) dihydrate 、 双氧水 作用下， 以 甲醇 、 二氯甲烷 、 水 为溶剂， 反应 10.5h， 生成 (4-Cyclohexylsulfonylphenyl)-diphenylsulfanium;1,1,2-trifluoro-4-(2-methylprop-2-enoyloxy)butane-1-sulfonate
  参考文献：
  名称：

  Radiation-sensitive resin composition, monomer, polymer, and production method of radiation-sensitive resin composition

  摘要：

  一种辐射敏感树脂组合物包括溶剂和聚合物。该聚合物包括由公式（I）表示的重复单元，由公式（II）表示的重复单元，或两者都包括的重复单元。R1至R3中的每一个独立表示羟基或类似物。至少有一个R1表示具有两个或更多杂原子的基团。l是1到5之间的整数。m和n中的每一个独立地是0到5之间的整数。R7和R11中的每一个独立表示氢原子或类似物。R8到R10中的每一个独立表示氢原子或类似物。A表示—O—或类似物。D表示取代或未取代的亚甲基基团或类似物。

  公开号：

  US08632945B2
• 作为产物：
  描述：

  环己硫醇 、 (4-氟苯基)二苯基三氟甲磺酸盐 在 sodium hydroxide 、 四丁基溴化铵 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 生成 4-cyclohexylthiophenyldiphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate
  参考文献：
  名称：

  RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, MONOMER, POLYMER, AND PRODUCTION METHOD OF RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION

  摘要：

  一种辐射敏感树脂组合物包括溶剂和聚合物。该聚合物包括由式(I)表示的重复单元，由式(II)表示的重复单元，或两者兼有。R1至R3中的每一个独立地表示一个羟基或类似物。其中至少一个R1表示具有两个或更多杂原子的基团。l是从1到5的整数。m和n中的每一个独立地是从0到5的整数。R7和R11中的每一个独立地表示氢原子或类似物。R8到R10中的每一个独立地表示氢原子或类似物。A表示—O—或类似物。D表示取代或未取代的亚甲基基团或类似物。

  公开号：

  US20120237876A1

文献信息

• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, MONOMER, POLYMER, AND PRODUCTION METHOD OF RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION
  申请人：MARUYAMA Ken

  公开号：US20120237876A1

  公开（公告）日：2012-09-20

  A radiation-sensitive resin composition includes a solvent and a polymer. The polymer includes a repeating unit represented by a formula (I), a repeating unit represented by a formula (II), or a both thereof. Each of R 1 to R 3 independently represents a hydroxyl group, or the like. At least one of R 1 represents a group having two or more heteroatoms. l is an integer from 1 to 5. Each of m and n is independently an integer from 0 to 5. Each of R 7 and R 11 independently represents a hydrogen atom, or the like. Each of R 8 to R 10 independently represents a hydrogen atom, or the like. A represents —O—, or the like. D represents a substituted or unsubstituted methylene group, or the like.

  一种辐射敏感树脂组合物包括溶剂和聚合物。该聚合物包括由式(I)表示的重复单元，由式(II)表示的重复单元，或两者兼有。R1至R3中的每一个独立地表示一个羟基或类似物。其中至少一个R1表示具有两个或更多杂原子的基团。l是从1到5的整数。m和n中的每一个独立地是从0到5的整数。R7和R11中的每一个独立地表示氢原子或类似物。R8到R10中的每一个独立地表示氢原子或类似物。A表示—O—或类似物。D表示取代或未取代的亚甲基基团或类似物。
• Onium salt compound and radiation-sensitive resin composition
  申请人：Yoneda Eiji

  公开号：US20050053861A1

  公开（公告）日：2005-03-10

  An onium salt compound having a cation moiety of the following formula (1) is disclosed. wherein A represents I or S, m is 1 or 2, n is 0 or 1, x is 1-10, and Ar1 and Ar2 are (substituted) aromatic hydrocarbon group, and P represents —O—SO 2 R, —O—S(O)R, or —SO 2 R, wherein R represents a hydrogen atom, a (substituted) alkyl group, or a (substituted) alicyclic hydrocarbon group. The onium salt compound is suitable as a photoacid generator for photoresists of a positive-tone radiation-sensitive resin composition. The positive-tone radiation-sensitive resin composition containing this compound is useful as a chemically-amplified photoresist exhibiting high resolution at high sensitivity, responsive to various radiations, and having outstanding storage stability.

  本发明揭示了一种具有以下式（1）的阳离子部分的醇盐化合物。其中，A代表I或S，m为1或2，n为0或1，x为1-10，Ar1和Ar2为（取代）芳香烃基，P代表-O-SO2R，-O-S（O）R或-SO2R，其中R代表氢原子，（取代）烷基或（取代）脂环烃基。该醇盐化合物适用于用于正向调节辐射敏感树脂组成物的光酸发生剂。含有该化合物的正向调节辐射敏感树脂组成物是一种化学放大的光刻胶，具有高灵敏度和高分辨率，对各种辐射具有响应性，并具有优异的储存稳定性。
• US7217492B2
  申请人：——

  公开号：US7217492B2

  公开（公告）日：2007-05-15
• US8632945B2
  申请人：——

  公开号：US8632945B2

  公开（公告）日：2014-01-21
• Radiation-sensitive resin composition, monomer, polymer, and production method of radiation-sensitive resin composition
  申请人：Maruyama Ken

  公开号：US08632945B2

  公开（公告）日：2014-01-21

  A radiation-sensitive resin composition includes a solvent and a polymer. The polymer includes a repeating unit represented by a formula (I), a repeating unit represented by a formula (II), or a both thereof. Each of R1 to R3 independently represents a hydroxyl group, or the like. At least one of R1 represents a group having two or more heteroatoms. l is an integer from 1 to 5. Each of m and n is independently an integer from 0 to 5. Each of R7 and R11 independently represents a hydrogen atom, or the like. Each of R8 to R10 independently represents a hydrogen atom, or the like. A represents —O—, or the like. D represents a substituted or unsubstituted methylene group, or the like.

  一种辐射敏感树脂组合物包括溶剂和聚合物。该聚合物包括由公式（I）表示的重复单元，由公式（II）表示的重复单元，或两者都包括的重复单元。R1至R3中的每一个独立表示羟基或类似物。至少有一个R1表示具有两个或更多杂原子的基团。l是1到5之间的整数。m和n中的每一个独立地是0到5之间的整数。R7和R11中的每一个独立表示氢原子或类似物。R8到R10中的每一个独立表示氢原子或类似物。A表示—O—或类似物。D表示取代或未取代的亚甲基基团或类似物。