3-Brom-3-methyl-hexan | 143982-17-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机卤素化合物 - 有机溴化物
• 英文名称: 3-Brom-3-methyl-hexan
• 英文别名: 3-bromo-3-methyl-hexane；3-Bromo-3-methylhexane
• CAS: 143982-17-6
• 化学式: C₇H₁₅Br
• 分子量: 179.1
• InChiKey: XUSOXJJDAVAVIH-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  158.9±8.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.138±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.4
• 重原子数：
  8
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  3-Brom-3-methyl-hexan 、 丙基溴化镁 生成 4-ethyl-4-methyl-heptane
  参考文献：
  名称：

  Konformation und physikalische daten von alkanen und cyclanen—II

  摘要：

  DOI：

  10.1016/s0040-4020(01)92305-1
• 作为产物：
  描述：

  3-甲基-3-己醇 在 氢溴酸 作用下， 生成 3-Brom-3-methyl-hexan
  参考文献：
  名称：

  Bentley,F.F. et al., Spectrochimica Acta, 1964, vol. 20, p. 105 - 126

  摘要：

  DOI：

文献信息

• [EN] HALOALUMINOXANE COMPOSITIONS, THEIR PREPARATION, AND THEIR USE IN CATALYSIS<br/>[FR] COMPOSITIONS D'HALOALUMINOXANE, PREPARATION ET UTILISATION DE CELLES-CI DANS DES CATALYSES
  申请人：ALBEMARLE CORP

  公开号：WO2005066191A1

  公开（公告）日：2005-07-21

  Novel haloaluminoxane compositions have been formed. The halogen is fluorine, chlorine, and/or bromine, and the amount of halogen atoms present in said composition is in the range of about 0.5 mole % to about 15 mole % relative to aluminum atoms.

  已经形成了新的氧化铝卤代铝簇合物。卤素可以是氟、氯和/或溴，而该簇合物中存在的卤素原子的数量在相对于铝原子约0.5摩尔％至约15摩尔％的范围内。
• Resin Composition
  申请人：Masuda Gen

  公开号：US20070244241A1

  公开（公告）日：2007-10-18

  Disclosed is a resin composition wherein dispersibility of a modifying agent such as an inorganic substance is improved. The acid resistance of this resin composition is not deteriorated even when a modifying agent is blended therein. Specifically, the resin composition includes a base material having a cyano group-containing organic layer and an organic resin. This resin composition is extremely excellent in acid resistance when compared with organic resins which use a base material having an organic layer not containing a cyano group.

  公开了一种树脂组合物，其中改性剂（如无机物质）的分散性得到改善。即使混合了改性剂，这种树脂组合物的耐酸性也不会恶化。具体来说，该树脂组合物包括具有含氰基有机层和有机树脂的基材。与基材不含氰基的有机层的有机树脂相比，该树脂组合物的耐酸性非常优秀。
• Inorganic-organic composite functional composition
  申请人：Masuda Gen

  公开号：US20070149650A1

  公开（公告）日：2007-06-28

  Disclosed is an inorganic-organic composite functional composition which comprises an organic resin and an inorganic matter having an organic layer which is formed in a solvent containing an ionic liquid. A formed article made of such an inorganic-organic composite functional composition can be prevented from deterioration in the physical properties even when a large amount of the inorganic matter is dispersed in the organic resin.

  本发明公开了一种无机-有机复合功能组合物，包括有机树脂和一种具有有机层的无机物，该有机层是在含有离子液体的溶剂中形成的。由这种无机-有机复合功能组合物制成的成型品即使在有大量无机物分散在有机树脂中时，也能防止其物理性能的恶化。
• Verfahren zur Herstellung von Säurehalogeniden
  申请人：BAYER AG

  公开号：EP0070463A1

  公开（公告）日：1983-01-26

  Säurehalogenide der Formel (R1, R2, R3)C-CO-Hal werden durch Reaktion von Alkylhalogeniden der Formel (R1, R2, R3)C - Hal mit Kohlenmonoxid bei einem Druck von 5 bis 1000 bar und einer Temperatur von -20°C bis +100°C in Gegenwart von 0,001 bis 0,3 Mol AlCl3 und/oder FeCl3 gegebenenfalls in Gegenwart einer weiteren Lewissäure pro Mol des Alkylhalogenids gewonnen. Das Verfahren wird gegebenenfalls in Gegenwart eines für Friedel-Crafts- oder Friedel-Crafts-ähnliche Reaktionen gebräuchlichen Lösungsmittels und gegebenenfalls in Gegenwart von Halogenwasserstoff durchgeführt. Das Säurechlorid kann aus dem Reaktionsgemisch erhalten oder weiter umgesetzt werden.

  式(R1, R2, R3)C-CO-Hal 的酸性卤化物是通过式(R1, R2, R3)C-Hal 的烷基卤化物与一氧化碳在压力为 5 至 1000 巴、温度为 -20°C 至 +100°C 的条件下，在 0.001 至 0.3 摩尔 AlCl3 和/或 FeCl3 的存在下，并可选择在每摩尔烷基卤化物有另一种路易斯酸存在的情况下反应得到的。该过程可选择在弗里德尔-卡夫斯反应或类似弗里德尔-卡夫斯反应常用的溶剂存在下进行，也可选择在卤化氢存在下进行。氯化酸可以从反应混合物中获得，也可以进一步反应。
• FILLER FOR SUBSTRATE AND COMPOSITION FOR USE AS MATERIAL FOR INORGANIC/ORGANIC COMPOSITE SUBSTRATE FORMATION
  申请人：Nisshinbo Industries, Inc.

  公开号：EP1894967A1

  公开（公告）日：2008-03-05

  A filler for substrates which comprises an inorganic substance and a carbodiimide-group-containing organic layer chemically bonded to the surface of the inorganic substance. Examples of the carbodiimide-group-containing organic layer include a layer comprising a carbodiimide-group-containing compound represented by either of the following formulae. Due to the constitution, the filler for substrates can be highly dispersed in a resin for substrates even when added in a high proportion and can give a substrate inhibited from deteriorating in electrical properties, mechanical properties, etc. X1m-Z-A-R1-N=C=Nn-R1-NCO1 X1m-Z-A-R1-N=C=Nn-R1-A-Z-X231 [R1 represents a residue of an isocyanate compound; X1 and X2 each independently represents hydrogen, halogeno, etc.; Z's each independently represents silicon or titanium; A represents an organic group having a valence of 2 or higher containing a bond derived from an isocyanate group; m and 1 each is an integer of 1-3, provided that m+1=4; and n is an integer of 1-100.]

  一种用于基底的填料，包括无机物和与无机物表面化学键合的含碳化二亚胺基团的有机层。含碳化二亚胺基团有机层的例子包括由下列式子中任一式子所代表的含碳化二亚胺基团化合物组成的层。由于这种结构，基材用填料即使以高比例添加，也能高度分散在基材用树脂中，并能获得电性能、机械性能等性能不会劣化的基材。X1m-Z-A-R1-N=C=Nn-R1-NCO1 X1m-Z-A-R1-N=C=Nn-R1-A-Z-X231 [R1 代表异氰酸酯化合物的残余物；X1 和 X2 各自独立地代表氢、卤素等；Z's 各自独立地代表硅或钛；A 代表价数为 2 或更高的有机基团，其中含有从异氰酸酯基团衍生的键；m 和 1 各自为 1-3 的整数，条件是 m+1=4 ；n 为 1-100 的整数。］