4-Hydroxy-4-methyl-1-pentyl tosylate | 138616-14-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 4-Hydroxy-4-methyl-1-pentyl tosylate
• 英文别名: (4-Hydroxy-4-methylpentyl) 4-methylbenzenesulfonate；(4-hydroxy-4-methylpentyl) 4-methylbenzenesulfonate
• CAS: 138616-14-5
• 化学式: C₁₃H₂₀O₄S
• 分子量: 272.365
• InChiKey: ZESUFAPIUNPJLT-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  411.4±28.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.164±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.1
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.54
• 拓扑面积：
  72
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-Hydroxy-4-methyl-1-pentyl tosylate 在 水 作用下， 生成 2,2-dimethyltetrahydrofuran
  参考文献：
  名称：

  4-Hydroxy-4-methyl-1-pentylp-Toluenesulfonate 环化作为模型来评估固有介质对 SN2 溶剂分解的影响

  摘要：

  通过 Taft LSER 方程成功分析了溶剂对 4-羟基-4-甲基-1-戊基对甲苯磺酸酯环化的影响，其机理等同于 SN2 溶剂分解，log k = 3.2π* + 1.4α + 1.9β - 8.36，表明三个独立因素起作用，即促进电离的溶剂极性和H键供体能力，以及增强内部OH基团的亲核性的H键受体能力。

  DOI：

  10.1246/cl.1991.2065

文献信息

• ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AND RESIST FILM, RESIST-COATED MASK BLANKS, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND PHOTOMASK EACH USING THE COMPOSITION
  申请人：FUJIFILM CORPORATION

  公开号：US20150010855A1

  公开（公告）日：2015-01-08

  There is provided an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition containing (α) a compound represented by the formula (αI) capable of generating an acid having a size of 200 Å 3 or more in volume and (β) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, and the formula (αI) is defined as herein, and a resist film formed using the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, a resist-coated mask blanks coated with the resist film, a resist pattern forming method comprising exposing the resist film and developing the exposed film, a photomask obtained by exposing and developing the resist-coated mask blanks, a method for manufacturing an electronic device, comprising the resist pattern forming method and an electronic device manufactured by the manufacturing method of an electronic device.

  提供一种感光或辐射敏感的组合物，其中包含(α)一种化合物，其由公式(αI)表示，能够产生大小为200Å3或更大的体积的酸，以及(β)一种化合物，能够在受到光辐射或辐射时产生酸，公式(αI)的定义如本文所述。还提供了使用该感光或辐射敏感组合物形成的光阻膜，涂有光阻膜的光阻涂层掩模坯料，包括曝光光阻膜和显影曝光后膜的光阻图案形成方法，通过曝光和显影涂有光阻涂层的掩模坯料获得的光掩模，以及一种电子器件的制造方法，包括光阻图案形成方法和制造电子器件的电子器件制造方法，以及通过该电子器件制造方法制造的电子器件。
• US9285679B2
  申请人：——

  公开号：US9285679B2

  公开（公告）日：2016-03-15
• Cyclization of 4-Hydroxy-4-methyl-1-pentyl<i>p</i>-Toluenesulfonate as a Model to Evaluate Inherent Medium Effect on S_N2 Solvolysis
  作者：Nobujiro Shimizu、Toru Tsutsumi、Yuho Tsuno

  DOI：10.1246/cl.1991.2065

  日期：1991.11

  Solvent effect on the cyclization of 4-hydroxy-4-methyl-1-pentyl p-toluenesulfonate, a mechanistic equivalent to the SN2 solvolysis, was successfully analyzed by the Taft LSER equation as log k = 3.2π* + 1.4α + 1.9β − 8.36, indicating that three independent factors are operative, i.e., solvent polarity and H-bond donor ability which promote ionization, and H-bond acceptor ability which enhances nucleophilicity

  通过 Taft LSER 方程成功分析了溶剂对 4-羟基-4-甲基-1-戊基对甲苯磺酸酯环化的影响，其机理等同于 SN2 溶剂分解，log k = 3.2π* + 1.4α + 1.9β - 8.36，表明三个独立因素起作用，即促进电离的溶剂极性和H键供体能力，以及增强内部OH基团的亲核性的H键受体能力。