Diphenylmethylsilyl-radikal | 32512-20-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: Diphenylmethylsilyl-radikal
• 英文别名: methyl-diphenyl-silanyl；Methyldiphenylsilane
• CAS: 32512-20-2
• 化学式: C₁₃H₁₃Si
• 分子量: 197.332
• InChiKey: OKHRRIGNGQFVEE-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.93
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.08
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  methyldiphenylsilyllithium 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 0.17h， 生成 Diphenylmethylsilyl-radikal
  参考文献：
  名称：

  芳基取代的甲硅烷基和甲硅烷基阴离子的激光光解研究

  摘要：

  在室温下研究了芳基取代的甲硅烷基和甲硅烷基阴离子的光化学初级过程。通过激光光解直接观察产生的甲硅烷基和甲锡烷基自由基。

  DOI：

  10.1246/cl.1986.773

文献信息

• Oba, Makoto; Kawahara, Yoko; Yamada, Ryo, Journal of the Chemical Society. Perkin Transactions 2 (2001), 1996, vol. 9, p. 1843 - 1848
  作者：Oba, Makoto、Kawahara, Yoko、Yamada, Ryo、Mizuta, Hidetaka、Nishiyama, Kozaburo

  DOI：——

  日期：——
• LASER-PHOTOLYSIS STUDY OF ARYL-SUBSTITUTED SILYL AND STANNYL ANIONS
  作者：Kunio Mochida、Masanobu Wakasa、Yoshio Sakaguchi、Hisaharu Hayashi

  DOI：10.1246/cl.1986.773

  日期：1986.5.5

  Photochemical primary processes of aryl-substituted silyl and stannyl anions were studied at room temperature. The silyl and stannyl radicals generated were observed directly by laser-photolysis.

  在室温下研究了芳基取代的甲硅烷基和甲硅烷基阴离子的光化学初级过程。通过激光光解直接观察产生的甲硅烷基和甲锡烷基自由基。