3,3-dimethyl-4'-phenoxy-butyrophenone | 55814-61-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 3,3-dimethyl-4'-phenoxy-butyrophenone
• 英文别名: 3,3-Dimethyl-1-(4-phenoxyphenyl)butan-1-one
• CAS: 55814-61-4
• 化学式: C₁₈H₂₀O₂
• 分子量: 268.356
• InChiKey: SWFZGXXIBXXLPD-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  380.2±25.0 °C(predicted)
• 密度：
  1.041±0.06 g/cm3(Temp: 20 °C; Press: 760 Torr)(predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.8
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.28
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  lithium dimethylcuprate 、 1-(4-phenoxyphenyl)-3-methyl-2-buten-1-one 在 lithium iodide 作用下， 以 乙醚 为溶剂， 生成 3,3-dimethyl-4'-phenoxy-butyrophenone
  参考文献：
  名称：

  Kinetics and mechanism of the conjugate addition of lithium dimethylcuprate to .alpha.,.beta.-unsaturated ketones

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ja00391a026

文献信息

• ACTINIC-RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM FORMED USING SAID COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN USING SAID COMPOSITION, PROCESS FOR PRODUCING ELECTRONIC DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE
  申请人：FUJIFILM CORPORATION

  公开号：US20150277225A1

  公开（公告）日：2015-10-01

  An actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains a compound (A) which generates acid by being irradiated with actinic rays or radiation where, when relative light absorbance is ε r using triphenyl sulfonium nonaphlate as a reference and relative quantum efficiency is φ r using triphenyl sulfonium nonaphlate as a reference, the relative light absorbance ε r is 0.4 to 0.8 and ε r ×φ r is 0.5 to 1.0.
• US3962459A
  申请人：——

  公开号：US3962459A

  公开（公告）日：1976-06-08
• US4065503A
  申请人：——

  公开号：US4065503A

  公开（公告）日：1977-12-27
• US4085149A
  申请人：——

  公开号：US4085149A

  公开（公告）日：1978-04-18
• US4175138A
  申请人：——

  公开号：US4175138A

  公开（公告）日：1979-11-20