3,3,5,5-tetramethyl-1,2,4-trithiolane 4-oxide | 705256-39-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 三硫杂环戊烷
• 英文名称: 3,3,5,5-tetramethyl-1,2,4-trithiolane 4-oxide
• 英文别名: 3,3,5,5-tetramethyl-1,2,4-trithiolane-4-oxide；3,3,5,5-Tetramethyl-1,2,4-trithiolane 4-oxide
• CAS: 705256-39-9
• 化学式: C₆H₁₂OS₃
• 分子量: 196.359
• InChiKey: XWETXSUEIBLHNI-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.1
• 重原子数：
  10
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  86.9
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  3,3,5,5-tetramethyl-1,2,4-trithiolane 4-oxide 生成 thioacetone S-sulfide 、 2-(Disulfanyl)prop-1-ene 、 硫代丙酮 、 2-propanethial S-oxide
  参考文献：
  名称：

  低温氩基质中取代氧杂环丙烷的光化学形成和反应性

  摘要：

  衍生自脂肪族和脂环族硫酮的硫代羰基 S-氧化物（亚砜）在 10 K 的氩基质中进行辐照，并通过计算和实验红外光谱的比较来鉴定所得氧硫杂环丙烷。在 10 K 光解后，根据取代模式，氧杂环丙烷经历 H 位移反应或区域选择性环扩大以形成相应的硫酯。将基体材料加热到 38-40 K 后，氧杂环丙烷进行快速脱硫以产生相应的酮。B3LYP/6-311+G(3df,3pd) 水平的密度泛函理论 (DFT) 计算表明氧硫杂环丁烷的脱硫作为双分子过程发生，活化焓接近 0 kcal mol–1。

  DOI：

  10.1002/ejoc.201100695
• 作为产物：
  描述：

  3,3,5,5-四甲基-1,2,4-三硫杂戊环 在 间氯过氧苯甲酸 作用下， 生成 3,3,5,5-tetramethyl-1,2,4-trithiolane 4-oxide
  参考文献：
  名称：

  低温氩基质中取代氧杂环丙烷的光化学形成和反应性

  摘要：

  衍生自脂肪族和脂环族硫酮的硫代羰基 S-氧化物（亚砜）在 10 K 的氩基质中进行辐照，并通过计算和实验红外光谱的比较来鉴定所得氧硫杂环丙烷。在 10 K 光解后，根据取代模式，氧杂环丙烷经历 H 位移反应或区域选择性环扩大以形成相应的硫酯。将基体材料加热到 38-40 K 后，氧杂环丙烷进行快速脱硫以产生相应的酮。B3LYP/6-311+G(3df,3pd) 水平的密度泛函理论 (DFT) 计算表明氧硫杂环丁烷的脱硫作为双分子过程发生，活化焓接近 0 kcal mol–1。

  DOI：

  10.1002/ejoc.201100695

文献信息

• Thermolysis of 3,3,5,5-Tetramethyl-1,2,4-trithiolane 1-Oxide: First Matrix Isolation of the HOSS· Radical
  作者：Hans Peter Reisenauer、Grzegorz Mloston、Jaroslaw Romanski、Peter R. Schreiner

  DOI：10.1002/ejoc.201200146

  日期：2012.6

  identified by comparison of their computed and experimental IR and UV/Vis spectra. In addition, density functional theory (DFT) computations offer a plausible explanation of the most likely reaction mechanism, suggesting that the initial step is a 1,3-H shift with simultaneous ring opening. A 1-oxatrisulfane derivative formed thereby undergoes fragmentations via a radical and a competitive concerted pathway

  3,3,5,5-四甲基-1,2,4-三硫杂环戊烷 1-氧化物在 700 °C 下进行快速真空热解，产生 1-氧杂三苯-3-基自由基 (HOSS·) 和一氧化二硫 (S2O)和二异丙基硫醚，它们在 10 K 的氩气基质中分离。在用紫外光照射后，1-氧杂三苯-3-基自由基发生异构化为 1-氧杂三苯-1-基自由基 (HSSO·)。通过比较它们的计算和实验 IR 和 UV/Vis 光谱来鉴定这两种自由基。此外，密度泛函理论 (DFT) 计算为最可能的反应机制提供了合理的解释，表明初始步骤是 1,3-H 位移同时开环。由此形成的 1-氧杂三硫烷衍生物通过自由基和竞争性协同途径发生碎片，导致观察到的最终产物。同样的机制也控制着二叔丁基二硫化物 S-氧化物的热裂解。它在 700 °C 下的热解提供了一组类似的产品，包括 1-oxatrisulfan-3-yl 自由基 (HOSS·) 作为关键中间体。
• Photochemical Formation and Reactivities of Substituted Oxathiiranes in Low-Temperature Argon Matrices
  作者：Hans Peter Reisenauer、Grzegorz Mloston、Jaroslaw Romanski、Peter R. Schreiner

  DOI：10.1002/ejoc.201100695

  日期：2011.11

  thioketones were irradiated in argon matrices at 10 K, and the resulting oxathiiranes were identified by comparison of computed and experimental IR spectra. Upon photolysis at 10 K, depending on the substitution pattern, the oxathiiranes underwent either H-shift reactions or regioselective ring enlargements to form the corresponding thioesters. After warming of the matrix material to 38–40 K, the oxathiiranes

  衍生自脂肪族和脂环族硫酮的硫代羰基 S-氧化物（亚砜）在 10 K 的氩基质中进行辐照，并通过计算和实验红外光谱的比较来鉴定所得氧硫杂环丙烷。在 10 K 光解后，根据取代模式，氧杂环丙烷经历 H 位移反应或区域选择性环扩大以形成相应的硫酯。将基体材料加热到 38-40 K 后，氧杂环丙烷进行快速脱硫以产生相应的酮。B3LYP/6-311+G(3df,3pd) 水平的密度泛函理论 (DFT) 计算表明氧硫杂环丁烷的脱硫作为双分子过程发生，活化焓接近 0 kcal mol–1。