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(E)-3-Chloro-N-(6,6-dimethyl-2-hepten-4-ynyl)-N-methylbenzo[b]thiophene-7-methanamine hydrochloride | 87906-33-0

中文名称
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中文别名
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英文名称
(E)-3-Chloro-N-(6,6-dimethyl-2-hepten-4-ynyl)-N-methylbenzo[b]thiophene-7-methanamine hydrochloride
英文别名
(E)-N-[(3-chloro-1-benzothiophen-7-yl)methyl]-N,6,6-trimethylhept-2-en-4-yn-1-amine;hydrochloride
(E)-3-Chloro-N-(6,6-dimethyl-2-hepten-4-ynyl)-N-methylbenzo[b]thiophene-7-methanamine hydrochloride化学式
CAS
87906-33-0
化学式
C19H22ClNS*ClH
mdl
——
分子量
368.37
InChiKey
INNKFGGCJAUIMK-GZOLSCHFSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    6.01
  • 重原子数:
    23
  • 可旋转键数:
    5
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.37
  • 拓扑面积:
    31.5
  • 氢给体数:
    1
  • 氢受体数:
    2

反应信息

  • 作为产物:
    描述:
    (E]-3-Chloro-N-(3-chloro-2-propenyl)-N-methylbenzo[b]-thiophene-7-methanamine三苯基膦正丁胺3,3-二甲基-1-丁炔氯化钯碘化亚铜 magnesium sulfate甲醇盐酸异丙醇 作用下, 以 四氢呋喃乙酸乙酯 为溶剂, 反应 24.0h, 以to obtain 0.77 g (yield: 70%) of the的产率得到(E)-3-Chloro-N-(6,6-dimethyl-2-hepten-4-ynyl)-N-methylbenzo[b]thiophene-7-methanamine hydrochloride
    参考文献:
    名称:
    Intermediates for producing enyne derivatives
    摘要:
    化合物的式子为:##STR1## 其中,R.sup.11是氢、低烷基、卤代低烷基、低烯基、低炔基或环烷基;R.sup.21是式子:##STR2## 其中,R.sup.3、R.sup.31和R.sup.32可以相同也可以不同,是氢或低烷基,R.sup.4、R.sup.5、R.sup.41和R.sup.51可以相同也可以不同,是氢、卤素、羟基、低烷基或低烷氧基,R.sup.42是羟基、卤素、R.sup.8 --O--或R.sup.6 --X--Y--,其中R.sup.6是苯基或噻吩基,可以有一个或两个取代基,X和Y可以相同也可以不同,是氧、硫、羰基、--CHR.sup.8 --或--NR.sup.b,或者X和Y一起形成乙烯基或乙炔基,但是当X和Y中的任意一个是氧、硫或--NR.sup.b时,另一个是羰基或--CHR.sup.a,R.sup.7是低烷基或环烷基,可以被羟基或低烷氧基、苯基或三低烷基硅基取代;W是氯或溴。
    公开号:
    US05359091A1
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文献信息

  • Process for producing enyne Derivatives
    申请人:BANYU PHARMACEUTICAL CO., LTD.
    公开号:EP0645369A2
    公开(公告)日:1995-03-29
    The invention relates to compounds of the formula wherein R11 is a hydrogen atom, a lower alkyl group, a halo lower alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group or a cycloalkyl group; R21 is a hydrogen atom or a group of the formula wherein each of R3, R31 and R32, which may be the same or different, is a hydrogen atom or a lower alkyl group, each of R4, R5, R41 and R51, which may be the same or different, is a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, a lower alkyl group or a lower alkoxy group, and R42 is a hydroxyl group, a halogen atom, a group of the formula B-O (wherein B is a protecting group for a hydroxyl group), a hydroxy methyl group, a formyl group, a carboxyl group, a lower alkoxy carbonyl group, a lower alkanoyl group, an amino group, a mercapto group or a group of the formula R6-X-Y-(wherein R6 is a phenyl or thienyl group which may have one or two substituents selected from the group consisting of a halogen atom, a hydroxyl group, a lower one or two substituents selected from the group consisting of a halogen atom, a hydroxyl group, a lower alkyl group, a cyano group, a lower alkoxy group and a heterocyclic group, each of X and Y, which may be the same or different, is an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group, a group of the formula -CHRa- (wherein Ra is a hydrogen atom or a lower alkyl group) or a group of the formula -NRb- (wherein Rb is a hydrogen atom or a lower alkyl group), or X and Y together form a vinylene group or an ethynylene group), provided that when either one of X and Y is an oxygen atom, a sulfur atom or a group of the formula -NRb- (wherein Rb is as defined above), the other is a carbonyl group or a group of the formula -CHRa- (wherein Ra is as defined above), and W is a halogen atom, and a process for preparing such compounds.
    本发明涉及式如下的化合物 其中 R11 是原子、低级烷基、卤代低级烷基、低级基、低级炔基或环烷基; R21 是原子或式中的基团 其中 R3、R31 和 R32(可以相同或不同)各自是原子或低级烷基,R4、R5、R41 和 R51(可以相同或不同)各自是原子、卤素原子、羟基、低级烷基或低级烷基,R42 是羟基、卤素原子、式 B-O 的基团(其中 B 是羟基的保护基)、羟甲基、甲酰基、羧基、低级烷基羰基、低级烷酰基、基、巯基或式 R6-X-Y- (其中 R6 为基或噻吩基,可具有一个或两个选自卤素原子、羟基、一个或两个选自卤素原子的低级取代基、羟基、低级烷基、基、低级烷基和杂环基,X 和 Y(可以相同或不同)分别是原子、原子、羰基、式 -CHRa-(其中 Ra 是原子或低级烷基)或式 -NRb-(其中 Rb 是原子或低级烷基)、或X和Y共同形成乙烯基乙炔基),条件是当X和Y中的一个是原子、原子或式-NRb-(其中Rb如上所定义)的基团时,另一个是羰基或式-CHRa-(其中Ra如上所定义)的基团,而W是卤素原子,以及制备此类化合物的工艺。
  • Process for producing enyne derivatives
    申请人:BANYU PHARMACEUTICAL CO., LTD.
    公开号:EP0421302B1
    公开(公告)日:1996-06-26
  • US5231183A
    申请人:——
    公开号:US5231183A
    公开(公告)日:1993-07-27
  • US5296612A
    申请人:——
    公开号:US5296612A
    公开(公告)日:1994-03-22
  • US5359091A
    申请人:——
    公开号:US5359091A
    公开(公告)日:1994-10-25
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