我们利用腈
亚胺介导的
四唑烯环加成(NI
TEC)
化学的λ正交光连接,通过简单的分层表面构图方法生成复杂的,相互连接的表面修饰。通过明智地选择激活发色团,我们引入了一锅反应,其中腈
亚胺的形成可以独立于存在的其他
四唑而被触发。当用可见光照射时,带有pyr发色团的
四唑经历氮的定量消除,从而释放出腈
亚胺(其随后在1,3双极性环加成中被双极性亲和剂捕获),而带有苯基部分的
四唑保持未反应。随后用紫外线照射溶液可产生N-苯基定量地含有腈
亚胺,而pyr
吡唑啉加合物保持不变。这种λ正交光连接随后被用于生成分层的图案化表面。具体来说,将可见光活性
四唑接枝到
硅片上,然后用经UV活性
四唑改性的亲双性体进行光刻构图。然后,依靠不同的光活化作用,以空间分辨的方式对各种缺电子的烯烃进行构图。使用飞行时间二次离子质谱(ToF-SIMS)在
硅晶片上成功成像了所需的功能,表明已经建立了强大的无掩模光刻平台技术。