2,4-dimethyl-3-mercaptomethyl-6-t-butylphenol | 38064-57-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2,4-dimethyl-3-mercaptomethyl-6-t-butylphenol
• 英文别名: 6-tert-Butyl-2,4-dimethyl-3-(sulfanylmethyl)phenol
• CAS: 38064-57-2
• 化学式: C₁₃H₂₀OS
• 分子量: 224.367
• InChiKey: GKWXYJOHDFZVBM-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  327.4±37.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.031±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.1
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.54
• 拓扑面积：
  21.2
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2,4-dimethyl-3-mercaptomethyl-6-t-butylphenol 、 3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzoyl chloride 在 三乙胺 作用下， 以 苯 为溶剂， 生成 2,6-Dimethyl-4-t-butyl-3-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxy benzoyloxy)benzyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxythiobenzoate
  参考文献：
  名称：

  Dual purpose stabilizer compounds and polymer compositions containing

  摘要：

  部分受阻巯基酚和3,5-二烷基-4-羟基苯甲酸及其相应的酸盐的二酯，其中该二酯对应于以下公式##STR1##其中R和R.sub.1相同，从以下选取##STR2##其中R.sub.6和R.sub.7是碳原子数为3至10的脂肪烃基；y为0-5；R.sub.2为具有4至10个碳原子的三级脂肪烃基或具有4至10个碳原子的脂环烃基，芳香环的连接碳原子被完全取代；R.sub.3为氢、卤素、具有1至10个碳原子的脂肪烃基或具有3至10个碳原子的脂环烃基；R.sub.4和R.sub.5为##STR3##其中A和A'独立选择自氢、碳原子数为1至10的脂肪烃基或碳原子数为3至10的脂环烃基。上述二酯对聚烯烃具有高效的抗氧化降解稳定剂作用，并且还在一定程度上保护这些材料免受紫外线降解的影响。

  公开号：

  US04163008A1
• 作为产物：
  描述：

  2-叔丁基-3-氯甲基-4,6-二甲基苯酚 在 三乙胺 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 生成 2,4-dimethyl-3-mercaptomethyl-6-t-butylphenol
  参考文献：
  名称：

  Dual purpose stabilizer compounds and polymer compositions containing

  摘要：

  部分受阻巯基酚和3,5-二烷基-4-羟基苯甲酸及其相应的酸盐的二酯，其中该二酯对应于以下公式##STR1##其中R和R.sub.1相同，从以下选取##STR2##其中R.sub.6和R.sub.7是碳原子数为3至10的脂肪烃基；y为0-5；R.sub.2为具有4至10个碳原子的三级脂肪烃基或具有4至10个碳原子的脂环烃基，芳香环的连接碳原子被完全取代；R.sub.3为氢、卤素、具有1至10个碳原子的脂肪烃基或具有3至10个碳原子的脂环烃基；R.sub.4和R.sub.5为##STR3##其中A和A'独立选择自氢、碳原子数为1至10的脂肪烃基或碳原子数为3至10的脂环烃基。上述二酯对聚烯烃具有高效的抗氧化降解稳定剂作用，并且还在一定程度上保护这些材料免受紫外线降解的影响。

  公开号：

  US04163008A1

文献信息

• Diester and polymeric compositions containing it
  申请人：The B.F. GOODRICH Company

  公开号：EP0004762A2

  公开（公告）日：1979-10-17

  The present invention provides diesters of the formula wherein R and R, are the same and each is selected from with Re and R7 each being an aliphatic hydrocarbon radical of 3 to 10 carbon atoms; and y being 0-5; R2 is a tertiary aliphatic hydrocarbon radical having from 4 to 10 carbon atoms or an alicyclic hydrocarbon radical having from 4 to 10 carbon atoms, where the carbon atom of attachment to the aromatic ring is fully substituted; R3 is hydrogen, halogen, an aliphatic hydrocarbon radical having from 1 to 10 carbon atoms or an alicyclic hydrocarbon radical having from 3 to 10 carbon atoms; and R. and R, are each where A and A' are independently selected from among hydrogen, an aliphatic hydrocarbon radical of 1 to 10 carbon atoms or an alicyclic hydrocarbon radical of 3 to 10 carbon atoms. The invention includes compositions comprising a polymer and at least one diester of the formula given above.

  本发明提供式如下的二酯 其中 R 和 R, 相同且各自选自以下各项 Re和R7各自为3至10个碳原子的脂肪族烃基；y为0-5； R2 是具有 4 至 10 个碳原子的叔脂族烃基，或具有 4 至 10 个碳原子的脂环族烃基，其中与芳香环相连的碳原子被完全取代； R3 是氢、卤素、具有 1 至 10 个碳原子的脂肪族烃基或具有 3 至 10 个碳原子的脂环族烃基；以及 R. 和 R, 分别是 其中 A 和 A'独立地选自氢、1 至 10 个碳原子的脂肪烃基或 3 至 10 个碳原子的脂环烃基。 本发明包括由聚合物和至少一种上式二酯组成的组合物。
• LUBRICATING OIL COMPOSITION FOR INTERNAL COMBUSTION ENGINES
  申请人：Umehara Kazuhiro

  公开号：US20130310289A1

  公开（公告）日：2013-11-21

  Provided is a lubricating oil composition for an internal combustion engine, including: an organic molybdenum compound as a component (A); a base oil having a kinematic viscosity at 100 ° C. of 25 mm 2 /s or more as a component (B); and a base oil having a kinematic viscosity at 100° C. of less than 12.5 mm 2 /s as a component (C), in which the composition has a kinematic viscosity at 100° C. of 5 mm 2 /s to 12.5 mm 2 /s and a phosphorus content of 800 ppm or less.
• DEVELOPER, PATTERN FORMING METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US20180186907A1

  公开（公告）日：2018-07-05

  Provided is a pattern forming method including the successive steps of: a resist film forming step of forming a resist film using an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition; an exposure step of exposing the resist film; a step of developing the exposed resist film using a developer, and a step of rinsing the developed resist film using a rinsing liquid containing an organic solvent. The developer includes a ketone-based or ether-based solvent having a branched alkyl group. The organic solvent contained in the rinsing liquid includes an ether-based solvent having a branched alkyl group.
• US4163008A
  申请人：——

  公开号：US4163008A

  公开（公告）日：1979-07-31
• US4284790A
  申请人：——

  公开号：US4284790A

  公开（公告）日：1981-08-18