The direct functionalization of Si–H bonds by the nitrene insertion methodology is described. A copper(I) complex bearing a trispyrazolylborate ligand catalyzes the transfer of a nitrene group from PhI═NTs to the Si–H bond of silanes, disilanes, and siloxanes, leading to the exclusive formation of Si–NH moieties in the first example of this transformation. The process tolerates other functionalities
描述了通过氮烯插入方法对 Si-H 键的直接功能化。带有三
吡唑基
硼酸盐
配体的
铜 (I) 配合物催化氮烯基团从 PhI=NTs 转移到
硅烷、二
硅烷和
硅氧烷的 Si-H 键,导致在第一个例子中独家形成 Si-NH 部分这种转变。该过程允许衬底中的其他功能,例如几个 C-H 键以及直接键合到
硅中心的
炔烃和烯烃部分。密度泛函理论 (DFT) 计算提供了一种机械解释,包括 Si-H 均裂和随后反弹到以 Si 为中心的自由基。