2-萘-1-基苯酚 | 101277-90-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 中文名称: 2-萘-1-基苯酚
• 英文名称: 1-(2′-hydroxyphenyl)naphthalene
• 英文别名: 2-(naphthalen-1-yl)phenol；2-(naphth-1-yl)phenol；2-(1-naphthyl)phenol；2-Hydroxy-1-(naphthyl-(1))-benzol；2-[1]Naphthyl-phenol；α-Naphthyl-phenol；2-naphthalen-1-ylphenol
• CAS: 101277-90-1
• 化学式: C₁₆H₁₂O
• mdl: MFCD18312933
• 分子量: 220.271
• InChiKey: NTRXCTZXSALJEY-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  60-61.5 °C
• 沸点：
  163-170 °C(Press: 3 Torr)
• 密度：
  1.176±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.4
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  20.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

安全信息

• 储存条件：
  室温

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-萘-1-基苯酚 在 palladium on activated charcoal 、 氧气 作用下， 以 水 、 甲苯 、 乙腈 为溶剂， 反应 0.33h， 生成 7-氧杂-7H-苯并[de]蒽
  参考文献：
  名称：

  中间体醌甲基苯甲酸酯对苯酚的光环化和光加成反应

  摘要：

  制备了一系列的五种2-苯酚苯甲酰化衍生物，并对其光化学进行了研究。这些中的两个（3-苯基-2-萘酚10和1-苯基-2-萘酚11）是光惰性的。对于2-（1-萘基）苯酚（12）和1-（1-萘基）-2-萘酚（13），ESPT发生在萘环的2'-位或7'-位，得到进行反质子转移（RPT）或环电闭合以生成二氢苯并氧杂蒽的醌甲基化物（QMs）。检测了12和13的中间QM，并通过激光闪光光解进行了表征。对于2-（9-菲基）苯酚（14），ESPT发生在5'位以得到经过定量电环闭环的QM，以得到相应的苯并氧杂蒽，或在10'位发生以得到经历RPT的QM。如果溶液含有甲醇中，QM上ESPT产生至10'-位置14可以被捕获作为光加成产物。在这项工作中研究的化合物证明了ESPT之后产生的QM与芳族碳原子的三种可能反应：（1）反向质子转移（RPT）以再生起始原料；（2）加入羟基溶剂得到光致加成产物；（3）通过电环闭环得到苯并氧杂蒽衍生物。

  DOI：

  10.1021/acs.joc.5b01580
• 作为产物：
  描述：

  (+/-)-1-Hydroxy-1-(2-methoxy-phenyl)-1.2.3.4-tetrahydro-naphthalin 在 palladium on activated charcoal 、 氢溴酸 、 溶剂黄146 作用下， 生成 2-萘-1-基苯酚
  参考文献：
  名称：

  Aromatic Cyclodehydrogenation. VI. Synthesis of Ring Oxygen Compounds¹

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ja01182a018

文献信息

• MATERIAL FOR FORMING ORGANIC FILM, METHOD FOR FORMING ORGANIC FILM, PATTERNING PROCESS, AND COMPOUND
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20210286266A1

  公开（公告）日：2021-09-16

  The present invention is a material for forming an organic film, including: a compound shown by the following general formula (1); and an organic solvent, where in the general formula (1), X represents an organic group with a valency of “n” having 2 to 50 carbon atoms or an oxygen atom, “n” represents an integer of 1 to 10 , and R 1 independently represents any of the following general formulae (2), where in the general formulae (2), broken lines represent attachment points to X, and Q 1 represents a monovalent organic group containing a carbonyl group, at least a part of which is a group shown by the following general formulae (3), where in the general formulae (3), broken lines represent attachment points, X 1 represents a single bond or a divalent organic group having 1 to 20 carbon atoms optionally having a substituent when the organic group has an aromatic ring, R 2 represents a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, or a phenyl group, and ** represents an attachment point. An object of the present invention is to provide a material for forming an organic film for forming an organic film having dry etching resistance, and also having high filling and planarizing properties and adhesion to a substrate.

  本发明是一种用于形成有机薄膜的材料，包括：由以下通用式（1）所示的化合物；和有机溶剂，在通用式（1）中，X代表具有2至50个碳原子或一个氧原子的价为“n”的有机基团，“n”表示1到10的整数，R1独立地表示以下通用式（2）中的任何一种，其中在通用式（2）中，虚线表示连接点到X，Q1表示含有羰基的一价有机基团，其中至少部分是以下通用式（3）所示的基团，其中在通用式（3）中，虚线表示连接点，X1表示单键或具有1到20个碳原子的二价有机基团，在有机基团具有芳香环时可选地具有取代基，R2表示氢原子、甲基基团、乙基基团或苯基团，**表示连接点。本发明的目的是提供一种用于形成具有干法刻蚀抗性的有机薄膜的材料，同时具有高填充和平整化性能以及对基底的粘附性。
• COMPOUND, RESIN, MATERIAL FOR FORMING UNDERLAYER FILM FOR LITHOGRAPHY, UNDERLAYER FILM FOR LITHOGRAPHY, PATTERN FORMING METHOD, AND METHOD FOR PURIFYING THE COMPOUND OR RESIN
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：US20170073288A1

  公开（公告）日：2017-03-16

  The compound according to the present invention is represented by a specific formula. The compound according to the present invention has a structure according to the specific formula, and therefore can be applied to a wet process and is excellent in heat resistance and etching resistance. In addition, the compound according to the present invention has such a specific structure, and therefore has a high heat resistance, a relatively high carbon concentration, a relatively low oxygen concentration and also a high solvent solubility. Therefore, the compound according to the present invention can be used to form an underlayer film whose degradation is suppressed at high-temperature baking and which is also excellent in etching resistance to oxygen plasma etching or the like. Furthermore, the compound is also excellent in adhesiveness with a resist layer and therefore can form an excellent resist pattern.

  根据本发明，该化合物由特定的公式表示。根据本发明，该化合物具有特定公式的结构，因此可应用于湿法工艺，具有优异的耐热性和耐蚀性。此外，根据本发明，该化合物具有特定结构，因此具有高耐热性、相对较高的碳浓度、相对较低的氧浓度以及高溶剂溶解性。因此，根据本发明的化合物可用于形成在高温烘烤时降解受抑制且在氧等离子体蚀刻中具有优异耐蚀性的底层膜。此外，该化合物在与光阻层的粘附性方面也表现出色，因此可形成优异的光阻图案。
• COMPOSITION FOR RESIST UNDERLAYER FILM FORMATION, UNDERLAYER FILM FOR LITHOGRAPHY, AND PATTERN FORMATION METHOD
  申请人：MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.

  公开号：US20200249573A1

  公开（公告）日：2020-08-06

  The present invention provides a composition for resist underlayer film formation comprising a tellurium-containing compound or a tellurium-containing resin.

  本发明提供了一种用于抗蚀底层膜形成的组合物，其包括含碲化合物或含碲树脂。
• OPTICAL COMPONENT FORMING COMPOSITION AND CURED PRODUCT THEREOF
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：US20200262787A1

  公开（公告）日：2020-08-20

  The present invention provides an optical component forming composition comprising a tellurium-containing compound or a tellurium-containing resin.

  本发明提供了一种包括含碲化合物或含碲树脂的光学元件成型组合物。
• Biaryloxymethylarenecarboxylic acids as glycogen synthase activators
  申请人：Gillespie Paul

  公开号：US20060122256A1

  公开（公告）日：2006-06-08

  The present invention relates to compounds of formula (I) wherein Ar, Ar 2 , R 2 , R 3 , R 4 , m, p and s are as defined in the description and claims, and pharmaceutically acceptable salts thereof. The compounds are useful for the treatment and/or prophylaxis of diseases that are associated with the activation of the glycogen synthase enzyme, such as diabetes.

  本发明涉及以下式(I)的化合物，其中Ar、Ar2、R2、R3、R4、m、p和s如描述和索赔中所定义，并且其药学上可接受的盐。这些化合物可用于治疗和/或预防与糖原合成酶激活相关的疾病，如糖尿病。