1,1,1,3,3,3-hexamethyl-2-(4-N,N-dimethylaminophenyl)-2-(trimethylsilyl)trisilane | 1236161-22-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氮化合物
• 英文名称: 1,1,1,3,3,3-hexamethyl-2-(4-N,N-dimethylaminophenyl)-2-(trimethylsilyl)trisilane
• 英文别名: N,N-dimethyl-4-tris(trimethylsilyl)silylaniline
• CAS: 1236161-22-0
• 化学式: C₁₇H₃₇NSi₄
• 分子量: 367.829
• InChiKey: SXBOYLCOAJPGPN-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.66
• 重原子数：
  22
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.65
• 拓扑面积：
  3.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  三(三甲基硅基)硅烷 、 4-碘-N,N-二甲基苯胺 在 二(三叔丁基膦)钯 、 N,N-二异丙基乙胺 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 72.0h， 以58%的产率得到1,1,1,3,3,3-hexamethyl-2-(4-N,N-dimethylaminophenyl)-2-(trimethylsilyl)trisilane
  参考文献：
  名称：

  Facile synthesis of hypersilylated aromatic compounds by palladium-mediated arylation reaction

  摘要：

  在Pd(P(tBu)3)2和Hünig碱的存在下，芳基碘化物与三(三甲基硅基)硅烷反应，在温和条件下形成了超硅烷化芳香产物，产率良好至优秀，且未发生弱Si-Si键的断裂。

  DOI：

  10.1039/c0cc00352b

文献信息

• Dual photoredox nickel-catalyzed silylation of aryl/heteroaryl bromides using hydrosilanes
  作者：Shuai Liu、Frédéric Robert、Yannick Landais

  DOI：10.1039/d3cc03246a

  日期：——

  Dual Ni and Ir catalysis enables the preparation of arylsilanes having a (TMS)3Si substituent from the corresponding aryl bromides and (TMS)3SiH at 30 °C using visible-light irradiation. This protocol avoids strong bases, high temperature and air and moisture sensitive silyl reagents, providing the expected arylsilanes in moderate to good yields. The reaction was shown to proceed through a silyl radical

  Ni 和 Ir 双催化能够在 30 °C 下使用可见光照射从相应的芳基溴和 (TMS) 3 SiH 制备具有 (TMS) 3 Si 取代基的芳基硅烷。该方案避免了强碱、高温以及对空气和湿度敏感的甲硅烷基试剂，以中等至良好的收率提供了预期的芳基硅烷。该反应通过甲硅烷基自由基进行，该甲硅烷基自由基可能是通过溴自由基从 (TMS) 3 SiH 中夺取氢原子而产生的。