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2,15-dimethyl-3,14-dioxa-7,10-dioxo-5,12-dithia-4,13-dithioxohexadecane | 72444-46-3

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
2,15-dimethyl-3,14-dioxa-7,10-dioxo-5,12-dithia-4,13-dithioxohexadecane
英文别名
O-propan-2-yl (2,5-dioxo-6-propan-2-yloxycarbothioylsulfanylhexyl)sulfanylmethanethioate
2,15-dimethyl-3,14-dioxa-7,10-dioxo-5,12-dithia-4,13-dithioxohexadecane化学式
CAS
72444-46-3
化学式
C14H22O4S4
mdl
——
分子量
382.59
InChiKey
XILKXDGYDLQOBW-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
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计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    4.1
  • 重原子数:
    22
  • 可旋转键数:
    13
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.71
  • 拓扑面积:
    167
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    8

反应信息

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文献信息

  • Cyclically substituted fulvalenophanes
    申请人:Basf Aktiengesellschaft
    公开号:US04298751A1
    公开(公告)日:1981-11-03
    Cyclically substituted fulvalenophanes of the formula ##STR1## where X is S, Se or Te, R is H or lower alkyl, A is --(CH.sub.2).sub.n --and Z is a radical of the formula ##STR2## a p-phenylene radical or a quinodimethane radical of the formula ##STR3## where the radicals R.sup.2 and R.sup.3 are halogen, carboxylic acid ester groups or cyano and R.sup.3 may also be hydrogen, and the quinodimethane ring may be substituted by halogen, nitro or cyano.
    公式为##STR1##的环状取代富瓦伦烯,其中X为S、Se或Te,R为H或较低的烷基,A为--(CH.sub.2).sub.n--,Z为公式##STR2##的基团,p-苯基基团或公式##STR3##的醌二甲烷基团,其中基团R.sup.2和R.sup.3为卤素、羧酸酯基团或氰基,R.sup.3也可能为氢,醌二甲烷环可能被卤素、硝基或氰基取代。
  • Cyclisch substituierte Fulvalenophane, ihre Herstellung und Verwendung
    申请人:BASF Aktiengesellschaft
    公开号:EP0026846A1
    公开(公告)日:1981-04-15
    Cyclisch substituierte Fulvalenophane der Formel in der X S, Se oder Te, R H oder niederes Alkyl A einen -(CH2)n-Rest und Z einen Rest der Formel einen p-Phenylenrest oder einen Chinodimethanrest der Formel in dem die Reste R2 und R3 Halogenatome, Carbonestergruppen oder Cyangruppen bedeuten und R3 außerdem für ein Wasserstoffatom stehen kann, sowie ein Verfahren zur Herstellung dieser Fulvalenophane und ihre Verwendung für die Herstellung von elektrischen Halbleitern.
    式中 X 为 S、Se 或 Te,R 为 H 或低级烷基。 其中 X 是 S、Se 或 Te,R 是 H 或低级烷基 A 是-(CH2)n 自由基,Z 是式中的自由基 式中,X 是 S 或 Te,R 是 H 或低级烷基。 其中基团 R2 和 R3 是卤素原子、碳酯基团或氰基,R3 也可以是氢原子,以及制备这些氟戊烯烷的工艺和它们在制备电子半导体中的用途。
  • US4298751A
    申请人:——
    公开号:US4298751A
    公开(公告)日:1981-11-03
  • Ippen, Joachim; Tao-pen, Chu; Starker, Barbara, Angewandte Chemie, 1980, vol. 92, # 1, p. 51 - 52
    作者:Ippen, Joachim、Tao-pen, Chu、Starker, Barbara、Schweitzer, Dieter、Staab, Heinz A.
    DOI:——
    日期:——
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