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N,N,N',N'-tetraethyltoluene-α,α-diamine | 119670-57-4

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
N,N,N',N'-tetraethyltoluene-α,α-diamine
英文别名
N,N,N',N'-tetraethylbenzylidenediamine;N,N,N',N'-tetraethyl-1-phenylmethanediamine
N,N,N',N'-tetraethyltoluene-α,α-diamine化学式
CAS
119670-57-4
化学式
C15H26N2
mdl
——
分子量
234.385
InChiKey
WDWCKWXWAHQQGP-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    3.4
  • 重原子数:
    17
  • 可旋转键数:
    7
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.6
  • 拓扑面积:
    6.5
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    2

反应信息

  • 作为产物:
    描述:
    (p-chlorophenyl)bis(diethylamino)arsine 、 苯甲醛 为溶剂, 反应 8.0h, 以86%的产率得到N,N,N',N'-tetraethyltoluene-α,α-diamine
    参考文献:
    名称:
    Kokorev, G. I., Journal of general chemistry of the USSR, 1990, vol. 60, # 2.2, p. 408 - 409
    摘要:
    DOI:
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文献信息

  • Absence of the ‘p-nitro effect’ in the photochemical reactions of 3-chloro-3-aryldiazirines in the presence of amines
    作者:Hideo Tomioka、Fusao Haya、Kunihiko Suzuki
    DOI:10.1039/c39880001090
    日期:——
    Photochemical generation of arylchlorocarbenes from 3-chloro-3-aryldiazirines in the presence of diethylamine afforded N,N,N′,N′-tetraethylbenzylidenediamines regardless of the nature of the aryl substituent.
    在二乙胺存在下,由3-氯-3-芳基重氮化合物光化学生成芳基氯卡宾,无论芳基取代基的性质如何,均可提供N,N,N ',N'-四乙基苄二烯二胺。
  • Process for disproportionating silanes
    申请人:MITSUI TOATSU CHEMICALS, Inc.
    公开号:EP0206621A1
    公开(公告)日:1986-12-30
    A process for disproportionating silanes, which comprises contacting a silane having at least one Si-H bond represented by the general formula wherein R represents an alkyl or aryl group, X represents a halogen atom or an alkoxy group, ℓis 0, 1 or 2, and m is 1, 2 or 3 and ℓ+m is 1, 2 or 3, and when fis 2, R's may be identical or different, and when ℓ+m is 1 or 2, X's may be identical or different, with a reaction product of a strong acid-type cation exchange resin with an amine.
    一种歧化硅烷的工艺,其包括与具有至少一个 Si-H 键的硅烷接触,该硅烷由通式表示 其中 R 代表烷基或芳基,X 代表卤素原子或烷氧基,ℓ 为 0、1 或 2,m 为 1、2 或 3,ℓ+m 为 1、2 或 3,当 f 为 2 时,R 可以相同或不同,当 ℓ+m 为 1 或 2 时,X 可以相同或不同。
  • Resin composition for laser engraving, relief printing starting plate for laser engraving and process for producing the same
    申请人:Fujifilm Corporation
    公开号:EP2301750A1
    公开(公告)日:2011-03-30
    A resin composition for laser engraving is provided that includes (a) a binder polymer having a reactive group, (b) a compound having a hydrophilic group and a bonding group that can react with the reactive group, and (c) a crosslinking agent.
    提供了一种用于激光雕刻的树脂组合物,其中包括 (a) 具有活性基团的粘合剂聚合物,(b) 具有亲水性基团和可与活性基团反应的键合基团的化合物,以及 (c) 交联剂。
  • Modified conjugated diene-based polymer and method for producing the same, and modified conjugated diene-based polymer composition
    申请人:Asahi Kasei Kabushiki Kaisha
    公开号:US10766972B2
    公开(公告)日:2020-09-08
    The present invention provides a modified conjugated diene-based polymer, wherein the Mooney stress-relaxation rate measured at 110° C. is 0.45 or less, and the modification percentage is 75% by mass or more.
    本发明提供了一种改性共轭二烯基聚合物,其中在 110° C 时测得的门尼应力松弛率为 0.45 或更低,改性百分比为 75% 或更高。
  • KOKOREV, G. I., ZH. OBSHCH. XIMII, 60,(1990) N, S. 469-471
    作者:KOKOREV, G. I.
    DOI:——
    日期:——
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