2,6-Bis-(hydroxymethyl)-4-cumylphenol | 108005-78-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2,6-Bis-(hydroxymethyl)-4-cumylphenol
• 英文别名: 2,6-Bis(hydroxymethyl)-4-(2-phenylpropan-2-yl)phenol
• CAS: 108005-78-3
• 化学式: C₁₇H₂₀O₃
• 分子量: 272.344
• InChiKey: PAVQDQDHWSQFBC-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.1
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.29
• 拓扑面积：
  60.7
• 氢给体数：
  3
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2,6-Bis-(hydroxymethyl)-4-cumylphenol 在 盐酸 、 三乙胺 作用下， 以 1,4-二氧六环 为溶剂， 反应 18.0h， 生成
  参考文献：
  名称：

  Pasch, H., Journal fur praktische Chemie (Leipzig 1954), 1987, vol. 329, # 6, p. 1143 - 1146

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  聚合甲醛 、 4-肉桂苯酚 在 sodium hydroxide 作用下， 以 水 为溶剂， 反应 12.0h， 以41.1%的产率得到2,6-Bis-(hydroxymethyl)-4-cumylphenol
  参考文献：
  名称：

  Pasch, H., Journal fur praktische Chemie (Leipzig 1954), 1987, vol. 329, # 6, p. 1143 - 1146

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Neue, strahlungsempfindliche Verbindungen, hiermit hergestelltes strahlungsempfindliches Gemisch und Aufzeichnungsmaterial
  申请人：HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：EP0369219A1

  公开（公告）日：1990-05-23

  Die Erfindung betrifft neue strahlungsempfindliche Verbindungen, die Ester oder Amide einer 1,2-Naphthochinon-(2)-diazid-4-sulfonsäure der allgemeinen Formel darstellen, worin R1 und R2 gleich oder verschieden sind und Wasserstoff, eine Alkyl-, Alkylether- oder Alkylthioethergruppe, deren Kohlenstoffketten durch Ethersauerstoffatome unterbrochen sein können, eine Acylamino-, Carbonsäureester-, Sulfonsäureester- oder Sulfonamidgruppe bedeuten, wobei R1 und R2 nicht gleichzeitig Wasserstoff sind. Die Verbindungen werden als strahlungsempfindliche Komponente in strahlungsempfindlichen Gemischen verwendet, mit denen entsprechende Aufzeichnungsmaterialien hergestellt werden können. Die Verbindungen haben eine nach längeren Wellenlängen gerichtete Absorption in Anpassung an den Emissionsbereich handelsüblicher Strahlungsquellen. Sie gestatten auch in sicherer und praktischer Weise die Durchführung von negativ arbeitenden Bildumkehrprozessen.

  本发明涉及新型辐射敏感化合物，它们是通式为 1,2-萘醌-(2)-二叠氮-4-磺酸的酯或酰胺。 其中 R1和R2相同或不同，并且是氢、烷基、烷基醚或烷基硫醚基团（其碳链可被醚氧原子打断）、酰氨基、羧酸酯、磺酸酯或磺酰胺基团，其中 R1 和 R2 不同时为氢。 这些化合物可用作辐射敏感混合物中的辐射敏感成分，用它们可以生产出相应的记录材料。这些化合物的吸收波长较长，与市售辐射源的发射范围相适应。它们还能以安全实用的方式实现负像反转过程。
• DEVELOPER FOR RECORDING MATERIALS
  申请人：Asahi Kasei Chemicals Corporation

  公开号：EP1637337A1

  公开（公告）日：2006-03-22

  A developer which contains a triphenolic compound (B) being a triphenolic compound (A) of the general formula (1) satisfying the requirements: (a) an OH group is present at one or more of 4- and 4'-positions of the left and right aromatic rings and (b) at least one of the substituents adjacent to at least one OH group on the left or right aromatic rings is hydrogen and which exhibits high sensitivity and image stability of images and less fog in non-image areas; and color forming materials and thermal recording materials made by using the same.

  一种含有三酚类化合物（B）的显影剂，该三酚类化合物（B）是通式（1）的三酚类化合物（A），满足以下要求：(a) 在左芳香环和右芳香环的 4- 位和 4'- 位中的一个或多个位置上有一个羟基；(b) 与左芳香环或右芳香环上的至少一个羟基相邻的取代基中至少有一个是氢，并且该显影剂具有高灵敏度和图像稳定性，非图像区域的雾气较少；以及使用该显影剂制成的色彩形成材料和热敏记录材料。
• PASCH, H., J. PRAKT. CHEM., 329,(1987) N 6, 1143-1146
  作者：PASCH, H.

  DOI：——

  日期：——
• Developer for recording materials
  申请人：Takahashi Hideaki

  公开号：US20070099130A1

  公开（公告）日：2007-05-03

  A developer which contains a triphenolic compound (B) being a triphenolic compound (A) of the general formula (1) satisfying the requirements: (a) an OH group is present at one or more of 4- and 4′-positions of the left and right aromatic rings and (b) at least one of the substituents adjacent to at least one OH group on the left or right aromatic rings is hydrogen and which exhibits high sensitivity and image stability of images and less fog in non-image areas; and color forming materials and thermal recording materials made by using the same.
• US5114816A
  申请人：——

  公开号：US5114816A

  公开（公告）日：1992-05-19