((1-methoxyethoxy)methyl)benzene | 1146218-81-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: ((1-methoxyethoxy)methyl)benzene
• 英文别名: 1-Methoxyethoxymethylbenzene
• CAS: 1146218-81-6
• 化学式: C₁₀H₁₄O₂
• 分子量: 166.22
• InChiKey: KXEGUPMBSYLFCG-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  201.5±15.0 °C(Predicted)
• 密度：
  0.987±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.4
• 拓扑面积：
  18.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  ((1-methoxyethoxy)methyl)benzene 在 2,4,6-三甲基吡啶 、 三乙基硅基三氟甲磺酸酯 、 水 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 0.5h， 以83%的产率得到苯甲醇
  参考文献：
  名称：

  Mild and Efficient Deprotection of Acetal-Type Protecting Groups of Hydroxyl Functions by Triethylsilyl Triflate — 2,4,6-Collidine Combination

  摘要：

  Deprotection of acetal-type protecting groups of hydroxyl functions has been studied in detail. The treatment of alcohol derivatives protected by acetal-type protecting groups with TESOTf-2,4,6-collidine followed by H(2)O-treatment produces the corresponding hydroxyl compounds in good yields. The characteristic features of the method are very mild and chemoselective, and acid-labile functional groups can tolerate these conditions.

  DOI：

  10.3987/com-08-s(f)88
• 作为产物：
  描述：

  二甲氧基乙烷 、 苯甲醇 在 2,4,6-三甲基吡啶 、 三氟甲磺酸三甲基硅酯 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 0.5h， 以18%的产率得到((1-methoxyethoxy)methyl)benzene
  参考文献：
  名称：

  Mild and Efficient Deprotection of Acetal-Type Protecting Groups of Hydroxyl Functions by Triethylsilyl Triflate — 2,4,6-Collidine Combination

  摘要：

  Deprotection of acetal-type protecting groups of hydroxyl functions has been studied in detail. The treatment of alcohol derivatives protected by acetal-type protecting groups with TESOTf-2,4,6-collidine followed by H(2)O-treatment produces the corresponding hydroxyl compounds in good yields. The characteristic features of the method are very mild and chemoselective, and acid-labile functional groups can tolerate these conditions.

  DOI：

  10.3987/com-08-s(f)88

文献信息

• Decarboxylative Acetoxylation of Aliphatic Carboxylic Acids
  作者：Sameera Senaweera、Kaitie C. Cartwright、Jon A. Tunge

  DOI：10.1021/acs.joc.9b02092

  日期：2019.10.4

  with regioselectivity. An alternative approach is to use ubiquitous carboxylic acids as starting materials and perform a decarboxylative coupling. Herein, we report conditions for a photocatalytic decarboxylative C-O bond formation reaction that provides rapid and facile access to the corresponding acetoxylated products. Mechanistic investigations suggest that the reaction operates via oxidation of the

  带有乙酰氧基部分的有机分子在天然产物，药物和农药中是重要的功能。通过在过渡金属催化的CO键形成中合成此类分子可以在精心选择的导向基团的存在下实现，以减轻与区域选择性有关的挑战。一种替代方法是使用普遍存在的羧酸作为起始原料并进行脱羧偶联。在此，我们报告了光催化脱羧CO键形成反应的条件，该条件提供了快速便捷地获得相应的乙酰氧基化产物的途径。机理研究表明，该反应通过羧酸盐的氧化，随后的快速脱羧和Cu（OAc）2的氧化来进行。
• RESIST COMPOSITION CONTAINING NOVEL SULFONIUM COMPOUND, PATTERN-FORMING METHOD USING THE RESIST COMPOSITION, AND NOVEL SULFONIUM COMPOUND
  申请人：KAMIMURA Sou

  公开号：US20090042124A1

  公开（公告）日：2009-02-12

  A resist composition includes (A) a compound represented by the following formula (I): wherein each of R 1 to R 13 independently represents a hydrogen atom or a substituent, provided that at least one of R 1 to R 13 is a substituent containing an alcoholic hydroxyl group; Z represents a single bond or a divalent linking group; and X − represents an anion containing a proton acceptor functional group.

  一种抗性组合物包括(A)由以下公式（I）所代表的化合物：其中R1至R13中的每一个独立地代表氢原子或取代基，前提是R1至R13中至少有一个是含有醇羟基的取代基；Z代表单键或二价连接基团；X-代表含有质子受体功能基团的阴离子。
• CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION, AND MOLD PREPARATION METHOD AND RESIST FILM USING THE SAME
  申请人：Fujimori Toru

  公开号：US20120006788A1

  公开（公告）日：2012-01-12

  A chemical amplification resist composition that is used for preparation of a mold, and a mold preparation method and a resist film each using the composition are provided.

  提供一种用于制备模具的化学放大型光阻组合物，以及使用该组合物的模具制备方法和光阻膜。
• Holographic recording medium
  申请人：Kabushiki Kaisha Toshiba

  公开号：EP1939686A1

  公开（公告）日：2008-07-02

  A holographic recording medium (12) is provided, which includes a recording layer (19) comprising a three-dimensional cross-linking polymer matrix, a radical polymeric compound, and a photo-radical polymerization initiator. The three-dimensional cross-linking polymer matrix is represented by the following general formula (1): where m is an integer ranging from 3 to 16.

  提供了一种全息记录介质（12），它包括一个记录层（19），记录层由三维交联聚合物基体、自由基聚合物化合物和光致发光聚合引发剂组成。三维交联聚合物基质由以下通式（1）表示： 其中 m 为 3 至 16 的整数。
• Halogen-substituierte Verbindungen als Pestizide
  申请人：Bayer CropScience AG

  公开号：EP2184273A1

  公开（公告）日：2010-05-12

  Die Erfindung betrifft Verbindungen der allgemeinen Formel (I), in welcher die Reste A1, A2, A3, A4, Lm, Q, R1, T und T die in der Beschreibung angegebene Bedeutung besitzen sowie die Verwendung der Verbindungen zur Bekämpfung von tierischen Schädlingen. Ferner betrifft die Erfindung Verfahren und Intermediate zur Herstellung der Verbindungen gemäß Formel (I).

  本发明涉及通式 (I) 的化合物、 其中自由基 A1、A2、A3、A4、Lm、Q、R1、T 和 T 的含义，以及该化合物在防治动物害虫方面的用途。本发明还涉及根据式（I）制备化合物的工艺和中间体。