5-hydroxy-2-naphthaldehyde | 205586-09-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: 5-hydroxy-2-naphthaldehyde
• 英文别名: 5-hydroxynaphthalene-2-carbaldehyde
• CAS: 205586-09-0
• 化学式: C₁₁H₈O₂
• 分子量: 172.183
• InChiKey: OICKVYPSMSVPLA-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  373.4±15.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.288±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.1
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  37.3
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  5-hydroxy-2-naphthaldehyde 在 三乙酰氧基硼氢化钠 、 caesium carbonate 、 溶剂黄146 作用下， 以 1,2-二氯乙烷 、 叔丁醇 为溶剂， 反应 32.0h， 生成 ethyl 3-(((5-((trans-4-(tert-butyl)cyclohexyl)oxy)naphthalen-2-yl)methyl)amino)-2,2-dimethylcyclobutanecarboxylate
  参考文献：
  名称：

  [EN] COMPOUNDS THAT ARE S1P MODULATING AGENTS AND/OR ATX MODULATING AGENTS
  [FR] COMPOSÉS ÉTANT DES AGENTS DE MODULATION DE S1P ET/OU DES AGENTS DE MODULATION D'ATX

  摘要：

  式（I）的化合物可以调节一个或多个SIP受体的活性和/或自动税脂酶（ATX）的活性。

  公开号：

  WO2014025708A1
• 作为产物：
  描述：

  6-溴-1-四氢萘酮 在 正丁基锂 、 tetra-N-butylammonium tribromide 作用下， 以 四氢呋喃 、 甲醇 、 二氯甲烷 为溶剂， 反应 19.0h， 生成 5-hydroxy-2-naphthaldehyde
  参考文献：
  名称：

  [EN] COMPOUNDS THAT ARE S1P MODULATING AGENTS AND/OR ATX MODULATING AGENTS
  [FR] COMPOSÉS ÉTANT DES AGENTS DE MODULATION DE S1P ET/OU DES AGENTS DE MODULATION D'ATX

  摘要：

  式（I）的化合物可以调节一个或多个SIP受体的活性和/或自动税脂酶（ATX）的活性。

  公开号：

  WO2014025708A1

文献信息

• [EN] (PIPERIDIN-3-YL)(NAPHTHALEN-2-YL)METHANONE DERIVATIVES AND RELATED COMPOUNDS AS INHIBITORS OF THE HISTONE DEMETHYLASE KDM2B FOR THE TREATMENT OF CANCER<br/>[FR] DÉRIVÉS DE (PIPÉRIDIN-3-YL)(NAPHTALÉN-2-YL)MÉTHANONE ET COMPOSÉS ASSOCIÉS UTILISÉS COMME INHIBITEURS DE L'HISTONE DÉMÉTHYLASE KDM2B POUR LE TRAITEMENT DU CANCER
  申请人：GENENTECH INC

  公开号：WO2016112284A1

  公开（公告）日：2016-07-14

  The present invention relates to (piperidin-3-yl)(naphthalen-2-yl) methanone derivatives and related compounds as inhibitors of one or more histone demethylses, such as KDM2b. The invention also provides pharmaceutically acceptable compositions comprising compounds of the present invention and discloses methods of using said compositions in the treatment of cancer, such as lung cancer, leukemia or lymphoma.

  本发明涉及（哌啶-3-基）（萘-2-基）甲酮衍生物和相关化合物，作为一种或多种组蛋白去甲基酶抑制剂，如KDM2b。该发明还提供了包括本发明化合物的药学上可接受的组合物，并公开了使用该类组合物治疗癌症，如肺癌、白血病或淋巴瘤的方法。
• COMPOUNDS THAT ARE S1P MODULATING AGENTS AND/OR ATX MODULATING AGENTS
  申请人：BIOGEN IDEC MA INC.

  公开号：US20150203493A1

  公开（公告）日：2015-07-23

  Compounds of formula (I) can modulate the activity of one or more SIP receptors and/or the activity of autotaxin (ATX).

  式(I)的化合物可以调节一个或多个SIP受体的活性和/或自动趋化素(ATX)的活性。
• A composition for increasing the anti-cancer activity of an anti-cancer compound
  申请人：OTSUKA PHARMACEUTICAL CO., LTD.

  公开号：EP0180188A2

  公开（公告）日：1986-05-07

  A composition for increasing the anti-cancer activity of an anti-cancer compound selected from among 5-fluorouracil and a compound capable of producing 5-fluorouracil in vivo, the composition comprising an effective amount of a pyridine derivative represented by the formula wherein R1 is hydroxy or acyloxy, R2 and R4 are each hydrogen, halogen, amino, carboxyl, carbamoyl, cyano, nitro, lower alkyl, lower alkenyl or lower alkoxycarbonyl, R3 and R are each hydrogen, hydroxy or acyloxy; when at least one of R1, R3 and R5 is hydroxy, the structure of 1-position on the pyridine rina can be duetothe due to the keto-enol tautomerism, said hydrogen attached to nitrogen being optionally substituted with a substituent selected from the group consisting of lower alkyl, tetrahydrofuranyl, tetrahydropyranyl, lower alkoxy-lower alkyl, phthalidyl, carbamoyl, lower alkoxycarbonyl-lower alkylcarbamoyl, phenyl-lower alkoxy-lower alkyl, phenylcarbamoyl which may have a substituent on the phenyl ring, lower alkylcarbamoyl, carboxy-lower alkylcarbamoyl, lower alkylthio-lower alkyl and lower alkenyl, provided that the compound having the following formula is excluded, wherein a is hydrogen, lower alkyl, tetrahydrofuranyl, tetrahydropyranyl, lower alkoxy-lower alkyl, lower alkylcarbamoyl, lower alkylthio-lower alkyl or lower alkenyl.

  一种提高选自5-氟尿嘧啶和一种能在体内产生5-氟尿嘧啶的化合物的抗癌活性的组合物，该组合物包括有效量的由式表示的吡啶衍生物 其中 R1 是羟基或酰氧基，R2 和 R4 分别是氢、卤素、氨基、羧基、氨基甲酰基、氰基、硝基、低级烷基、低级烯基或低级烷氧基羰基，R3 和 R 分别是氢、羟基或酰氧基；当 R1、R3 和 R5 中至少有一个是羟基时，吡啶里纳上 1 位的结构可以是 当 R1、R3 和 R5 中至少有一个是羟基时，吡啶里纳上 1 位的结构可以是酮烯醇同分异构，所述连接到氮上的氢可选择被选自低烷基、四氢呋喃基、四氢吡喃基、低烷氧基低烷基、邻苯二甲酰基、氨基甲酰基、低烷氧基羰基低烷基氨基甲酰基组成的取代基取代、苯基-低级烷氧基-低级烷基、苯基氨基甲酰基（苯基环上可能有取代基）、低级烷基氨基甲酰基、羧基-低级烷基氨基甲酰基、低级烷硫基-低级烷基和低级烯基，但具有下式的化合物除外、 其中 a 为氢、低级烷基、四氢呋喃基、四氢呋喃基、低级烷氧基低级烷基、低级烷基氨基甲酰基、低级烷硫基低级烷基或低级烯基。
• Thermotropic liquid-crystalline aromatic copolymers
  申请人：ENICHEM S.p.A.

  公开号：EP0375036A1

  公开（公告）日：1990-06-27

  Liquid-crystalline, completely aromatic copolyesters are disclosed, which are endowed with a heat stability not lower than 350° C, and are constituted by a succession of repeatitive units containing: wherein A and B, which can be either equal to, or different, from, each other, can be either -O- or -CO- and one of the following moieties: in which Ar can be 1,4-phenylene, 2-monosubstituted-1,4-­phenylene or 4,4′-diphenylene. Also copolyesters also containing amidic bonding groups are disclosed.

  本发明公开了液晶型完全芳香族共聚聚酯，其热稳定性不低于 350°C，由连续的重复单元构成，这些重复单元包含： 其中，A 和 B 可以相互等同或不同，可以是 -O- 或 -CO- 以及下列分子之一： 其中 Ar 可以是 1,4-亚苯基、2-单取代-1,4-亚苯基或 4,4′-二亚苯基。 此外，还公开了同样含有酰胺键基团的共聚多酯。
• Resist underlayer film composition and patterning process using the same
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP2476713A1

  公开（公告）日：2012-07-18

  There is disclosed a resist underlayer film composition, wherein the composition contains a polymer obtained by condensation of, at least, one or more compounds represented by the following general formulae (1-1) and/or (1-2), and one or more kinds of compounds, represented by the following general formulae (2-1) and/or (2-2), and/or equivalent bodies thereof. There can be provided an underlayer film composition, especially for a trilayer resist process, that can form an underlayer film having reduced reflectance, (namely, an underlayer film having optimum n-value and k-value as an antireflective film), excellent filling-up properties, high pattern-antibending properties, and not causing line fall or wiggling after etching especially in a high aspect line that is thinner than 60 nm, and a patterning process using the same.

  本发明公开了一种抗蚀剂底层薄膜组合物，其中该组合物含有至少由以下通式（1-1）和/或（1-2）表示的一种或多种化合物和以下通式（2-1）和/或（2-2）表示的一种或多种化合物和/或其等效体缩合而得的聚合物。可以提供一种底层膜组合物，特别是用于三层抗蚀工艺的底层膜组合物，该组合物可以形成反射率降低的底层膜（即作为抗反射膜具有最佳 n 值和 k 值的底层膜）、填充性能优异、图案抗弯曲性能高、蚀刻后尤其是在厚度小于 60 nm 的高纵横向线上不会出现掉线或晃动的底层膜，以及使用该底层膜组合物的图案化工艺。