Borane, tris(pentafluorophenyl)-, trihydrate | 182683-62-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: Borane, tris(pentafluorophenyl)-, trihydrate
• 英文别名: tris(2,3,4,5,6-pentafluorophenyl)borane;trihydrate
• CAS: 182683-62-1
• 化学式: C18H6BF15O3
• 分子量: 566.0
• InChiKey: HBLHIFXCOJCFTK-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.82
• 重原子数：
  37
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  3
• 氢给体数：
  3
• 氢受体数：
  18

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  Borane, tris(pentafluorophenyl)-, trihydrate 、 三(五氟苯基)硼烷 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 0.25h， 生成 tris(pentafluorophenyl)borane hydrate
  参考文献：
  名称：

  Tris(pentafluorophenyl)borane complexes and catalysts derived therefrom

  摘要：

  具有通式(C.sub.6 F.sub.5).sub.3 B.(YXH).sub.q的Tris(pentafluorophenyl)硼配合物，其中X为氧或硫；q为1至3；Y为氢原子、R.sup.1-、(R.sup.2).sub.3 Si-或(R.sup.3).sub.2 C.dbd.N-；R.sup.1是含有1至500个碳原子的烃基基团，可能包含一个二价氧原子并进一步可能是含氟的烃基基团；R.sup.2独立地是含有1至25个碳原子的线性或支链烷基基团，或苯基，进一步R.sup.2可能包含一个SiO-基团；而R.sup.3独立地是含有1至25个碳原子的烃基基团，R.sup.3可以是氢原子，前提是所选的两个R.sup.3基团均不是氢原子；以及与含有有机金属化合物的硼配合物形成的配合物，作为催化剂用于烯烃的聚合和共聚合，并使用这些催化剂制备的聚合物产品。

  公开号：

  US05416177A1
• 作为产物：
  描述：

  三(五氟苯基)硼烷 、 、 环己烷 、 水 反应 1.91h， 生成 Borane, tris(pentafluorophenyl)-, trihydrate
  参考文献：
  名称：

  Photoresist compositions comprising polycyclic polymers with acid labile pendant groups

  摘要：

  本发明涉及一种辐射敏感的光阻组合物，包括一个光酸引发剂和一个聚环聚合物，其中重复单元含有侧链酸敏感基团。在暴露于成像辐射源时，光酸引发剂生成酸，裂解侧链酸敏感基团，从而在聚合物中引起极性变化。在暴露于成像源的区域中，聚合物在水性碱中变得可溶。聚合物重复单元是在单组分或多组分催化剂体系的存在下，从多环单体聚合而成，其中包含第VIII族金属。

  公开号：

  US06232417B1

文献信息

• Tris(pentafluorophenyl)borane complexes and catalysts derived therefrom
  申请人：Minnesota Mining and Manufacturing Company

  公开号：US05416177A1

  公开（公告）日：1995-05-16

  Tris(pentafluorophenyl)borane complexes having the general formula (C.sub.6 F.sub.5).sub.3 B.(YXH).sub.q wherein X is oxygen, or sulfur; q is i to 3; Y is a hydrogen atom, R.sup.1 --, (R.sup.2).sub.3 Si--, or (R.sup.3).sub.2 C.dbd.N--; R.sup.1 is a hydrocarbyl group containing 1 to 500 carbon atoms, and may contain a divalent oxygen and further may be a fluorine-containing hydrocarbyl group; R.sup.2 is independently a linear or branched alkyl group containing 1 to 25 carbon atoms, or a phenyl group, further R.sup.2 may contain a SiO-- group; and R.sup.3 is independently a hydrocarbyl group containing 1 to 25 carbon atoms, R.sup.3 may be a hydrogen atom provided both R.sup.3 groups selected are not hydrogen atoms; and to complexes containing the borane complexes with an organometallic compound, either as a neutral compound or as an acidic salt that are useful as catalysts for polymerization and copolymerization of olefins and to polymeric products prepared using these catalysts.

  具有通式(C.sub.6 F.sub.5).sub.3 B.(YXH).sub.q的Tris(pentafluorophenyl)硼配合物，其中X为氧或硫；q为1至3；Y为氢原子、R.sup.1-、(R.sup.2).sub.3 Si-或(R.sup.3).sub.2 C.dbd.N-；R.sup.1是含有1至500个碳原子的烃基基团，可能包含一个二价氧原子并进一步可能是含氟的烃基基团；R.sup.2独立地是含有1至25个碳原子的线性或支链烷基基团，或苯基，进一步R.sup.2可能包含一个SiO-基团；而R.sup.3独立地是含有1至25个碳原子的烃基基团，R.sup.3可以是氢原子，前提是所选的两个R.sup.3基团均不是氢原子；以及与含有有机金属化合物的硼配合物形成的配合物，作为催化剂用于烯烃的聚合和共聚合，并使用这些催化剂制备的聚合物产品。
• Photoresist compositions comprising polycyclic polymers with acid labile pendant groups
  申请人：The B. F. Goodrich Company

  公开号：US06232417B1

  公开（公告）日：2001-05-15

  The present invention relates to a radiation sensitive photoresist composition comprising a photoacid initiator and a polycyclic polymer comprising repeating units that contain pendant acid labile groups. Upon exposure to an imaging radiation source the photoacid initiator generates an acid which cleaves the pendant acid labile groups effecting a polarity change in the polymer. The polymer is rendered soluble in an aqueous base in the areas exposed to the imaging source. The polymer repeating units are polymerized from polycyclic monomers in the presence of single or multicomponent catalyst systems containing a Group VIII metal

  本发明涉及一种辐射敏感的光阻组合物，包括一个光酸引发剂和一个聚环聚合物，其中重复单元含有侧链酸敏感基团。在暴露于成像辐射源时，光酸引发剂生成酸，裂解侧链酸敏感基团，从而在聚合物中引起极性变化。在暴露于成像源的区域中，聚合物在水性碱中变得可溶。聚合物重复单元是在单组分或多组分催化剂体系的存在下，从多环单体聚合而成，其中包含第VIII族金属。