甲酮,二(4-叠氮苯基)- | 17303-16-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: 甲酮,二(4-叠氮苯基)-
• 英文名称: bis(4-azidophenyl)methanone
• 英文别名: 4,4'-diazidobenzophenone；CAP4272；4,4'-diazido-benzophenone；4,4'-Diazido-benzophenon
• CAS: 17303-16-1
• 化学式: C₁₃H₈N₆O
• 分子量: 264.246
• InChiKey: CHFBCXOSLARLKB-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  145-147 °C (decomp)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.1
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  45.8
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  甲酮,二(4-叠氮苯基)- 在 air 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 生成 双(4-硝基苯基)甲酮
  参考文献：
  名称：

  Barboiu, Virgil; Airinei, Anton; Rusu, Elena, Revue Roumaine de Chimie, 2000, vol. 45, # 7-8, p. 663 - 668

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  4,4'-二羟基二苯甲酮 在 叠氮磷酸二苯酯 、 1,8-二氮杂双环[5.4.0]十一碳-7-烯 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 反应 16.0h， 以5%的产率得到甲酮,二(4-叠氮苯基)-
  参考文献：
  名称：

  利用叠氮磷酸二苯酯对苯酚功能进行SNAr叠氮化

  摘要：

  开发了一种有用的方法，该方法通过使用叠氮磷酸二苯酯（DPPA）作为叠氮化试剂通过苯酚衍生物的SNAr反应进行芳基叠氮化物的合成。带有吸电子基团的各种酚衍生物可在一个步骤中转化为相应的芳基叠氮化物。该方法易于实施，并且能够在不使用爆炸性叠氮化物源的情况下制备芳基叠氮化物。

  DOI：

  10.1016/j.tetlet.2019.151493

文献信息

• High performance curable polymers and processes for the preparation thereof
  申请人：Xerox Corporation

  公开号：US20040229164A9

  公开（公告）日：2004-11-18

  Disclosed is a composition which comprises a polymer containing at least some monomer repeat units with photosensitivity-imparting substituents which enable crosslinking or chain extension of the polymer upon exposure to actinic radiation, said polymer being of the formula 1 wherein x is an integer of 0 or 1, A is one of several specified groups, such as 2 B is one of several specified groups, such as 3 or mixtures thereof, and n is an integer representing the number of repeating monomer units, wherein said photosensitivity-imparting substituents are allyl ether groups, epoxy groups, or mixtures thereof. Also disclosed are a process for preparing a thermal ink jet printhead containing the aforementioned polymers and processes for preparing the aforementioned polymers.

  本发明涉及一种组成物，其包括聚合物，该聚合物含有至少一些具有光敏感性取代基的单体重复单元，该取代基使得聚合物在暴露于光致辐射下发生交联或链延伸，该聚合物的化学式为1，其中x是0或1的整数，A是若干指定的基团之一，例如2，B是若干指定的基团之一，例如3，或其混合物，n是表示重复单体单位数的整数，其中所述的光敏感性取代基是烯丙基醚基，环氧基或其混合物。本发明还涉及制备含有上述聚合物的热喷墨喷头的方法以及制备上述聚合物的方法。
• Insulating material containing cycloolefin polymer
  申请人：——

  公开号：US20040157039A1

  公开（公告）日：2004-08-12

  An insulating material comprising a cycloolefin polymer, specifically, an interlayer insulating material for a high-density assembly board having interlayer-connecting via holes at most 200 &mgr;m in diameter, comprising a cycloolefin polymer containing at least 50 mol % of a repeating unit derived from a cycloolefin monomer; a dry film formed from a curable resin composition comprising a polymer having a number average molecular weight within a range of 1,000 to 1,000,000 as measured by gel permeation chromatography, and a hardener; and a resin-attached metal foil obtained by forming a film of a cycloolefin polymer on one side of a metal foil. Laminates, multi-layer laminates and build-up multi-layer laminates making use of these materials, and production processes thereof.

  一种绝缘材料，包括环氧烷基聚合物，具体地说，这是一种用于高密度组装板的层间绝缘材料，其间层连接的经孔直径最多为200微米，包括至少50摩尔％来自环氧烷基单体的重复单元的环氧烷基聚合物; 由可固化树脂组成的可干膜，其聚合物的数量平均分子量在1,000至1,000,000之间（通过凝胶渗透色谱法测量），以及硬化剂; 以及通过在金属箔的一侧形成环氧烷基聚合物膜而获得的树脂附着金属箔。利用这些材料制成的层压板，多层层压板和堆叠多层层压板以及其生产工艺。
• HIGH PERFORMANCE CURABLE POLYMERS AND PROCESSES FOR THE PREPARATION THEREOF
  申请人：Narang Ram S.

  公开号：US20080199810A1

  公开（公告）日：2008-08-21

  Disclosed is a composition which comprises a polymer containing at least some monomer repeat units with photosensitivity-imparting substituents which enable crosslinking or chain extension of the polymer upon exposure to actinic radiation, said polymer being of the formula wherein x is an integer of 0 or 1, A is one of several specified groups, such as B is one of several specified groups, such as or mixtures thereof, and n is an integer representing the number of repeating monomer units, wherein said photosensitivity-imparting substitutents are allyl ether groups, epoxy groups, or mixtures thereof. Also disclosed is a process for preparing a thermal ink jet printhead containing the aforementioned polymers and processes for preparing the aforementioned polymers.

  本发明涉及一种组合物，其包括至少含有一些具有光敏感基团的单体重复单元的聚合物，这些基团使得聚合物在暴露于光辐射下发生交联或链延伸，所述聚合物的化学式为其中x为0或1的整数，A是几个指定的基团之一，例如B是几个指定的基团之一，例如或其混合物，n代表重复单体单元的数量，其中所述的光敏感基团是烯丙基醚基团、环氧基团或其混合物。本发明还涉及一种制备含有上述聚合物的热喷墨头的方法，以及制备上述聚合物的方法。
• Unter der Einwirkung von Licht härtbare, Bis-Azidophthalimidyl-Derivate enthaltende Stoffgemische
  申请人：CIBA-GEIGY AG

  公开号：EP0001597A1

  公开（公告）日：1979-05-02

  Die erfindungsgemäßen Stoffgemische bestehen aus mindestens einer polymeren Verbindung und mindestens einer Verbindung der Formel worin R einen zweiwertigen organischen Rest bedeutet Dabei beträgt das Gewichtsverhältnis Polymer zu Verbindung der Formel I etwa 9:1 bis 1:4. j Die Verbindungen der Formel I und somit auch die Stoffgsmische können unter der Einwirkung von Licht gehärtet (vernetzt) werden. Sie sind bei gleich guter Lichtempfindi lichkeit in Bezug auf Thermostabilität und Oxidationsbeständigkeit bekannten Systemen überlegen.

  根据本发明，物质混合物由至少一种聚合化合物和至少一种式化合物组成，其中 R 为二价有机基。
• A reflection preventive light-shielding screen and a process for producing the same
  申请人：Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha

  公开号：EP0066745A2

  公开（公告）日：1982-12-15

  A reflection preventive light-shielding screen comprising a transparent plate and a side surface-rough relief of a cured photopolymerized resin composition formed thereon and having a striped pattern or a lattice pattern. The present reflection preventive light-shielding screen can effectively shield extraneous light rays without scattering the light rays emitted from image-indicating devices. Therefore, the present reflection preventive light-shielding screen can be advantageously used for various extraneous light rays-shielding applications. Furthermore, the present reflection preventive light-shielding screen can be produced by an extremely simple process as compared with those of the prior art.

  一种防反射遮光屏，包括透明板和在其上形成的具有条纹图案或格子图案的固化光聚合树脂组合物的侧表面透光浮雕。 本防反射遮光屏可以有效地遮挡外来光线，而不会散射图像指示装置发出的光线。 因此，本防反射遮光屏可以很好地用于各种遮挡外来光线的应用。 此外，与现有技术相比，本防反射遮光屏的生产工艺极其简单。

表征谱图