3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyldiphenylsulfonium iodide | 328935-87-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 酚类
• 英文名称: 3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyldiphenylsulfonium iodide
• 英文别名: (4-Hydroxy-3,5-dimethylphenyl)(diphenyl)sulfanium iodide；(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)-diphenylsulfanium;iodide
• CAS: 328935-87-1
• 化学式: C₂₀H₁₉OS*I
• 分子量: 434.341
• InChiKey: NZVONQLUBSJCIA-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.11
• 重原子数：
  23
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.1
• 拓扑面积：
  21.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyldiphenylsulfonium iodide 在 potassium carbonate 、 硫酸二甲酯 、 potassium iodide 作用下， 以 氯仿 、 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 反应 16.0h， 生成
  参考文献：
  名称：

  JP6039223

  摘要：

  公开号：
• 作为产物：
  描述：

  2,6-二甲基苯酚 、 二苯基亚砜 、 、 Eaton reagent 、 碘化钾 在 ice 、 乙酸乙酯 、 丙酮 作用下， 以 水 为溶剂， 反应 4.0h， 以As a result, 3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyldiphenylsulfonium iodide was obtained in an amount of 80 g的产率得到3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyldiphenylsulfonium iodide
  参考文献：
  名称：

  Positive resist composition for immersion exposure and method of pattern formation with the same

  摘要：

  一种用于浸没曝光的正向光阻组合物，包括（A）一种树脂，通过酸的作用增强其在碱性显影剂中的溶解性，以及（B）至少一种化合物，在受到光致发色剂或辐射照射时产生酸，所述化合物从以下（Ba）到（Bc）中选择：（Ba）具有特定烷基或环烷基残基的磺酸盐化合物，在阳离子部分；（Bb）具有特定烷基或环烷基残基的磺酸盐化合物，在阳离子部分；（Bc）具有特定烷基或环烷基残基的磺酸盐化合物，在阴离子部分；以及使用该组合物进行图案形成的方法。

  公开号：

  US07273690B2

文献信息

• Positive resist composition and method of forming resist pattern using the same
  申请人：FUJI PHOTO FILM CO., LTD.

  公开号：US20040197708A1

  公开（公告）日：2004-10-07

  A positive resist composition comprising: (A) a fluorine atom-containing resin, wherein the resin comprises at least one group that increases a solubility of the resin in an alkali developer by the action of an acid; and (B) a sulfonium salt compound having a cation moiety, wherein the cation moiety contains at least one hydroxy group, and the sulfonium salt compound generates an acid upon irradiation with one of an actinic ray and a radiation.

  一种阳离子抗蚀剂组合物，包括：(A) 含氟原子的树脂，其中该树脂包含至少一个基团，在酸的作用下可增加树脂在碱显影剂中的溶解度；以及 (B) 具有阳离子分子的锍盐化合物，其中阳离子分子包含至少一个羟基，锍盐化合物在受到辐照射线和辐射线中的一种照射时生成酸。
• EP1462858A1
  申请人：——

  公开号：EP1462858A1

  公开（公告）日：2004-09-29
• US7192685B2
  申请人：——

  公开号：US7192685B2

  公开（公告）日：2007-03-20