3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyldiphenylsulfonium iodide | 328935-87-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 酚类
• 英文名称: 3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyldiphenylsulfonium iodide
• 英文别名: (4-Hydroxy-3,5-dimethylphenyl)(diphenyl)sulfanium iodide；(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)-diphenylsulfanium;iodide
• CAS: 328935-87-1
• 化学式: C₂₀H₁₉OS*I
• 分子量: 434.341
• InChiKey: NZVONQLUBSJCIA-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.11
• 重原子数：
  23
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.1
• 拓扑面积：
  21.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyldiphenylsulfonium iodide 在 potassium carbonate 、 硫酸二甲酯 、 potassium iodide 作用下， 以 氯仿 、 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 反应 16.0h， 生成
  参考文献：
  名称：

  JP6039223

  摘要：

  公开号：
• 作为产物：
  描述：

  2,6-二甲基苯酚 、 二苯基亚砜 、 、 Eaton reagent 、 碘化钾 在 ice 、 乙酸乙酯 、 丙酮 作用下， 以 水 为溶剂， 反应 4.0h， 以As a result, 3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyldiphenylsulfonium iodide was obtained in an amount of 80 g的产率得到3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyldiphenylsulfonium iodide
  参考文献：
  名称：

  Positive resist composition for immersion exposure and method of pattern formation with the same

  摘要：

  一种用于浸没曝光的正向光阻组合物，包括（A）一种树脂，通过酸的作用增强其在碱性显影剂中的溶解性，以及（B）至少一种化合物，在受到光致发色剂或辐射照射时产生酸，所述化合物从以下（Ba）到（Bc）中选择：（Ba）具有特定烷基或环烷基残基的磺酸盐化合物，在阳离子部分；（Bb）具有特定烷基或环烷基残基的磺酸盐化合物，在阳离子部分；（Bc）具有特定烷基或环烷基残基的磺酸盐化合物，在阴离子部分；以及使用该组合物进行图案形成的方法。

  公开号：

  US07273690B2

文献信息

• Positive resist composition and method of forming resist pattern using the same
  申请人：FUJI PHOTO FILM CO., LTD.

  公开号：US20040197708A1

  公开（公告）日：2004-10-07

  A positive resist composition comprising: (A) a fluorine atom-containing resin, wherein the resin comprises at least one group that increases a solubility of the resin in an alkali developer by the action of an acid; and (B) a sulfonium salt compound having a cation moiety, wherein the cation moiety contains at least one hydroxy group, and the sulfonium salt compound generates an acid upon irradiation with one of an actinic ray and a radiation.

  一种阳离子抗蚀剂组合物，包括：(A) 含氟原子的树脂，其中该树脂包含至少一个基团，在酸的作用下可增加树脂在碱显影剂中的溶解度；以及 (B) 具有阳离子分子的锍盐化合物，其中阳离子分子包含至少一个羟基，锍盐化合物在受到辐照射线和辐射线中的一种照射时生成酸。
• EP1462858A1
  申请人：——

  公开号：EP1462858A1

  公开（公告）日：2004-09-29
• US7192685B2
  申请人：——

  公开号：US7192685B2

  公开（公告）日：2007-03-20
• JP6039223
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——
• Positive resist composition for immersion exposure and method of pattern formation with the same
  申请人：Kodama Kunihiko

  公开号：US20050186505A1

  公开（公告）日：2005-08-25

  A positive resist composition for immersion exposure which comprises (A) a resin which enhances its solubility in an alkaline developer by the action of an acid and (B) at least one compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation, the compound being selected from the following (Ba) to (Bc): (Ba) a sulfonium salt compound having a specific alkyl or cycloalkyl residue in the cation part, (Bb) a sulfonium salt compound having a specific alkyl or cycloalkyl residue in the cation part, and (Bc) a sulfonium salt compound having a specific alkyl or cycloalkyl residue in the anion part; and a method of pattern formation with the composition.

  一种用于浸没曝光的正性光刻胶组合物，包括（A）一种树脂，该树脂通过酸的作用增强其在碱性显影剂中的溶解性和（B）至少一种化合物，该化合物在受到光致射线或辐射照射时生成酸，所述化合物从以下（Ba）至（Bc）中选择：（Ba）具有特定烷基或环烷基残基的磺酸盐化合物，在阳离子部分；（Bb）具有特定烷基或环烷基残基的磺酸盐化合物，在阳离子部分；（Bc）具有特定烷基或环烷基残基的磺酸盐化合物，在阴离子部分；以及使用该组合物进行图案形成的方法。