Di(4-t-amylphenyl)iodonium sulfate | 258342-09-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: Di(4-t-amylphenyl)iodonium sulfate
• 英文别名: bis[4-(2-methylbutan-2-yl)phenyl]iodanium;sulfate
• CAS: 258342-09-5
• 化学式: C44H60I2O4S
• 分子量: 938.8
• InChiKey: MZEQSKIERLUBQT-UHFFFAOYSA-L

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.04
• 重原子数：
  51
• 可旋转键数：
  12
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.45
• 拓扑面积：
  88.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  Di(4-t-amylphenyl)iodonium sulfate 、 Tetraammonium acetate 在 二氯甲烷 、 aqueous solution 、 四甲基氢氧化铵 、 Sodium sulfate-III 作用下， 以 水 为溶剂， 以to obtain di(4-tert-amylphenyl)iodonium acetate (e-1)的产率得到Bis[4-(2-methylbutan-2-yl)phenyl]iodanium acetate
  参考文献：
  名称：

  Positive resist composition

  摘要：

  一种正向型光刻胶组合物，包括（a）一种树脂，通过酸的作用分解以增加在碱性显影液中的溶解度，其中包含一个由规范中定义的公式（X）表示的基团，重量平均分子量不超过5,000，并且含有不超过40％的可分解酸基团，基于可分解酸基团和未受保护的碱溶性基团的总数；以及（b）一种在光致辐射或辐射照射下产生酸的化合物。

  公开号：

  US08080362B2

文献信息

• Negative-working resist composition for electron beams or X-rays
  申请人：FUJI PHOTO FILM CO., LTD.

  公开号：US20020192592A1

  公开（公告）日：2002-12-19

  A negative-working resist composition for electron beams or X-rays comprising (A) a compound generating a sulfonic acid by the irradiation of electron beams or x-rays, (B) a resin which is insoluble in water and soluble in an alkali aqueous solution, (C) a crosslinking agent crosslinking with the resin (B) by the action of an acid, and (D) a compound generating a carboxylic acid having a specific structure by the irradiation of electron beams or x-rays.

  一种用于电子束或X射线的负型光刻胶组合物，包括（A）通过电子束或X射线辐射产生磺酸的化合物，（B）在水中不溶而在碱性水溶液中可溶的树脂，（C）通过酸作用与树脂（B）交联的交联剂，以及（D）通过电子束或X射线辐射产生具有特定结构的羧酸的化合物。
• Planographic printing plate precursor
  申请人：——

  公开号：US20030017411A1

  公开（公告）日：2003-01-23

  A negative planographic printing plate precursor for heat-mode exposure systems, which has, on a support, a photosensitive layer containing: (A) a light-to-heat conversion agent; (B) a polymerizable unsaturated group-having compound; and (C) an onium salt having a counter anion with a valency of at least 2. The precursor is capable of being exposed with an IR laser for image formation thereon. The onium salt may be, for example, a diazonium salt, iodonium salt or sulfonium salt. The counter anion has at least two anionic sites which may be the same or different, and the anionic structure is preferably divalent to hexavalent.

  一种负性平版印刷版前体，适用于热模式曝光系统，其在支撑体上具有一层光敏层，包含：（A）光热转换剂；（B）可聚合不饱和基化合物；和（C）带有价态至少为2的阴离子盐。该前体能够通过红外激光曝光形成图像。阴离子盐可以是重氮盐、碘盐或硫鎓盐。计数器离子具有至少两个离子位点，可以相同或不同，并且阴离子结构最好是二价到六价的。
• Resist composition for electron beam, EUV or X-ray
  申请人：FUJI PHOTO FILM CO., LTD.

  公开号：US20030198894A1

  公开（公告）日：2003-10-23

  A resist composition for an electron beam, EUV or X-ray comprising (A1) a compound that has a reduction potential higher than that of diphenyl iodonium salt and generates an acid upon irradiation of an actinic ray or radiation.

  一种用于电子束、EUV或X射线的电阻抗组合物，包括（A1）一种具有比二苯并碘化铵盐还高的还原电位并在光致射线或辐射照射下产生酸的化合物。
• Chemical amplification type negative-working resist composition for electron beams or X-rays
  申请人：——

  公开号：US20010036590A1

  公开（公告）日：2001-11-01

  A negative-working chemical amplification-type resist composition for electron beams or X-rays satisfying the characteristics of the sensitivity and resolution•resist pattern for the use of electron beams or X-rays is provided. The chemical amplification-type negative-working resist composition contains (1) an alkali-soluble resin having a weight-average molecular weight of exceeding 3,000 and not larger than 1,000,000, (2) a crosslinking agent causing crosslinkage by an acid, and (3) a compound generating an acid by the irradiation of electron beams or X-rays, wherein the alkali-soluble resin has a specific structure.

  提供一种适用于电子束或X射线的负性化学增强型光阻组合物，满足灵敏度和分辨率的特性，用于电子束或X射线的光阻图案。该化学增强型负性光阻组合物包含（1）一种重量平均分子量超过3,000但不大于1,000,000的碱溶性树脂，（2）一种通过酸引起交联的交联剂，以及（3）一种通过电子束或X射线辐射产生酸的化合物，其中碱溶性树脂具有特定结构。
• Positive photosensitive composition
  申请人：FUJI PHOTO FILM CO., LTD.

  公开号：US20030224285A1

  公开（公告）日：2003-12-04

  A positive photosensitive composition comprising (A1) a compound that generates an aromatic sulfonic acid substituted with at least one fluorine atom and/or a group having at least one fluorine atom upon irradiation of an actinic ray or radiation, (B) a resin that has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution, and (C) a compound that has at least three hydroxy or substituted hydroxy groups and at least one cyclic structure or (A2) an onium salt of an alkanesulfonic acid in which the &agr;-position of the sulfonic acid is not substituted with a fluorine atom and/or an onium salt of a carboxylic acid.

  一种正感光敏组合物，包括（A1）一种在光致作用或辐射下会产生芳香磺酸衍生物，其上至少有一个氟原子和/或至少有一个含氟原子的基团的化合物，（B）一种具有单环或多环脂环烃结构的树脂，通过酸的作用分解以增加在碱性显影液中的溶解度，以及（C）一种具有至少三个羟基或取代羟基团和至少一个环状结构的化合物，或（A2）一种烷基磺酸酰盐的离子化物，在其中磺酸的α位不被氟原子取代，和/或一种羧酸的离子化物。