N-n-Butyl-4-(trimethylsilyl)phthalimide | 121314-47-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 异吲哚及其衍生物
• 英文名称: N-n-Butyl-4-(trimethylsilyl)phthalimide
• 英文别名: 2-butyl-5-trimethylsilylisoindole-1,3-dione
• CAS: 121314-47-4
• 化学式: C₁₅H₂₁NO₂Si
• 分子量: 275.423
• InChiKey: ABMGUNHSVZKLAT-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.63
• 重原子数：
  19.0
• 可旋转键数：
  4.0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.47
• 拓扑面积：
  37.38
• 氢给体数：
  0.0
• 氢受体数：
  2.0

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  N-n-Butyltrimellitimide acid chloride 、 六甲基二硅烷 、 苯甲酰氯 以42%的产率得到
  参考文献：
  名称：

  RICH, JONATHAN D., J. AMER. CHEM. SOC., 111,(1989) N5, C. 5887-5893

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Silylative decarbonylation: a new route to arylsilanes
  作者：Jonathan D. Rich

  DOI：10.1021/ja00197a058

  日期：1989.7

  procedure is tolerant of a variety of aromatic substituents, for example, alkyl, halo, nitro, cyano, imide, acid anhydride, etc., and the synthesis of several new substituted aromatic chlorosilanes containing benzoyl chloride and phthalic anhydride moieties is described. Chloromethyldisilane starting reagents are available from the direct reaction of methyl chloride and silicon, making this methodology

  描述了一种通过钯催化的甲基氯乙硅烷和芳族酰氯反应制备芳族氯硅烷的新合成方法。甲硅烷基化脱羰过程是无溶剂的，可以利用低金属催化剂负载量（500-1,000 ppm Pd），在温和条件（145°C）下进行，并且选择性地以良好的产率（通常为 60-85%）得到芳族氯硅烷。该程序可以容忍多种芳族取代基，例如烷基、卤素、硝基、氰基、酰亚胺、酸酐等，并且描述了几种新的含有苯甲酰氯和邻苯二甲酸酐部分的取代芳族氯硅烷的合成。氯甲基乙硅烷起始试剂可得自氯甲烷与硅的直接反应，