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isopropenyltris(trimethylsilyl)silane | 1595154-86-1

中文名称
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中文别名
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英文名称
isopropenyltris(trimethylsilyl)silane
英文别名
Isopropenyltris(trimethylsilyl)silane;trimethyl-[prop-1-en-2-yl-bis(trimethylsilyl)silyl]silane
isopropenyltris(trimethylsilyl)silane化学式
CAS
1595154-86-1
化学式
C12H32Si4
mdl
——
分子量
288.728
InChiKey
FVRPGFDQHUQCSW-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 熔点:
    175.1-176.1 °C
  • 沸点:
    251.7±23.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    0.792±0.06 g/cm3(Temp: 20 °C; Press: 760 Torr)(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    4.8
  • 重原子数:
    16.0
  • 可旋转键数:
    4.0
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.83
  • 拓扑面积:
    0.0
  • 氢给体数:
    0.0
  • 氢受体数:
    0.0

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    isopropenyltris(trimethylsilyl)silane 、 4,4'-bis(dimethoxy)benzhydrilium tetrafluoroborate 以 二氯甲烷 为溶剂, 反应 2.0h, 以70%的产率得到
    参考文献:
    名称:
    乙烯基硅烷的亲电烷基化:α-和β-甲硅烷基效应的比较
    摘要:
    benzhydrylium离子的反应(芳基的动力学2 CH +与乙烯基硅烷)H 2 CC(CH 3)(SIR 3),H 2 CC(PH)(SIR 3),和(ë)-PhCH CHSiMe 3已在20°C的二氯甲烷溶液中以光度法测量。所有反应均遵循二阶动力学,二阶速率常数与苯甲酸铵离子的亲电子参数E线性相关,因此使我们可以将乙烯基硅烷纳入基于苯甲酸铵的亲核性标度中。乙烯基硅烷ħ 2 CC(CH 3)(森达3),其是通过在亲电子CH攻击2基团,反应一个数量级比丙烯更快,表示中间碳正离子的α-甲硅烷基的稳定比α甲基稳定显著较弱因为ħ 2 CC(CH 3)2的 反应活性比丙烯高10 3倍。反式-β-(三甲基甲硅烷基)苯乙烯在甲硅烷基化位置受到亲电试剂的攻击,其反应性甚至比苯乙烯低,这表明在过渡态中,β-甲硅烷基效应对正在发展的碳正离子的超共轭稳定作用仍然无效。 。结果,SiMe 3取代了乙烯基氢原子
    DOI:
    10.1002/chem.201303215
  • 作为产物:
    描述:
    2-溴丙烯氯三(三甲基甲硅烷基)硅烷magnesium 作用下, 以 四氢呋喃 为溶剂, 反应 32.0h, 以88%的产率得到isopropenyltris(trimethylsilyl)silane
    参考文献:
    名称:
    乙烯基硅烷的亲电烷基化:α-和β-甲硅烷基效应的比较
    摘要:
    benzhydrylium离子的反应(芳基的动力学2 CH +与乙烯基硅烷)H 2 CC(CH 3)(SIR 3),H 2 CC(PH)(SIR 3),和(ë)-PhCH CHSiMe 3已在20°C的二氯甲烷溶液中以光度法测量。所有反应均遵循二阶动力学,二阶速率常数与苯甲酸铵离子的亲电子参数E线性相关,因此使我们可以将乙烯基硅烷纳入基于苯甲酸铵的亲核性标度中。乙烯基硅烷ħ 2 CC(CH 3)(森达3),其是通过在亲电子CH攻击2基团,反应一个数量级比丙烯更快,表示中间碳正离子的α-甲硅烷基的稳定比α甲基稳定显著较弱因为ħ 2 CC(CH 3)2的 反应活性比丙烯高10 3倍。反式-β-(三甲基甲硅烷基)苯乙烯在甲硅烷基化位置受到亲电试剂的攻击,其反应性甚至比苯乙烯低,这表明在过渡态中,β-甲硅烷基效应对正在发展的碳正离子的超共轭稳定作用仍然无效。 。结果,SiMe 3取代了乙烯基氢原子
    DOI:
    10.1002/chem.201303215
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