摘要:
合成了在4位具有聚合功能的1,2,3-噻二唑作为潜在的负性光刻胶。聚合成可溶的成膜材料必须使杂环完整无缺,因为光交联反应需要它们才能产生不溶的材料。1,2,3-噻二唑1在照射时可消除N 2。将得到的1,3-双自由基2具有用于稳定进程导致炔烃的各种选项3或更高的杂环5 - 12。必须避免原子硫的产生及其在这些后续反应中的参与。因此,像模型化合物1a这样的系统,其中在此选择了1,3-二价形式2-亚甲基-1,3-二硫代(二硫富烯)9。优化最终产生了两种材料作为光致抗蚀剂。单体1c可以在三氟化硼的存在下聚合成可溶性1c',其在辐射下形成1c'作为交联的不溶性聚合物。此外,噻二唑1f连接于聚苯乙烯26。所得的可溶性聚合物1i '在辐射下产生不溶性材料1i''。 环二聚-环消除-杂环-光化学-光刻胶