1-(4-(trifluoromethyl)phenyl)pentan-3-one | 1249249-53-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 1-(4-(trifluoromethyl)phenyl)pentan-3-one
• 英文别名: 1-[4-(trifluoromethyl)phenyl]pentan-3-one
• CAS: 1249249-53-3
• 化学式: C₁₂H₁₃F₃O
• 分子量: 230.23
• InChiKey: QZZAVKWKZCYKPP-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.2
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.42
• 拓扑面积：
  17.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-(4-(trifluoromethyl)phenyl)pentan-3-one 在 ammonium acetate 、 双氧水 、 palladium diacetate 、 sodium cyanoborohydride 、 2-methyl-2-(6-oxo-1,6-dihydropyridin-2-yl) propanoic acid 作用下， 以 四氢呋喃 、 甲醇 、 水 为溶剂， 反应 36.0h， 生成 N-(1-hydroxy-5-(4-(trifluoromethyl)phenyl)pentan-3-yl)acetamide
  参考文献：
  名称：

  配体使能 γ-C（sp3）–H 游离胺与过氧化氢水溶液的羟基化反应

  摘要：

  通过钯催化对丰度胺原料中的 γ-C-H 键进行选择性氧化是合成和药物化学中一项有价值的转变。尽管在过去十年中在这一主题上取得了进展，但仍然存在两个重大限制：脂肪胺的 C-H 活化需要一个外源性定向基团，除了空间受阻的 α-叔胺，并且迄今为止尚未开发出使用绿色氧化剂（如氧或过氧化氢水溶液）进行 C（sp3）-H 羟基化的实用催化系统。在此，我们报道了使用可持续过氧化氢水溶液 （7.5–10%，w/w） 的配体选择性 γ-C（sp3）-H 羟基化。在 CarboxPyridone 配体的支持下，一系列伯胺 （1°）、哌啶和吗啉 （2°） 在 γ 位以优异的单选择性被羟基化。该方法为合成多种胺提供了一种途径，包括 γ-氨基醇、β-氨基酸和氮杂环胺。反应中手性的保留允许从丰富的手性胺池开始快速获得手性胺。

  DOI：

  10.1021/jacs.3c09340
• 作为产物：
  描述：

  1-(4-(trifluoromethyl)phenyl)pent-1-en-3-one 在 三氯硅烷 作用下， 生成 1-(4-(trifluoromethyl)phenyl)pentan-3-one
  参考文献：
  名称：

  配体使能 γ-C（sp3）–H 游离胺与过氧化氢水溶液的羟基化反应

  摘要：

  通过钯催化对丰度胺原料中的 γ-C-H 键进行选择性氧化是合成和药物化学中一项有价值的转变。尽管在过去十年中在这一主题上取得了进展，但仍然存在两个重大限制：脂肪胺的 C-H 活化需要一个外源性定向基团，除了空间受阻的 α-叔胺，并且迄今为止尚未开发出使用绿色氧化剂（如氧或过氧化氢水溶液）进行 C（sp3）-H 羟基化的实用催化系统。在此，我们报道了使用可持续过氧化氢水溶液 （7.5–10%，w/w） 的配体选择性 γ-C（sp3）-H 羟基化。在 CarboxPyridone 配体的支持下，一系列伯胺 （1°）、哌啶和吗啉 （2°） 在 γ 位以优异的单选择性被羟基化。该方法为合成多种胺提供了一种途径，包括 γ-氨基醇、β-氨基酸和氮杂环胺。反应中手性的保留允许从丰富的手性胺池开始快速获得手性胺。

  DOI：

  10.1021/jacs.3c09340

文献信息

• Aerobic Oxidative Coupling between Carbon Nucleophiles and Allylic Alcohols: A Strategy to Construct β-(Hetero)Aryl Ketones and Aldehydes through Hydrogen Migration
  作者：Liangbin Huang、Ji Qi、Xia Wu、Wanqing Wu、Huanfeng Jiang

  DOI：10.1002/chem.201302962

  日期：2013.11.11

  reaction: A highly efficient PdII‐catalyzed intermolecular oxidative‐coupling reaction is reported, inspired by the fundamental Heck and Wacker processes. The (hetero)aryl‐PdX species, originating from CH activation step or desulfonyl hydrazides, coupled with allylic alcohols by using oxygen as the sole oxidant (see scheme).

  Wacker的反应：受基本的Heck和Wacker过程的启发，据报道有一种高效的Pd II催化的分子间氧化偶联反应。（杂）芳基- PDX物种，选自C始发 ħ活化步骤或desulfonyl酰肼，通过使用氧作为唯一的氧化剂（参见方案）加上烯丙基醇。
• [RuCl₂(<i>p-</i>cymene)]₂-Catalyzed Conjugate Addition of Arylboronic Acids to α,β-Unsaturated Ketones under Ligand-Free and Neutral Conditions
  作者：Lei Zhang、Xiaomin Xie、Lei Fu、Zhaoguo Zhang

  DOI：10.1021/jo4001367

  日期：2013.4.5

  A simple and efficient Ru-catalyzed conjugate addition reaction of arylboronic acids to α,β-unsaturated ketones under neutral conditions without any additional ligands has been developed. This Ru(II)-catalytic system both fulfilled the inhibition of the β-hydride elimination in the catalytic cycle and minimized the protonolysis of arylboronic acids.

  已开发出在中性条件下无需任何其他配体的简单有效的Ru催化的芳基硼酸与α，β-不饱和酮的Ru催化的共轭加成反应。该Ru（II）催化体系既实现了催化循环中对β-氢化物消除的抑制，又使芳基硼酸的质子分解最小化。
• Polymer, photosensitive resin composition, patterning method, method of forming cured film, interlayer insulating film, surface protective film, and electronic component
  申请人：International Business Machines Corporation

  公开号：US11333975B2

  公开（公告）日：2022-05-17

  Provided is a polymer that can be used as a base resin for a positive photosensitive resin composition and a negative photosensitive resin composition, wherein the positive photosensitive resin composition and the negative photosensitive resin composition are soluble in an aqueous alkaline solution, can form a fine pattern, can achieve high resolution, and have good mechanical properties even when they are cured at low temperature. Also provided are a positive photosensitive resin composition and a negative photosensitive resin composition using the polymer. The polymer is represented by general formulas (1) and/or (2): wherein T1 and T2 may be the same as, or different from, each other and represent any of —CO— and —SO2—; X1 is a tetravalent organic group; and l is 0 or 1; and X2 is a divalent organic group.

  本发明提供了一种聚合物，可用作正感光树脂组合物和负感光树脂组合物的基础树脂，其中正感光树脂组合物和负感光树脂组合物可溶于碱性水溶液，可形成精细图案，可实现高分辨率，即使在低温下固化也具有良好的机械性能。此外，还提供了使用该聚合物的正感光树脂组合物和负感光树脂组合物。该聚合物由通式（1）和/或（2）表示： 其中 T1 和 T2 可以彼此相同或不同，并代表 -CO- 和 -SO2- 中的任意一种；X1 是四价有机基团；l 是 0 或 1；X2 是二价有机基团。
• POLYMER, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERNING METHOD, METHOD OF FORMING CURED FILM, INTERLAYER INSULATING FILM, SURFACE PROTECTIVE FILM, AND ELECTRONIC COMPONENT
  申请人：International Business Machines Corporation

  公开号：US20210317268A1

  公开（公告）日：2021-10-14

  Provided is a polymer that can be used as a base resin for a positive photosensitive resin composition and a negative photosensitive resin composition, wherein the positive photosensitive resin composition and the negative photosensitive resin composition are soluble in an aqueous alkaline solution, can form a fine pattern, can achieve high resolution, and have good mechanical properties even when they are cured at low temperature. Also provided are a positive photosensitive resin composition and a negative photosensitive resin composition using the polymer. The polymer is represented by general formulas (1) and/or (2): wherein T 1 and T 2 may be the same as, or different from, each other and represent any of —CO— and —SO 2 —; X 1 is a tetravalent organic group; and l is 0 or 1; and X 2 is a divalent organic group.