methylsilyl radical | 24669-75-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 碳氢化合物衍生物
• 英文名称: methylsilyl radical
• 英文别名: methylsilanyl
• CAS: 24669-75-8
• 化学式: CH₅Si
• 分子量: 45.1362
• InChiKey: OKSKMBIODFGGEE-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.33
• 重原子数：
  2
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  methane 在 silylidyne 作用下， 生成 methylsilyl radical
  参考文献：
  名称：

  Insertions of methylidyne and silylidyne into methane and silane

  摘要：

  从头算分子轨道计算已被用来研究甲基炔和硅炔插入甲烷和硅烷的反应。这些计算包括：(i) 优化计算，以确定在第二阶莫勒-普莱塞特微扰理论（MP2）水平下沿插入路径的驻点，使用的基组为6-31G(d,p)、6-311G(d,p)和6-311++G(d,p)；(ii) MP2/6-31G(d,p)频率计算以表征驻点；(iii) MP2/6-31G(d,p)内在反应坐标（IRC）计算以追踪插入路径；以及(iv) MP4/6-311++G(2d,p)单点计算和与零点能量的修正，来检查能量结果的稳定性。在硅炔插入SiH4的反应路径中存在一个中间复合体，将反应物与过渡态分离，且由于硅炔的空硅p轨道与硅烷的Si–H σ键合分子轨道之间的相互作用，使之稳定。能量结果表明SiH+SiH4反应的插入通道是可行的，预测的SiH+SiH4反应插入反应路径验证了动力学实验观察。硅炔插入甲烷的反应路径预计与硅炔插入硅烷的路径有些相似，但能量井非常浅，能量障碍显著较高。甲基炔插入SiH4和CH4的反应预计不会存在能量障碍。

  DOI：

  10.1039/a706048c

文献信息

• Ion chemistry in tetramethylsilane (CH3)4Si
  作者：S. McGinnis、K. Riehl、P.D. Haaland

  DOI：10.1016/0009-2614(94)01313-k

  日期：1995.1

  The cross sections for simple and dissociative ionization of tetramethylsilane ((CH3)4Si or TMS) by electron impact have been measured using Fourier-transform mass spectrometry. The total ionization cross section is 8.5 x 10−16 cm2 between 30 and 70 eV. The molecular ion is Jahn-Teller unstable, with dissociative ionization to form (CH3)3Si+ dominating the mass spectrum. CH3SiH2+ and CH3Si+ react rapidly

  已经通过傅里叶变换质谱法测量了四甲基硅烷（（CH 3）4 Si或TMS）通过电子撞击进行简单和解离电离的横截面。总电离横截面在30至70 eV之间为8.5 x 10 -16 cm 2。该分子离子是Jahn-Teller不稳定的，具有离解电离形成（CH 3）3 Si +占主导地位的质谱。CH 3 SiH 2 +和CH 3 Si +与TMS快速反应生成（CH 3）3 Si +。（CH3）3 Si +不与TMS反应，但会被背景水蒸气缓慢水合。
• Selectivity and enormous H/D isotope effects on H atom abstraction by CH₃radicals in solid methylsilane at 3.0 K–115 K
  作者：Kenji Komaguchi、Yuko Ishiguri、Hiroto Tachikawa、Masaru Shiotani

  DOI：10.1039/b206503g

  日期：——

  CH3SiH3 system, the CH3SiH2˙ radical was the major product immediately after the photolysis, while the ˙CH3 radical was the major one in the CH3SiD3 system. The ˙CH3 radicals decayed following first order kinetics in the dark in both systems. The decay rate constants for the reaction were experimentally determined to be k(Si–H) = 3.6 × 10−2 s−1 and k(Si–D) = 6.9 × 10−6 s−1 (k(Si–H)/k(Si–D) = 5.2 × 103) at

  进行了一项 EPR 研究，以阐明甲基自由基 SiH3 +˙CH3 → SiH2˙ + CH4 在 3 K 的低温下，在含有 1 mol% I 的 SiH3 固溶体中从甲基硅烷 ( SiH3) 中夺取氢原子–115 K。在 77 K 的 I 紫外光解后观察到的 EPR 光谱归因于 SiH2˙ 自由基和˙ 自由基的混合物。在 SiH3体系中， SiH2˙自由基是光解后的主要产物，而˙ 自由基是 SiD3体系中的主要产物。在两个系统中，˙ 自由基在黑暗中按照一级动力学衰减。实验确定反应的衰减速率常数为 k(Si-H) = 3.6 × 10-2 s-1 和 k(Si-D) = 6.9 × 10-6 s-1 (k(Si-H) /k(Si-D) = 5.2 × 103) 在 77 K；
• Kinetic studies and ab initio investigations of the reactions of atomic bromine with methylsilane and dimethylsilane
  作者：Luying Ding、Paul Marshall

  DOI：10.1039/ft9938900419

  日期：——

  ca.±13%. Assumed activation energies for the reverse reactions yield Si—H bond dissociation enthalpies, D298, of 388 ± 5 and 392 ± 5 kJ mol–1 in methylsilane and dimethylsilane, respectively. These values and the Arrhenius parameters are intermediate between earlier results for Br + SiH4 and Br +(CH3)3SiH, although the uncertainty in D298 is too great to establish a firm trend in D298 with the degree

  Br [4p（2 P J）]与CH 3 SiH 3（1）和（CH 3）2 SiH 2（2）的反应动力学已使用快速光解/时间分辨原子共振光谱在整个温度下进行了测量。范围分别为350–550和390–550K。结果为k 1 =（4.0±0.5）×10 –10 exp（–19.7±0.5 kJ mol –1 / RT）和k 2 =（4.3±0.8）×10 –10 exp（–21.6±0.7 kJ mol – 1 / RT）以cm 3 s –1为单位，置信限为。±13％。假定逆反应的活化能在甲基硅烷和二甲基硅烷中分别产生388±5和392±5 kJ mol –1的Si-H键解离焓D 298。这些值和阿仑尼乌斯参数是BR +的SiH先前的结果之间的中间4和Br +（CH 3）3的SiH，尽管在不确定性d 298太大以建立牢固的趋势d 298与甲基化程度。硅烷和相应的甲硅烷基自由基通过从头开始的方法表征为最高MP4