1-Phenylethyl 4-phenylbut-3-enoate | 63158-20-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 1-Phenylethyl 4-phenylbut-3-enoate
• CAS: 63158-20-3
• 化学式: C₁₈H₁₈O₂
• 分子量: 266.3
• InChiKey: WQXUDNYWZUMKPS-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.2
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.17
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  4-苯基-3-丁烯酸 、 苏合香醇 、 N,N'-二环己基碳二亚胺 在 氯化钠 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 1.0h， 以whereby 1-phenylethoxycarbonylmethylstyrene was obtained as a transparent liquid (yield: 82%)的产率得到1-Phenylethyl 4-phenylbut-3-enoate
  参考文献：
  名称：

  RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME

  摘要：

  一种抗蚀组合物包括：（A）一种含有具有特定次级苯甲基结构的重复单元的树脂；和（B）一种能够在受到光化学或辐射照射时产生酸的化合物，以及使用该组合物的图案形成方法。

  公开号：

  US20080193878A1

文献信息

• RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
  申请人：MAKINO Masaomi

  公开号：US20080193878A1

  公开（公告）日：2008-08-14

  A resist composition includes: (A) a resin containing a repeating unit having a specific secondary benzyl structure; and (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic rays or radiation, and a pattern forming method using the composition.

  一种抗蚀组合物包括：（A）一种含有具有特定次级苯甲基结构的重复单元的树脂；和（B）一种能够在受到光化学或辐射照射时产生酸的化合物，以及使用该组合物的图案形成方法。