[Ni{iPr₂P(Se)NP(Se)iPr₂}₂] | 1020193-34-3

• 分子结构分类: 无机化合物 - 均质非金属化合物
• 英文名称: [Ni{iPr₂P(Se)NP(Se)iPr₂}₂]
• 英文别名: Ni((SeP(iPr)2)2N)2；Di(propan-2-yl)phosphinoselenoylimino-di(propan-2-yl)-selenido-lambda5-phosphane;nickel(2+)；di(propan-2-yl)phosphinoselenoylimino-di(propan-2-yl)-selenido-λ5-phosphane;nickel(2+)
• CAS: 1020193-34-3
• 化学式: C₂₄H₅₆N₂NiP₄Se₄
• 分子量: 871.147
• InChiKey: DIAIWHCZAXGLJK-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  9.84
• 重原子数：
  35
• 可旋转键数：
  8
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  24.7
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  [Ni{iPr₂P(Se)NP(Se)iPr₂}₂] 以 neat (no solvent, gas phase) 为溶剂， 生成 Ni_0.85Se
  参考文献：
  名称：

  Ligand influence on the formation of P/Se semiconductor materials from metal–organic complexes

  摘要：

  合成了配合物 [Ni{(SePiPr2)2N}2] (1)、[Ni(Se2PiPr2)2] (2) 和 [Co(Se2PiPr2)2] (4)，并确定了 (1) 和 (2) 的 X 射线单晶结构。通过化学气相沉积法，利用咪唑二硒磷酸镍(II) (1)、-钴(II) [Co{(SePiPr2)2N}2] (3)、二硒磷酸镍(II) (2)、-钴(II) (4) 和二硒氨基镍(II) [Ni(Se2CNEt2)2] (5) 以及 -钴(III) [Co(Se2CNEt2)3] (6) 前驱体沉积了镍硒化物、钴硒化物和钴磷化物的薄膜。

  DOI：

  10.1039/b802012d
• 作为产物：
  描述：

  (SeP(iPr)2)2NLi*TMEDA 、 nickel(II) bromide dimethoxyethane 以 四氢呋喃 为溶剂， 以80%的产率得到[Ni{iPr₂P(Se)NP(Se)iPr₂}₂]
  参考文献：
  名称：

  Ni[(EPⁱPr₂)₂N]₂ Complexes: Stereoisomers (E = Se) and Square-Planar Coordination (E = Te)

  摘要：

  The reaction of ((Pr2PE)-Pr-i)(2)NM center dot TMEDA (M = Li, E = Se; M = Na, E = Te) with NiBr2 center dot DME in THF affords Ni[((SePPr2)-Pr-i)(2)N](2) as either square-planar (green) or tetrahedral (red) stereoisomers, depending on the recrystallization solvent; the Te analogue is obtained as the square-planar complex Ni[(TeP(i)pr(2))(2)N](2).

  DOI：

  10.1021/ic800272v

文献信息

• Factors controlling material deposition in the CVD of nickel sulfides, selenides or phosphides from dichalcogenoimidodiphosphinato complexes: deposition, spectroscopic and computational studies
  作者：Arunkumar Panneerselvam、Ganga Periyasamy、Karthik Ramasamy、Mohammad Afzaal、Mohammad A. Malik、Paul O'Brien、Neil A. Burton、John Waters、Bart E. van Dongen

  DOI：10.1039/c002928a

  日期：——

  The series of nickel dichalcogenoimidodiphosphinates [NiiPr2P(X1)NP(X2)iPr2}2]: X1 = S, X2 = Se (1), X1 = X2 = S (2), and X1 = X2 = Se (3) have been successfully used as single-source precursors (SSPs) to deposit thin films of nickel sulfide, selenide or phosphide; the material deposited depended on both temperature and method used for the deposition. Aerosol-assisted (AA) chemical vapour deposition (CVD) and low-pressure (LP) CVD were used. The as-deposited films were characterised by X-ray diffraction (XRD), scanning electron microscopy (SEM), energy dispersive X-ray spectroscopy (EDX) and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). A variety of phases including: Ni2P, Ni0.85Se and NiS1.03 were deposited under different conditions. The mechanism of decomposition to the phosphide, selenide, or sulfide was studied by pyrolysis gas chromatography mass spectrometry (Py-GC-MS) and modelled by density functional theory (DFT).

  镍二硫代亚磷酰胺二膦酸盐（NiiPr2P(X1)NP(X2)iPr2}2）系列：X1 = S、X2 = SE（1）、X1 = X2 = S（2）和X1 = X2 = SE（3）已成功用作沉积硫化镍、硒化镍或磷化镍薄膜的单源前驱体（SSPs）；沉积的材料取决于沉积温度和沉积方法。使用了气溶胶辅助（AA）化学气相沉积（CVD）和低压（LP）CVD。沉积薄膜的表征方法包括X射线衍射（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）、能量色散X射线光谱（EDX）和X射线光电子能谱（XPS）。在不同的条件下沉积了多种相，包括：Ni2P、Ni0.85SE和NiS1.03。通过热解气相色谱质谱（Py-GC-MS）研究了磷化物、硒化物或硫化物的分解机理，并通过密度泛函理论（DFT）进行了建模。