3,3,3-Trifluoro-2-(heptafluoropropoxy)propanoic acid | 326495-77-6

• 分子结构分类: 有机化合物
• 英文名称: 3,3,3-Trifluoro-2-(heptafluoropropoxy)propanoic acid
• 英文别名: 3,3,3-trifluoro-2-(1,1,2,2,3,3,3-heptafluoropropoxy)propanoic acid
• CAS: 326495-77-6
• 化学式: C₆H₂F₁₀O₃
• 分子量: 312.064
• InChiKey: BLIMGOMLLSPDPB-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.4
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.83
• 拓扑面积：
  46.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  13

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-hydroxy-1,1-difluoroethanesulfonic acid triphenylsulfonium 、 3,3,3-Trifluoro-2-(heptafluoropropoxy)propanoic acid 在 N,N'-羰基二咪唑 作用下， 以 乙腈 为溶剂， 反应 8.0h， 生成
  参考文献：
  名称：

  塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

  摘要：

  这项技术旨在提供能够制造良好的CD均一性（CDU）图案的盐、酸发生剂和光刻胶组成物。解决方案涉及由式（I）表示的盐、酸发生剂和光刻胶组成物。在该式中，Q1和Q2分别表示氟原子或含有1-6个碳原子的全氟烷基。R1和R2分别表示氢原子、氟原子或含有1-6个碳原子的全氟烷基。z表示0到6的整数。X1表示*−CO−O−、*−O−CO−等。L1表示含有1-28个碳原子的二价氟化烃基，其中包含的−CH2−可以被替换为−O−或−CO−。Ri表示含有1-12个碳原子的氟化烃基。Z+表示有机阳离子。【选择图】无

  公开号：

  JP2020066628A

文献信息

• 化合物、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
  申请人：住友化学株式会社

  公开号：JP2020066627A

  公开（公告）日：2020-04-30

  【課題】良好なＣＤ均一性（ＣＤＵ）レジストパターンを製造できる化合物、該化合物を含有するレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物及びレジスト組成物。 ［式（Ｉ）中、 ｍ１は、０又は１を表す。 Ｌ１は、炭素数１〜８のフッ素化アルカンジイル基を表し、該フッ素化アルカンジイル基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよい。 Ｒ１は、炭素数１〜１２のフッ素化炭化水素基を表す。］【選択図】なし

  这个文本是关于一种能够制造良好CD均一性（CDU）图案的化合物以及含有该化合物的光刻胶组合物。【解决方案】包括式（I）表示的化合物和光刻胶组合物。在式（I）中，m1代表0或1。L1代表碳数为1〜8的氟化烷基，其中包含的-CH2-可以被替换为-O-或-CO-。R1代表碳数为1〜12的氟化烃基。【选择图】无。
• SHRINK MATERIAL AND PATTERN FORMING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP3032332A2

  公开（公告）日：2016-06-15

  A shrink material is provided comprising a specific polymer and a solvent containing an anti-vanishing solvent. A pattern is formed by applying a resist composition comprising a base resin and an acid generator onto a substrate to form a resist film, exposing, developing in an organic solvent developer to form a negative resist pattern, applying the shrink material onto the pattern, and removing the excessive shrink material with an organic solvent for thereby shrinking the size of holes and/or slits in the pattern.

  本发明提供了一种收缩材料，它由特定的聚合物和含有抗消失溶剂的溶剂组成。形成图案的方法是：将由基树脂和酸发生器组成的抗蚀剂组合物涂在基材上以形成抗蚀膜，曝光，在有机溶剂显影液中显影以形成阴性抗蚀图案，将收缩材料涂在图案上，然后用有机溶剂去除过量的收缩材料，从而缩小图案中孔和/或缝隙的尺寸。
• US9618850B2
  申请人：——

  公开号：US9618850B2

  公开（公告）日：2017-04-11
• US9632417B2
  申请人：——

  公开号：US9632417B2

  公开（公告）日：2017-04-25
• US9632415B2
  申请人：——

  公开号：US9632415B2

  公开（公告）日：2017-04-25