2-Sulfanylethyl phenylacetate | 59118-94-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2-Sulfanylethyl phenylacetate
• 英文别名: 2-sulfanylethyl 2-phenylacetate
• CAS: 59118-94-4
• 化学式: C₁₀H₁₂O₂S
• 分子量: 196.27
• InChiKey: YSMTXZNCEKGUEW-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.2
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.3
• 拓扑面积：
  27.3
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-Sulfanylethyl phenylacetate 在 N-氯代丁二酰亚胺 、 异丙醇 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 生成
  参考文献：
  名称：

  未活化的烷基亚磺酸作为烷基自由基源，通过电子供体-受体复合物合成 3,3-二烷基二氢吲哚-2-酮

  摘要：

  使用未活化的烷基亚磺酸作为烷基自由基源，开发了一种新颖且高度实用的可见光辅助合成方法，用于将一系列N-芳基丙烯酰胺烷基化/环化成相应的3,3-二烷基二氢吲哚-2-酮。这种方法不需要光敏剂或任何金属试剂，因为烷基亚磺酸盐和2-异氰基-1,1'-联苯（催化电子受体）之间形成电子供体-受体复合物，可以在可见光照射下制备以良好的收率获得所需的产品。温和性、克级合成能力、不需要使用有毒有机溶剂和过渡金属以及适合合成生物活性化合物（用作孕酮拮抗剂和抗抑郁药）是该过程的一些值得注意的特点。此外，与文献中报道的其他烷基供体（如N- （酰氧基）邻苯二甲酰亚胺和Katritzky盐）相比，烷基亚磺酸稳定、安全、易于处理且易于获得。

  DOI：

  10.1039/d4nj03602f

文献信息

• Stabilizers for halogen-containing polymers
  申请人：MORTON INTERNATIONAL, INC.

  公开号：EP0254392A2

  公开（公告）日：1988-01-27

  A stabilizing composition for halogen-containing polymers, comprising a diorganotin oxide compound such as dibutyl or dioctyl tin oxide, an ethylenically unsaturated dicarboxylic acid ester compound such as dibutyl or dioctyl maleate and a mercaptan-containing organic compound such as isooctyl mercaptopropionate.

  一种用于含卤聚合物的稳定组合物，包括二甘醇锡氧化物化合物（如二丁基或二 辛基氧化锡）、乙烯不饱和二羧酸酯化合物（如马来酸二丁酯或马来酸二辛 酯）和含硫醇的有机化合物（如巯基丙酸异辛酯）。
• Improved PVC foam compositions
  申请人：MORTON INTERNATIONAL, INC.

  公开号：EP0850987A1

  公开（公告）日：1998-07-01

  The density of rigid foamed articles made by the thermal decomposition of a blowing agent in a vinyl chloride polymer is reduced by the use of an organotin mercaptoalkylcarboxylate, alone, or in combination with an organotin halide or carboxylate which activate the blowing agent. Sulfides made from said organotin mercaptoalkylcarboxylate are also superior activators of the blowing agent.

  单独使用有机锡巯基烷基羧酸盐，或与有机锡卤化物或羧酸盐结合使用，可激活发泡剂，从而降低通过发泡剂在氯乙烯聚合物中的热分解制成的硬质发泡物品的密度。由上述有机锡巯基烷基羧酸酯制成的硫化物也是发泡剂的优质活化剂。
• Cephalosporins and pharmaceutical compositions containing them
  申请人：Takeda Chemical Industries, Ltd.

  公开号：EP0006011B1

  公开（公告）日：1983-04-06
• PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP3572878B1

  公开（公告）日：2020-12-30
• US3979359A
  申请人：——

  公开号：US3979359A

  公开（公告）日：1976-09-07