3,3',5,5'-tetraiodo-4,4'-diphenol | 76469-12-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 3,3',5,5'-tetraiodo-4,4'-diphenol
• 英文别名: 3,5,3',5'-tetraiodo-biphenyl-4,4'-diol；3.5.3'.5'-Tetrajod-4.4'-dihydroxy-biphenyl；3,5,3',5'-Tetrajod-biphenyl-4,4'-diol；4-(4-Hydroxy-3,5-diiodophenyl)-2,6-diiodophenol
• CAS: 76469-12-0
• 化学式: C₁₂H₆I₄O₂
• 分子量: 689.796
• InChiKey: RCMCPJIIFMDRTQ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  284 °C (decomp)
• 沸点：
  437.5±45.0 °C(Predicted)
• 密度：
  2.875±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.4
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  40.5
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  3,3',5,5'-tetraiodo-4,4'-diphenol 在 chromium(III) oxide 作用下， 以 乙酸乙酯 为溶剂， 以21%的产率得到3,3',5,5'-tetraiodo-4,4'-diphenoquinone
  参考文献：
  名称：

  Molecular complexes of 3,3?,5,5?-tetrahalo-4,4?-diphenoquinones. 1. synthesis and properties of 3,3?,5,5?-tetrahalo-4,4?-diphenoquinones

  摘要：

  DOI：

  10.1007/bf00951221
• 作为产物：
  描述：

  2,6-二碘-4-硝基苯酚 在 chromium(VI) oxide 、 氢氧化钾 、 sodium dithionite 、 硫酸 、 水 、 sodium carbonate 作用下， 生成 3,3',5,5'-tetraiodo-4,4'-diphenol
  参考文献：
  名称：

  The Oxidation of Substituted Phenols. The Effect of Iodine in the Ortho and Para Positions

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ja01284a027

文献信息

• Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, mask blank provided with actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, electronic device, and compound
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US10011576B2

  公开（公告）日：2018-07-03

  The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes a crosslinking agent having a polarity converting group and an alkali-soluble resin, in which the polarity converting group is a group capable of decomposing by the action of an alkaline aqueous solution to generate a carboxylic acid or sulfonic acid on the side having a crosslinking group.

  光敏或辐射敏感树脂组合物包括具有极性转换基团的交联剂和碱溶性树脂，其中极性转换基团是能够在碱性水溶液作用下分解的基团，在具有交联基团的一侧生成羧酸或磺酸。
• Active light sensitive or radiation sensitive resin composition, active light sensitive or radiation sensitive film, mask blank provided with active light sensitive or radiation sensitive film, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, electronic device and novel compound
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US10324374B2

  公开（公告）日：2019-06-18

  There is provided an active light sensitive or radiation sensitive resin composition which contains (A) an alkali soluble resin and (C) a cross-linking agent represented by the following General Formula (1-0).

  本发明提供了一种活性光敏或辐射敏感树脂组合物，它含有 (A) 碱溶性树脂和 (C) 由下式（1-0）表示的交联剂。
• The Oxidation of Sym-Triiodophenol¹
  作者：W. H. Hunter、Mary L. Morse

  DOI：10.1021/ja01336a036

  日期：1933.9
• US9896535B2
  申请人：——

  公开号：US9896535B2

  公开（公告）日：2018-02-20
• US9904167B2
  申请人：——

  公开号：US9904167B2

  公开（公告）日：2018-02-27