【課題】バンドギャップが大きく、電気的安定性、熱的安定性に優れ、電荷輸送性能に優れ、有機EL素子の正孔輸送層にも用いることができる新規化合物、及び塗布製膜による膜質が良く、製膜後に不溶化することができる材料の提供。【解決手段】下記一般式(1)に示される化合物。[X1〜X6はH,アルキル基、重合性官能基等;X1〜X6のうち少なくとも1以上が重合性官能基;nは2〜8の整数;RはH,アルキル基等;Z1及びZ2は置換基を有してもよい芳香族環式基、Z1及びZ2における芳香族環式基の置換基としては、直鎖若しくは環状のアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン基、アミノ基、ニトロ基、またはシアノ基]【効果】該化合物は、バンドギャップが大きく、電気的安定性、熱的安定性に優れ、電荷輸送性能に優れた、有機EL素子の正孔輸送層に用いることができる。【選択図】なし
题目:提供一种具有大带隙、电学稳定性、热稳定性优异以及电荷传输性能优异的新型化合物,可用于有机EL元件的正空穴传输层,以及提供一种涂覆制膜后可不溶化的材料。
解决方法:提供以下通式(1)所示的化合物。[X1~X6为H、烷基、重合性官能基等;X1~X6中至少有1个为重合性官能基;n为2~8的整数;R为H、烷基等;Z1和Z2为带有取代基的芳香族环式基,Z1和Z2中的芳香族环式基的取代基为直链或环状的烷基、烷氧基、卤素基、
氨基、硝基或
氰基]
效果:该化合物具有大带隙、电学稳定性、热稳定性优异以及电荷传输性能优异,可用于有机EL元件的正空穴传输层。