摘要:
IPrCH2 (1) 和 SIPrCH2 (2) (IPrCH2 = {N(2,6-iPr2C6H3)CH}2CCH2 和 SIPrCH2 = {N(2,6-iPr2C6H3)CH2}2CH2)与 HSiCl3 反应生成 IPrCH(SiHCl2) (3) 和 SIPrCH(SiHCl2) (4)。化合物 3 和 4 的分离率几乎达到了定量。有趣的是,用 1 处理硅烷基 IPr-SiCl2,也能得到 3,并观察到硅烷基插入到 C-H 键中。计算分析表明,硅烷基插入的能量障碍很高,因此质子化-质子化机理更有可能发生。