1-(4-hydroxy-3-iodo-5-methoxyphenyl)ethanol | 1256493-82-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 酚类
• 英文名称: 1-(4-hydroxy-3-iodo-5-methoxyphenyl)ethanol
• 英文别名: 4-(1-Hydroxyethyl)-2-iodo-6-methoxyphenol
• CAS: 1256493-82-9
• 化学式: C₉H₁₁IO₃
• 分子量: 294.089
• InChiKey: RNWDWZSJNWCQED-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.7
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.33
• 拓扑面积：
  49.7
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-(4-hydroxy-3-iodo-5-methoxyphenyl)ethanol 、 diethyl 2,3-diazabicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2,3-dicarboxylate 在 [Pd(SIPr)(η³-cin)Cl] 、 potassium carbonate 作用下， 以 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 反应 0.5h， 以91%的产率得到ethyl N-[(1R,3aR,8bS)-7-(1-hydroxyethyl)-5-methoxy-3a,8b-dihydro-1H-cyclopenta[b][1]benzofuran-1-yl]-N-(ethoxycarbonylamino)carbamate
  参考文献：
  名称：

  Pd-NHC Catalyzed Cyclopentannulation of Diazabicyclic Alkenes with ortho-aryl halides

  摘要：

  Pd-NHC catalyzed cyclopentannulat on of diazabicyclic alkenes with ortho- functionalized aryl halides is described. In all the reactions, a single diastereomer of the cyclopentannulated product is observed, and this reaction is very efficient under microwave irradiation.

  DOI：

  10.1021/ol102270r
• 作为产物：
  描述：

  香草乙酮 在 sodium tetrahydroborate 、 碘 、 异丙醇 作用下， 以 四氢呋喃 、 甲醇 、 水 为溶剂， 反应 16.0h， 生成 1-(4-hydroxy-3-iodo-5-methoxyphenyl)ethanol
  参考文献：
  名称：

  TW2022/41836

  摘要：

  公开号：

文献信息

• COMPOUND, RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20210389669A1

  公开（公告）日：2021-12-16

  Disclosed are a compound represented by formula (I), a resin and a resist composition: wherein R 1 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen, hydrogen or halogen atom, R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, R 4 represents a fluorine atom, an alkyl fluoride group having 1 to 6 carbon atoms or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and —CH 2 — included in the alkyl fluoride group and the alkyl group may be replaced by —O— or —CO—, R 5 represents a hydrogen atom, an alkylcarbonyl group having 2 to 6 carbon atoms or an acid-labile group, m2 represents an integer of 1 to 4, m4 represents an integer of 0 to 3, and m5 represents 1 or 2, in which 2≤m2+m4+m5≤5.

  揭示了一种由公式（I）表示的化合物，树脂和抗蚀组合物： 其中R1代表具有1至6个碳原子的烷基基团，其可以具有卤素，氢或卤素原子，R2和R3各自独立地表示氢原子或具有1至12个碳原子的碳氢基团，R4表示氟原子，具有1至6个碳原子的烷基氟化物基团或具有1至12个碳原子的烷基基团，且包括在烷基氟化物基团和烷基基团中的-CH2-可以被- O-或-CO-所取代，R5表示氢原子，具有2至6个碳原子的烷基羰基基团或酸敏感基团，m2表示1至4的整数，m4表示0至3的整数，m5表示1或2，在其中2≤m2+m4+m5≤5。
• SALT, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20220413383A1

  公开（公告）日：2022-12-29

  Disclosed are a salt represented by formula (I), an acid generator, and a resist composition comprising the same: wherein R 1 and R 2 each represent a hydroxy group, *—O—R 10 , *—O-L 10 -CO—O—R 10 ; L 10 represents an alkanediyl group; R 10 represents an acid-labile group; R 4 , R 5 , R 7 and R 8 each represent a halogen atom, a haloalkyl group or a hydrocarbon group; A 1 and A 2 each represent a hydrocarbon group, the hydrocarbon group may have a substituent, and —CH 2 — included in the hydrocarbon group may be replaced by —O—, —CO—, —S— or —SO 2 —; m1 represents an integer of 1 to 5, m2 and m8 represent an integer of 0 to 5, m4, m5 and m7 represent an integer of 0 to 4, 1≤m1+m7≤5, 0≤m2+m8≤5; and AI − represents an organic anion.
• [EN] COMPOUND, POLYMER, COMPOSITION, FILM-FORMING COMPOSITION, PATTERN FORMATION METHOD, METHOD FOR FORMING INSULATING FILMS, AND COMPOUND PRODUCTION METHOD<br/>[FR] COMPOSÉ, POLYMÈRE, COMPOSITION, COMPOSITION FILMOGÈNE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILMS ISOLANTS, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE COMPOSÉ<br/>[JA] 化合物、重合体、組成物、膜形成用組成物、パターンの形成方法、絶縁膜の形成方法及び化合物の製造方法
  申请人：[en]MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.;[ja]三菱瓦斯化学株式会社

  公开号：WO2022138670A1

  公开（公告）日：2022-06-30

  露光感度に優れるレジストが得られる、化合物、重合体、組成物、膜形成用組成物、パターン形成方法、絶縁膜の形成方法及び化合物の製造方法を提供する。　下記式（１）で表される化合物。 （式（１）中、ＲＡは、水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基であり、ＲＸは、ＯＲＢ又は水素原子であり、ＲＢは、置換もしくは非置換の炭素数１～３０のアルキル基であり、Ｐは、水酸基、アルコキシ基、エステル基、アセタール基、カルボキシアルコキシ基、炭酸エステル基、ニトロ基、アミノ基、カルボキシル基、チオール基、エーテル基、チオエーテル基、ホスフィン基、ホスフォン基、ウレタン基、ウレア基、アミド基、イミド基、又はリン酸基である。）