p-dimethylaminobenzoic acetic anhydride | 140176-21-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: p-dimethylaminobenzoic acetic anhydride
• 英文别名: Acetyl 4-(dimethylamino)benzoate
• CAS: 140176-21-2
• 化学式: C₁₁H₁₃NO₃
• 分子量: 207.229
• InChiKey: DKDBWQQGAQYHOG-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.9
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.27
• 拓扑面积：
  46.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  4-二甲氨基苯甲酸 、 乙酰氯 在 三乙胺 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 0.5h， 生成 p-dimethylaminobenzoic acetic anhydride
  参考文献：
  名称：

  羧肽酶 A 催化酯水解过程中酸酐中间体的拉曼光谱证据

  摘要：

  在 pH 7.5 下生长的羧肽酶 A 单晶已用发色底物、对二甲氨基苯甲酸和 L-β-苯基乳酸的酯溶液浸泡，pH=8。晶体中的酶催化酯转化为酸和醇产物。在此过程中，使用激光拉曼显微镜拍摄晶体内部的预共振增强拉曼光谱。除了底物和酸产物的拉曼谱带特征之外，在1700-1800 cm -1 的频率范围内观察到弱但可再现的谱带。该区域的条带是有机酸酐独有的，表明催化过程中酸酐中间体的积累。

  DOI：

  10.1021/ja00039a046

文献信息

• Electrophotographic elements having barrier layers of crosslinked polymers
  申请人：EASTMAN KODAK COMPANY (a New Jersey corporation)

  公开号：EP0129234A1

  公开（公告）日：1984-12-27

  An electrophotographic element comprising a conductive layer, a photoconductive layer and a barrier layer between the conductive layer and the photoconductive layer characterized in that the barrier layer comprises a polymerized crosslinked monomer having an aliphatic or aromatic group comprising at least one a,B-ethylenically unsaturated carbonyl-containing substituent is disclosed.

  本发明公开了一种电致发光元件，包括导电层、光电导层和位于导电层与光电导层之间的阻挡层，其特征在于阻挡层包括聚合交联单体，该单体具有包含至少一个 a,B-乙烯基不饱和含羰基取代基的脂肪族或芳香族基团。
• Laminate for the formation of beam leads for IC chip bonding
  申请人：EASTMAN KODAK COMPANY (a New Jersey corporation)

  公开号：EP0300226A2

  公开（公告）日：1989-01-25

  A laminate, adapted for manufacturing frames of metal beam leads that are bonded to integrated circuit chips, comprises a) a flexible metal strip, b) a layer of a first resist adhered to one surface of the metal strip, and c) a layer of a second resist adhered to the opposite surface of the metal strip, the second resist being a negative-working resist comprising (1) a polymeric binder, (2) a photopolymerizable monomer mixture, and (3) a photoinitiator composition. The negative-working resist exhibits excellent flexibility and adhesion to the metal and superior performance during high temperature processing, whereby it serves effectively as a support for the beam leads.

  一种层压板，适用于制造与集成电路芯片粘接的金属梁引线框架，包括 a) 柔性金属带 b) 附着在金属带一个表面上的第一抗蚀层，以及 c) 一层第二抗蚀层，粘附在金属带的相反表面上、 第二光刻胶是一种负向工作光刻胶，包括 (1) 聚合物粘合剂 (2) 可光聚合的单体混合物，和 (3) 光引发剂组合物。 阴刻抗蚀层具有极佳的柔韧性和与金属的附着力，在高温加工过程中性能优越，可有效地作为束引线的支撑。
• Co-initiator compositions for photopolymerization containing 3-acyl-substituted coumarins, photopolymerizable composition and photographic element
  申请人：EASTMAN KODAK COMPANY (a New Jersey corporation)

  公开号：EP0022188B1

  公开（公告）日：1984-10-03
• US4289844A
  申请人：——

  公开号：US4289844A

  公开（公告）日：1981-09-15
• US4366228A
  申请人：——

  公开号：US4366228A

  公开（公告）日：1982-12-28