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N-methyl(benzenesulfonyl)(methanesulfonyl)amine | 183744-36-7

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
N-methyl(benzenesulfonyl)(methanesulfonyl)amine
英文别名
N-(Methanesulfonyl)-N-methylbenzenesulfonamide;N-methyl-N-methylsulfonylbenzenesulfonamide
N-methyl(benzenesulfonyl)(methanesulfonyl)amine化学式
CAS
183744-36-7
化学式
C8H11NO4S2
mdl
——
分子量
249.312
InChiKey
QEVDAGLEBVZVRG-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    0.9
  • 重原子数:
    15
  • 可旋转键数:
    3
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.25
  • 拓扑面积:
    88.3
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    5

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为产物:
    参考文献:
    名称:
    Polysulfonylamine, LXXVI [1] Zwei supramolekulare Isomere im gleichen Kristall: Darstellung und Struktur des monomeren 18-Krone-6-Komplexes (CH2CH2O)6·2 MeN(SO2Me)(SO2Ph) / Polysulfonylamines, LXXVI [1] Occurrence of Two Supramolecular Isomers in One Crystal: Synthesis and Structure of the Monomeric 18-Crown-6 Complex (CH2CH2O)6 • 2 MeN(SO2Me) (SO2Ph)
    摘要:
    通过在甲醇中共结晶其分子组分得到的标题配合物,通过低温X射线衍射进行了表征。晶体结构(三斜晶系,空间群P1̄,Z = 2)由两个单体和晶体学中心对称的式单位A和B组成,可归类为超分子立体和/或连接异构体。在两个单元中,受体环采用了常见的D3d伪对称性,并且对称相关的底物分子位于聚醚环的上方和下方。超分子的异构性来自于其底物组分明显不同的构象。在B中,甲基基团显示出反式定向(C-N-S-C的扭转角:135.5°),N-甲基二磺酰胺仅通过三个S-C-H···O相互作用连接到一组三个交替的冠醚氧原子。在异构体A中,C-N-S-Cmethyl序列为顺式(扭转角:83.1°),底物通过三个S-C-H···O键和一个额外的N-C-H···O相互作用连接到冠醚中。七个独立氢键的H···O距离和C-H···O角度分别位于230-260 pm和140-180°的区间内。无法分离包含MeN(SO2Ph)2和18-冠-6的超分子,而二元复合物(CH2CH2O)6•2 MeN(SO2F)2可以通过组分的共结晶轻松获得。后者复合物的N(SO2F)2部分存在严重的无序性,其结构无法得到令人满意的精细。
    DOI:
    10.1515/znb-1996-0916
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文献信息

  • COMPOSITION, RESIST FILM, PATTERN FORMING METHOD, AND INKJET RECORDING METHOD
    申请人:TSUCHIMURA Tomotaka
    公开号:US20110102528A1
    公开(公告)日:2011-05-05
    An embodiment of the composition contains any of compounds of the formula A-LG in which A represents any of residues of general formula (A-1) below and LG represents any of groups that are cleaved to generate acids of the formula A-H when acted on by an acid. The composition further contains at least one of a compound that generates an acid when exposed to actinic rays or radiation and a compound that generates an acid when heated.
  • US8808961B2
    申请人:——
    公开号:US8808961B2
    公开(公告)日:2014-08-19
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