1,8-diazabicyclo[5.4.0]undec-7-enium 2-(3-benzoylphenyl)propanoate | 1198425-21-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 1,8-diazabicyclo[5.4.0]undec-7-enium 2-(3-benzoylphenyl)propanoate
• 英文别名: 1,8-diazabicyclo[5.4.0]undec-7-ene 2-(3-benzoylphenyl)propionate；2-(3-Benzoylphenyl)propanoic acid;2,3,4,6,7,8,9,10-octahydropyrimido[1,2-a]azepine
• CAS: 1198425-21-6
• 化学式: C₉H₁₆N₂*C₁₆H₁₄O₃
• 分子量: 406.525
• InChiKey: FZTGYFVYKYGGHJ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.02
• 重原子数：
  30
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.4
• 拓扑面积：
  74
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1,8-diazabicyclo[5.4.0]undec-7-enium 2-(3-benzoylphenyl)propanoate 以 甲醇 为溶剂， 生成 3,4,5,6,7,8,9,10-octahydro-2H-pyrimido[1,2-a]azepin-5-ium;2-(9-oxoxanthen-2-yl)acetate
  参考文献：
  名称：

  Application to Photoreactive Materials of Photochemical Generation of Superbases with High Efficiency Based on Photodecarboxylation Reactions

  摘要：

  DOI：

  10.1021/cm4022485
• 作为产物：
  描述：

  酮基布洛芬 、 1,8-二氮杂双环[5.4.0]十一碳-7-烯 以 乙醚 为溶剂， 反应 1.0h， 以75%的产率得到1,8-diazabicyclo[5.4.0]undec-7-enium 2-(3-benzoylphenyl)propanoate
  参考文献：
  名称：

  光致质子转移聚合：软光刻应用的实用合成工具

  摘要：

  通过硫醇-环氧树脂“点击”反应进行的质子转移光聚合被证明是一种用于制造微米级和纳米级聚合物图案的通用新方法。在这种方法中，胍碱、二氮杂双环十一碳烯 (DBU) 与苯甲酰苯基丙酸 (酮洛芬) 的络合生成光不稳定盐。在 365 nm 波长的照射下，盐发生光脱羧反应以释放 DBU 作为碱。然后碱催化的开环反应产生交联的聚（β-羟基硫醚）模式。这些图案的表面化学可以通过硫醚键的烷基化来改变。例如，与溴乙酸的反应产生迄今为止未知的基于锍/羧酸盐的两性离子基序，赋予微图案抗生物污损能力。

  DOI：

  10.1021/jacs.9b11958
• 作为试剂：
  描述：

  (甲氧基甲基)环氧乙烷 、 四(3-巯基丙酸)季戊四醇酯 在 1,8-diazabicyclo[5.4.0]undec-7-enium 2-(3-benzoylphenyl)propanoate 作用下， 生成
  参考文献：
  名称：

  光致质子转移聚合：软光刻应用的实用合成工具

  摘要：

  通过硫醇-环氧树脂“点击”反应进行的质子转移光聚合被证明是一种用于制造微米级和纳米级聚合物图案的通用新方法。在这种方法中，胍碱、二氮杂双环十一碳烯 (DBU) 与苯甲酰苯基丙酸 (酮洛芬) 的络合生成光不稳定盐。在 365 nm 波长的照射下，盐发生光脱羧反应以释放 DBU 作为碱。然后碱催化的开环反应产生交联的聚（β-羟基硫醚）模式。这些图案的表面化学可以通过硫醚键的烷基化来改变。例如，与溴乙酸的反应产生迄今为止未知的基于锍/羧酸盐的两性离子基序，赋予微图案抗生物污损能力。

  DOI：

  10.1021/jacs.9b11958

文献信息

• PHOTOCURABLE COMPOSITION
  申请人：Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd.

  公开号：EP3725813A1

  公开（公告）日：2020-10-21

  Provided is a photocurable composition including a component (A) which is an acrylic ester compound containing one or more acryloyl groups in one molecule; a component (B) which is an acrylic ester compound containing one or more acryloyl groups and one or more epoxy groups in one molecule; a component (C) which is a compound containing two or more thiol groups in one molecule; a component (D) which is a photoradical generator; and a component (E) which is a photobase generator, in which a ratio between a total mass of the component (A) and the component (B) and a mass of the component (C) is in a range of 67.8 : 32.2 to 88.0 : 12.0, inclusive.

  所提供的光固化组合物包括 一种组分（A），它是一种丙烯酸酯化合物，在一个分子中含有一个或多个丙烯酰基； 一种组分（B），它是一种丙烯酸酯化合物，在一个分子中含有一个或多个丙烯酰基和一个或多个环氧基； 组分（C）是一种在一个分子中含有两个或两个以上硫醇基团的化合物； 一种成分（D），它是一种光引发剂；以及 作为光基发生器的组分（E）、 其中，组分（A）和组分（B）的总质量与组分（C）的质量之比范围为 67.8 : 32.2 至 88.0 : 12.0（含）。
• Photocurable composition
  申请人：Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd.

  公开号：US11053328B2

  公开（公告）日：2021-07-06

  Provided is a photocurable composition including a component (A) which is an acrylic ester compound containing one or more acryloyl groups in one molecule; a component (B) which is an acrylic ester compound containing one or more acryloyl groups and one or more epoxy groups in one molecule; a component (C) which is a compound containing two or more thiol groups in one molecule; a component (D) which is a photoradical generator; and a component (E) which is a photobase generator, in which a ratio between a total mass of the component (A) and the component (B) and a mass of the component (C) is in a range of 67.8:32.2 to 88.0:12.0, inclusive.

  所提供的光固化组合物包括 一种组分（A），它是一种丙烯酸酯化合物，在一个分子中含有一个或多个丙烯酰基； 一种组分（B），它是一种丙烯酸酯化合物，在一个分子中含有一个或多个丙烯酰基和一个或多个环氧基； 组分（C）是一种在一个分子中含有两个或两个以上硫醇基团的化合物； 一种成分（D），它是一种光引发剂；以及 作为光基发生器的组分（E）、 其中，组分（A）和组分（B）的总质量与组分（C）的质量之比范围为 67.8:32.2 至 88.0:12.0（含）。
• Mechanism‐Guided Design of Chain‐Growth Click Polymerization Based on a Thiol‐Michael Reaction
  作者：Suqiu Jiang、Hanchu Huang

  DOI：10.1002/anie.202217895

  日期：2023.3.20

  AbstractThe development of chain‐growth click polymerization is challenging yet desirable in modern polymer chemistry. In this work, we reported a novel chain‐growth click polymerization based on the thiol‐Michael reaction. This polymerization could be performed efficiently under ambient conditions and spatiotemporally regulated by ultraviolet light, allowing the synthesis of sulfur‐containing polymers in excellent yields and high molecular weights. Density functional theory calculations indicated that the thiolate addition to the Michael acceptor is the rate‐determining step, and introducing the phenyl group could facilitate the chain‐growth process. This polymerization is a new type of chain‐growth click polymerization, which will provide a unique approach to creating functional polymers.
• LOW TEMPERATURE CURE PHOTOIMAGEABLE DIELECTRIC COMPOSITIONS AND METHODS OF THEIR USE
  申请人：Nawrocki Daniel J.

  公开号：US20220146936A1

  公开（公告）日：2022-05-12

  Disclosed and claimed herein are photoimageable dielectric compositions for dielectric passivation layers, dielectric protection layers as well as dielectric redistribution layers for use in the manufacture of semiconductors, semiconductor packages and circuit board constructions. More specifically it relates to photoimageable polymers containing vinyl groups capable of being crosslinked during processing and post cured at lower temperatures and shorter times than conventional dielectric materials. The processed compositions are characterized by low dielectric constants and low dissipation factors as well as low moisture uptake, chemical and thermal stability, flexibility and excellent HAST (Highly Accelerated Stress Test) and TCT (Thermal Cycling Test) results. The invention also relates to low dk/df dielectric compositions that are not photoimageable