4-叠氮基-N-(4-叠氮基苯基)苯胺 | 7300-26-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: 4-叠氮基-N-(4-叠氮基苯基)苯胺
• 英文名称: Benzenamine, 4-azido-N-(4-azidophenyl)-
• 英文别名: 4-azido-N-(4-azidophenyl)aniline
• CAS: 7300-26-7
• 化学式: C12H9N7
• 分子量: 251.25
• InChiKey: MLFNCASVZNXPCI-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.3
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  40.8
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  5

文献信息

• Strahlungsempfindliches Beschichtungsmittel und seine Verwendung
  申请人：CIBA-GEIGY AG

  公开号：EP0092524A2

  公开（公告）日：1983-10-26

  Polyimide, die aliphatische Gruppen enthalten, sind mit chromophoren aromatischen Polyaziden strahlungsvernetzbar. Lösungen in organischen Lösungsmitteln können als strahlungsempfindliche Beschichtungsmittel zur Herstellung von Isolier- und Schutzlacken und als Photoresists mit hoher thermischer, mechanischer und chemischer Beständigkeit verwendet werden.

  含有脂肪族基团的聚酰亚胺可与发色芳香族聚氮化物进行辐射交联。有机溶剂中的溶液可用作辐射敏感涂层剂，用于生产绝缘和保护涂层，也可用作具有高耐热性、机械强度和耐化学性的光致抗蚀剂。
• Strahlungsempfindliches Beschichtungsmittel und dessen Verwendung
  申请人：CIBA-GEIGY AG

  公开号：EP0141781A2

  公开（公告）日：1985-05-15

  Polyimide aus aromatischen Tetracarbonsäurederivaten und aromatischen Diaminen, bei denen beide ortho-Stellungen zu einem an eine Imidgruppe des Polymeren gebundenen Phenylenrest durch Alkylgruppen substituiert sind, können zusammen mit organischen chromophoren Polyaziden durch Bestrahlung vernetzt werden. Lösungen der genannten Polyimide und Polyazide in organischen Lösungsmitteln können als strahlungsempfindliche Beschichtungsmittel z.B. zur Herstellung von lsolier- und Schutzlacken und insbesondere zur Herstellung gedruckter Schaltungen und integrierter Schaltkreise verwendet werden.

  芳香族四羧酸衍生物的聚酰亚胺和芳香族二胺，其中与聚合物的酰亚胺基键合的苯基残基的两个正交位均被烷基取代，可通过辐照与有机发色性多氮化物交联在一起。 上述聚酰亚胺和多氮化物在有机溶剂中的溶液可用作辐射敏感涂层剂，例如用于生产绝缘漆和保护漆，特别是用于生产印刷电路和集成电路。
• Photosensitive Polymer
  申请人：Chisso Corporation

  公开号：EP0337698A2

  公开（公告）日：1989-10-18

  A photosensitive polymer has an inherent viscosity of 0.1 to 5 dl/g and contains repeating units of the formula: in which R¹ is a trivalent or tetravalent carbocyclic aromatic group or hetrocyclic group; R² is an aliphatic group having at least 2 carbon atoms, an alicyclic group, an aromatic aliphatic group, a carbocyclic aromatic group, a heterocyclic or a polysiloxane group; R³ is a monovalent organic group having a photosensitive unsaturated group; R⁴ is a monovalent organic group; m is 1 or 2; n is 0 or 1; and the sum of m and n is 1 or 2. The polymer may be prepared by reacting a poly­(amide)isoimide with a secondary amine containing a photosensitive unsaturated group. A photosensitive polymer composition comprises the polymer, a photo­polymerization initiator, a sensitizer, a diazide compound, a compound having a carbon-carbon double bond and a solvent. A method for forming a patterned poly(amide)imide film comprises applying the composition to a substrate, prebaking it, irradiating it through a patterned mask, developing, drying and postbaking it at a temperature of 200 to 500°C.

  一种光敏聚合物的固有粘度为 0.1 至 5 dl/g，含有式中的重复单元： 其中 R¹ 是三价或四价碳环芳香基团或七环基团；R² 是至少有 2 个碳原子的脂族基团、脂环基团、芳香脂族基团、碳环芳香基团、杂环基团或聚硅氧烷基团；R³ 是具有光敏不饱和基团的一价有机基团；R⁴ 是一价有机基团；m 是 1 或 2；n 是 0 或 1；m 与 n 之和是 1 或 2。 聚合物可通过聚（酰胺）异亚胺与含有光敏不饱和基团的仲胺反应制备。光敏聚合物组合物由聚合物、光聚合引发剂、敏化剂、重氮化物、具有碳碳双键的化合物和溶剂组成。形成图案化聚（酰胺）酰亚胺薄膜的方法包括将组合物涂在基底上，预烘烤，通过图案化掩膜照射，显影，干燥，在 200 至 500°C 的温度下进行后烘烤。
• Process for the preparation of photosensitive polymers
  申请人：Chisso Corporation

  公开号：EP0341028A2

  公开（公告）日：1989-11-08

  A process for the preparation of a photosensitive poly(amide)imide precursor containing repeating units of the formulae: (in which R1 is a trivalent or tetravalent carbocyclic aromatic group or heterocyclic group; R2 is an aliphatic group having at least 2 carbon atoms, an alicyclic group, an aromatic aliphatic group, a carbocyclic aromatic group, a heterocyclic group or a polysiloxane group; R3 is a monovalent organic group having a photosensitive unsaturated group; m is 1 or 2; n is 0 or 1; and the sum of m and n is 1 or 2); which comprises reacting at a temperature of from 0 to 100°C, a poly(amide) isoimide containing repeating units of the formulae: and/or (in which R1 and R2 have the meanings defined above). with an amine of the formula: R3 - NH2 (III) (in which R3 has the meaning defined above).

  一种制备光敏聚（酰胺）酰亚胺前体的工艺，该前体含有式中的重复单元： (其中 R1 是三价或四价碳环芳香基团或杂环基团；R2 是至少有 2 个碳原子的脂肪族基团、脂环族基团、芳香脂肪族基团、碳环芳香基团、杂环基团或聚硅氧烷基团；R3 是具有光敏不饱和基团的单价有机基团；m 是 1 或 2；n 是 0 或 1；m 和 n 之和是 1 或 2）；其中包括在 0 至 100°C 的温度下，使含有式中重复单元的聚（酰胺）异亚胺反应： 和/或 (其中 R1 和 R2 的含义与上式相同)：R3-NH2(III)（其中 R3 的含义如上）。
• Process for preparing photosensitive heat-resistant polymer
  申请人：Chisso Corporation

  公开号：EP0379377A2

  公开（公告）日：1990-07-25

  A process for preparing a photosensitive heat-resistant polymer containing repeating units of the formula: in which R¹ is tetravelent carbocyclic aromatic group or heterocyclic group; R² is an aliphatic group having at least 2 carbon atoms, an alicyclic group, an or aliphatic group, a carbocyclic aromatic group, a heterocyclic group or a polysiloxane group; R³ is a monovalent organic group having a photosensitive unsaturated group; and D is an oxygen or =N-R³) which process comprises reacting at a temperature of 0 to 100°C in the presence of a solvent, a photosensitive group-containing isoimide of the formula: in which R¹ and R² have the meanings defined above) with a diamine of the formula: H₂R²-NH₂      (II) (in which R² has the meaning defined above).

  一种制备含有式中重复单元的光敏耐热聚合物的工艺： 其中R¹是四价碳环芳香基团或杂环基团；R²是至少有2个碳原子的脂肪族基团、脂环族基团、或脂肪族基团、碳环芳香基团、杂环基团或聚硅氧烷基团；R³ 是具有光敏不饱和基团的一价有机基团；D 是氧或 =N-R³)，该工艺包括在溶剂存在下，在 0 至 100°C 的温度下与式中的含光敏基团的异亚胺反应： 其中 R¹ 和 R² 的含义如上）与式中的二胺反应： H₂R²-NH₂ (II) (其中 R² 的含义如上）。