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[Ni((i)Pr2P(S)NP(S)(i)Pr2)2] | 175698-90-5

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
[Ni((i)Pr2P(S)NP(S)(i)Pr2)2]
英文别名
Ni[iPr2P(S)NP(S)iPr2]2
[Ni((i)Pr2P(S)NP(S)(i)Pr2)2]化学式
CAS
175698-90-5
化学式
C24H56N2NiP4S4
mdl
——
分子量
683.571
InChiKey
OWXYEHBTCLXPKH-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    11.56
  • 重原子数:
    35.0
  • 可旋转键数:
    8.0
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    1.0
  • 拓扑面积:
    28.2
  • 氢给体数:
    0.0
  • 氢受体数:
    0.0

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    [Ni((i)Pr2P(S)NP(S)(i)Pr2)2] 以 neat (no solvent, gas phase) 为溶剂, 生成 nickel phosphide
    参考文献:
    名称:
    Factors controlling material deposition in the CVD of nickel sulfides, selenides or phosphides from dichalcogenoimidodiphosphinato complexes: deposition, spectroscopic and computational studies
    摘要:
    镍二硫代亚磷酰胺二膦酸盐(Ni{iPr2P(X1)NP(X2)iPr2}2)系列:X1 = S、X2 = Se(1)、X1 = X2 = S(2)和X1 = X2 = Se(3)已成功用作沉积硫化镍、硒化镍或磷化镍薄膜的单源前驱体(SSPs);沉积的材料取决于沉积温度和沉积方法。使用了气溶胶辅助(AA)化学气相沉积(CVD)和低压(LP)CVD。沉积薄膜的表征方法包括X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、能量色散X射线光谱(EDX)和X射线光电子能谱(XPS)。在不同的条件下沉积了多种相,包括:Ni2P、Ni0.85Se和NiS1.03。通过热解气相色谱质谱(Py-GC-MS)研究了磷化物、硒化物或硫化物的分解机理,并通过密度泛函理论(DFT)进行了建模。
    DOI:
    10.1039/c002928a
  • 作为产物:
    描述:
    basic nickel carbonate 、 膦基硫杂酰胺,N-[二(1-甲基乙基)硫膦基]-P,P-二(1-甲基乙基)-二氯甲烷 为溶剂, 以83%的产率得到[Ni((i)Pr2P(S)NP(S)(i)Pr2)2]
    参考文献:
    名称:
    (i)()Pr(2)P(S)NHP(S)(i)()Pr(2)和均一[[i]()Pr(2)P(S)NP的制备和单晶表征(S)(i)()Pr(2)](-)锌,镉和镍的配合物。
    摘要:
    DOI:
    10.1021/ic951333d
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